1 |
1
분리막을 제조하는 방법으로서, 상기 분리막은 분리막 기재 상에 바인더 고분자 혼합물이 코팅되어 있는 구조로 이루어져 있으며, 분리막 기재와 고분자 혼합물층의 접착력을 증가시키기 위해, 분리막 기재 상에 고분자 혼합물층을 코팅시키는 과정 이전에, 코로나(corona) 방전에 의해 분리막 기재의 표면을 활성화시키는 표면처리 과정을 포함하고, 상기 표면처리된 분리막 기재의 접착력은 50 dyn 이상인 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
2 |
2
제 1 항에 있어서,(a) 바인더 고분자를 용매에 용해시켜 고분자 용액을 제조하는 과정;(b) 무기물 필러를 상기 단계(a)의 고분자 용액에 첨가 및 혼합하는 과정;(c) 분리막 기재의 표면에 코로나 방전을 수행하는 과정; 및(d) 기공을 가진 다공성 분리막 기재 상에 상기 단계(b)의 혼합물을 코팅한 후 건조하는 과정;을 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 분리막 기재는 폴리올레핀 계열의 고분자로 이루어진 것인 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 표면 처리의 소스는 공기를 사용하여 코로나 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
6 |
6
제 1 항에 있어서, 상기 코로나 방전의 사용 범위는 1
|
7 |
7
제 1 항에 있어서, 상기 표면 처리의 소스는 산소(O2) 또는 질소(N2)를 사용하여 코로나 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
8 |
8
제 1 항에 있어서, 상기 표면 처리의 소스는 고분자를 사용한 플라즈마를 이용하여 코로나 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
9 |
9
제 1 항에 있어서, 상기 바인더 고분자 혼합물은 다공성(porosity) 무기물 필러 및 바인더 고분자를 포함하고 있는 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
|
10 |
10
제 9 항에 있어서, 무기물 필러의 성분은 BaTiO3, Pb(Zr,Ti)O3 (PZT), Pb1-xLaxZr1-yTiyO3 (PLZT), PB(Mg3Nb2/3)O3-PbTiO3 (PMN-PT), hafnia (HfO2) SrTiO3, SnO2, CeO2, MgO, NiO, CaO, ZnO, ZrO2,Y2O3, Al2O3, 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
11 |
11
제 9 항에 있어서, 상기 바인더 고분자 성분은 폴리비닐리덴플로라이드, 폴리비닐리덴 플로라이드-헥사플루오로프로필렌, 폴리비닐리덴플로라이드-트리클로로에틸렌, 폴리비닐리덴플로라이드-클로로트리플로로에틸렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐아세테이트, 에틸렌 비닐 아세테이트 공중합체, 폴리에틸렌옥사이드, 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 시아노에틸풀루란, 시아노에틸폴리비닐알콜, 시아노에틸셀룰로오스, 시아노에틸수크로오스, 풀루란, 카르복실 메틸 셀룰로오스, 아크리로니트릴스티렌부타디엔 공중합체, 및 폴리이미드로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
12 |
12
제 9 항에 있어서, 상기 무기물 필러의 성분은 고분자 혼합물층의 중량을 기준으로 60 ~ 90 중량%의 농도로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
13 |
13
제 1 항에 있어서, 상기 고분자 혼합물층의 두께는 2 ~ 5 ㎛인 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|
14 |
14
제 1 항 내지 제 3 항, 제 5항 내지 제 13 항 중 어느 하나에 따른 방법으로 제조된 것을 특징으로 하는 분리막
|
15 |
15
양극과 음극, 상기 양극과 음극 사이에 개재된 제 14 항의 분리막 및 전해질을 포함하는 전기화학소자
|
16 |
16
제 15 항에 있어서, 상기 전기화학소자는 리튬 이차전지인 전기 화학 소자
|
17 |
17
제 1 항의 분리막 제조방법을 수행하는 장치로서, (a) 분리막 기재를 공급하는 분리막 기재 공급롤;(b) 분리막 기재의 표면에 코로나 방전을 행하는 코로나 방전기;(c) 분리막 기재를 코팅하기 위한 코팅장치;를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조장치
|
18 |
18
제 17 항에 있어서, 상기 코로나 방전기는 플라스틱 케이스에 내장되어 있는 것을 특징으로 하는 분리막 제조장치
|
19 |
19
제 17 항에 있어서, 상기 코로나 방전기는 상압 플라즈마 개질기인 것을 특징으로 하는 분리막 제조장치
|
20 |
20
제 19 항에 있어서, 상기 상압 플라즈마 개질기는 파워 서플라이, 및 플라즈마 챔버를 포함하는 구조로 이루어진 것을 특징으로 하는 분리막 제조장치
|
21 |
21
제 1 항에 있어서, 상기 코로나 방전기는 고정방전극형 유전체 방전극 코로나 개질기인 것을 특징으로 하는 전극조립체 제조장치
|
22 |
22
분리막을 제조하는 방법으로서, 상기 분리막은 분리막 기재 상에 바인더 고분자 혼합물이 코팅되어 있는 구조로 이루어져 있으며, 분리막 기재와 고분자 혼합물층의 접착력을 증가시키기 위해, 분리막 기재 상에 고분자 혼합물층을 코팅시키는 과정 이전에, 코로나 방전에 의해 분리막 기재의 표면을 활성화시키는 표면처리 과정을 포함하고, 상기 코로나 방전의 사용 범위는 1
|
23 |
23
분리막을 제조하는 방법으로서, 상기 분리막은 분리막 기재 상에 바인더 고분자 혼합물이 코팅되어 있는 구조로 이루어져 있으며, 분리막 기재와 고분자 혼합물층의 접착력을 증가시키기 위해, 분리막 기재 상에 고분자 혼합물층을 코팅시키는 과정 이전에, 코로나 방전에 의해 분리막 기재의 표면을 활성화시키는 표면처리 과정을 포함하고, 상기 표면 처리의 소스로서 공기 또는 산소(O2) 또는 질소(N2)를 사용하거나, 또는 고분자를 사용한 플라즈마를 이용하여 코로나 처리를 수행하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
|