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적어도 하나의 기판; 및상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴들로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층을 포함하며,상기 채널 영역과 비채널 영역은 선폭이 10 내지 100㎛인 더미 패턴 형성용 라인에 의해 단선되는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 더미 패턴들은 더미 패턴 상호 간에 전기적으로 연결되지 않도록 분리된 형태로 형성되는 터치 패널
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제1항에 있어서,상기 전도성층은 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈 및, 알루미늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속; 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide) 및 산화아연 (Zinc Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 산화물; 금, 은 또는 구리로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 도전성 고분자; 또는 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상을 포함하는 터치 패널
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일면에 전도성층이 형성된 기판을 마련하는 단계; 및상기 전도성층에 선폭이 10 내지 100㎛인 더미 패턴 형성용 라인을 식각하여 채널 영역 및 비채널 영역을 형성하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 더미 패턴 형성용 라인은 레이저로 식각되는 터치 패널의 제조 방법
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제5항에 있어서,상기 일면에 전도성층이 형성된 기판을 마련하는 단계는, 기판 상에 전도성 재료들을 증착 또는 습식 코팅하는 단계를 포함하는 터치 패널의 제조 방법
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제8항에 있어서,상기 전도성 재료는 금, 은, 백금, 구리, 주석, 니켈 및, 알루미늄으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속; 산화티탄 (Titanium Dioxide), 산화카드뮴 (Cadmium Oxide), 주석을 함유하는 산화인듐 (ITO : Indium Tin Oxide), 안티몬을 함유하는 산화주석 (ATO : Antimony Tin Oxide), 불소를 함유하는 산화주석 (FTO : Florinated Tine Oxide) 및 산화아연 (Zinc Oxide)로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 산화물; 금, 은 또는 구리로 형성된 금속 나노 와이어; 폴리스티렌술포네이트(Poly(styrenesulfonate))를 포함하는 폴리티오펜(Polythiophene)계 및 폴리셀레늄 (Polyselenium)계 전도성 고분자, 폴리아닐린(Polyanilin)계 고분자로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 도전성 고분자; 또는 탄소 나노튜브 및 그라핀으로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상인 터치 패널의 제조 방법
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청구항 1, 3 및 4 중 어느 하나의 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치
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화상을 표시하기 위한 표시 장치; 및상기 표시 장치의 일면 상에 부착되며, 적어도 하나의 기판 및 상기 기판의 일면에 형성되며, 전기가 흐르는 채널 영역 및 전기가 흐르지 않는 더미 패턴으로 형성되는 비채널 영역을 포함하는 전도성 층을 포함하고, 상기 채널 영역과 비채널 영역은 선폭이 10 내지 100㎛인 더미 패턴 형성용 라인에 의해 단선되는 터치 패널을 포함하는 디스플레이 장치
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제11항에 있어서,상기 표시 장치는 LCD 패널, PDP 패널, LED 패널, OLED 패널, 전자종이(e-paper) 및 플레서블 디스플레이(Flexible display)인 디스플레이 장치
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