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고분자 입자의 제조장치 및 제조방법

  • 기술번호 : KST2015053738
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고분자 용액이 공급되는 제1 유입 스트림; 반용매가 공급되는 제2 유입 스트림; 및 형성된 고분자 입자를 배출하는 유출 스트림이 형성된 혼합장치를 포함하는 고분자 입자의 제조장치 및 제조방법에 관한 것으로, 균일한 나노 사이즈의 고분자 입자를 연속적으로 제조할 수 있다.
Int. CL B01J 19/18 (2006.01) B01F 5/06 (2006.01) C08J 3/12 (2006.01)
CPC B01J 19/18(2013.01) B01J 19/18(2013.01)
출원번호/일자 1020110020514 (2011.03.08)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1544239-0000 (2015.08.06)
공개번호/일자 10-2012-0102385 (2012.09.18) 문서열기
공고번호/일자 (20150813) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.01.22)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최재훈 대한민국 대전광역시 유성구
2 송광호 대한민국 경기도 성남시 분당구
3 정유진 대한민국 서울특별시 노원구
4 박상훈 대한민국 서울특별시 관악구
5 엄기원 대한민국 서울특별시 송파구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.03.08 수리 (Accepted) 1-1-2011-0167852-61
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.01.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-0059877-15
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.02.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0092740-70
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.04.07 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0329638-66
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.04.07 수리 (Accepted) 1-1-2014-0329637-10
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.08.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0565387-16
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.10.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-0999436-21
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.10.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0999438-12
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2015.01.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0053829-10
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2015-0280030-70
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.03.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0280026-97
13 등록결정서
Decision to grant
2015.05.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0320159-24
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
혼합장치와 연결되어 고분자 용액을 공급하는 반응기;혼합장치와 연결되어 반용매를 공급하는 반용매 공급장치;공급된 고분자 용액 및 반용매를 혼합하여 고분자 입자를 형성하는 혼합장치;반응기에서 혼합장치로 고분자 용액이 공급되는 제1 유입 스트림; 공급장치에서 혼합장치로 반용매가 공급되는 제2 유입 스트림; 및 형성된 고분자 입자를 혼합장치에서 배출하는 유출 스트림를 포함하며,하기 수학식 1의 관계를 만족하고,제조된 고분자 입자의 변이계수가 35 이하인 폴리에틸렌 고분자 입자의 제조장치:[수학식 1]Ta-Tb≥100(℃)
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,혼합 장치는 스태틱 믹서인 고분자 입자의 제조장치
4 4
삭제
5 5
삭제
6 6
제 1 항에 있어서,고분자 용액이 공급되는 제1 유입 스트림을 가열하는 히팅장치를 더 포함하는 고분자 입자의 제조장치
7 7
제 1 항에 있어서,제1 유입 스트림에 형성된 제1 펌프; 및제2 유입 스트림에 형성된 제2 펌프를 포함하는 고분자 입자의 제조장치
8 8
삭제
9 9
제 1항에 있어서,제조된 고분자 입자의 평균 입경이 0
10 10
고분자 용액을 혼합장치로 투입하는 단계;반용매를 혼합장치로 투입하는 단계;혼합장치에 투입된 고분자 용액과 반용매를 교반하여 고분자 입자를 형성하는 단계; 및형성된 고분자 입자를 배출하는 단계를 포함하며,고분자 용액의 온도(Ta)와 반용매의 온도(Tb)는 하기 수학식 2의 관계를 만족하고,혼합장치로 투입되는 고분자 용액이 반용매와 혼합되어 냉각되는 속도는 10 ℃/s 내지 15 ℃/s인 폴리에틸렌 고분자 입자의 제조방법:[수학식 2]Ta-Tb≥100(℃)Ta는 혼합장치로 투입되는 고분자 용액의 온도이며, 110 내지 250℃ 범위이고,Tb는 혼합장치로 투입되는 반용매의 온도이며, 10 내지 80℃ 범위이다
11 11
제 10 항에 있어서,상기 제조방법은, 고분자 용액을 혼합장치로 투입하는 단계;반용매를 혼합장치로 투입하는 단계;혼합장치에 투입된 고분자 용액과 반용매를 교반하여 고분자 입자를 형성하는 단계; 및형성된 고분자 입자를 배출하는 단계를 포함하며,상기 단계들을 연속적으로 또는 동시에 수행하는 고분자 입자의 제조방법
12 12
삭제
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
제 10 항에 있어서,고분자 입자의 변이계수가 35 이하인 고분자 입자의 제조방법
16 16
제 10 항에 있어서,제조된 고분자 입자의 평균 입경이 0
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.