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태양전지 및 이의 제조방법

  • 기술번호 : KST2015053198
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요약 본 발명은 태양전지 및 이의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 태양전지 제조방법은, 기판의 일면에 요철을 형성하는 단계, 요철이 형성된 상기 기판의 일면상에 에미터층을 형성하는 단계, 에미터층 상에 반사방지막을 형성하는 단계 및 반사방지막을 관통하여 에미터층과 접속하는 전면전극을 형성하는 단계를 포함하고, 요철은 알카리 수용액에 유기용제를 혼합한 에칭 용액에 기판을 침지하여 형성할 수 있다. 이에 의해, 실리콘 반도체 기판에 균일하고 미세한 형상의 요철을 형성할 수 있어, 에미터층이 균일한 도핑 농도를 가지게 됨에 따라 P-N접합의 균일도가 향상되어 태양전지의 효율이 증가할 수 있다.
Int. CL H01L 31/0236 (2014.01) H01L 31/18 (2014.01) H01L 31/04 (2014.01)
CPC H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01)
출원번호/일자 1020110006478 (2011.01.21)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0085074 (2012.07.31) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 취하
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 12

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정주화 대한민국 경상남도 창원시 성산구
2 신명준 대한민국 경상남도 창원시 성산구
3 이만 대한민국 경상남도 창원시 성산구
4 이성은 대한민국 경상남도 창원시 성산구
5 양영성 대한민국 경상남도 창원시 성산구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박병창 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 *, 동주빌딩 *층 팍스국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.01.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0052801-80
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판의 일면에 요철을 형성하는 단계;상기 요철이 형성된 상기 기판의 일면상에 에미터층을 형성하는 단계;상기 에미터층 상에 반사방지막을 형성하는 단계; 및상기 반사방지막을 관통하여 상기 에미터층과 접속하는 전면전극을 형성하는 단계;를 포함하고, 상기 요철은 알카리 수용액에 유기용제를 혼합한 에칭 용액에 상기 기판을 침지하여 형성하는 태양전지 제조방법
2 2
제1항에 있어서,상기 알카리 수용액은 물과 KOH를 혼합한 태양전지 제조방법
3 3
제1항에 있어서,상기 유기용제는 NMP(N-Methyl-2-Pyrrolidone)인 태양전지 제조방법
4 4
제2항에 있어서,상기 KOH와 상기 유기용제의 부피비는 1:0
5 5
제1항에 있어서,상기 요철의 높이는 10 내지 15㎛로 형성되는 태양전지 제조방법
6 6
제1항에 있어서,상기 요철의 크기는 1 내지 5㎛로 형성되는 태양전지 제조방법
7 7
제1항에 있어서,상기 전면전극은 상기 반사방지막 상에 전면전극 페이스트를 도포하고 열처리하여 형성하는 태양전지 제조방법
8 8
제7항에 있어서,상기 열처리시 상기 전면전극은 상기 반사방지막을 관통하는 태양전지 제조방법
9 9
제1항에 있어서,상기 기판의 후면에 후면전극을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지 제조방법
10 10
제9항에 있어서,상기 기판과 상기 후면전극 사이에 후면전계층이 형성되는 태양전지 제조방법
11 11
요철이 형성된 실리콘 반도체 기판;상기 요철이 형성된 상기 기판의 일면 상의 에미터층;상기 에미터층 상의 반사방지막; 및상기 반사방지막을 관통하여 상기 에미터층과 접속하는 전면전극;을 포함하고,상기 요철의 크기는 1 내지 5㎛이며, 상기 요철의 높이는 10 내지 15㎛인 태양전지
12 12
제11항에 있어서,상기 기판의 후면에 후면 전극과, 상기 기판과 상기 후면 전극 사이의 후면 전계층을 포함하는 태양전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.