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분리막의 제조방법 및 이를 이용하여 생산되는 분리막

  • 기술번호 : KST2015054166
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 전기화학소자용 다공성 분리막을 제조하는 방법으로서, 분리막 기재의 상면 상에 바인더용 혼합물을 다이 코팅 방식으로 도포하여 활성 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 분리막 기재의 하면에 접착성 고분자를 분사하여 접착성 고분자층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법을 제공한다.
Int. CL H01M 2/16 (2006.01)
CPC H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01) H01M 2/145(2013.01)
출원번호/일자 1020110049387 (2011.05.25)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1307377-0000 (2013.09.05)
공개번호/일자 10-2012-0131311 (2012.12.05) 문서열기
공고번호/일자 (20130911) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.05.29)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최현호 대한민국 경기도 용인시 수지구
2 안경진 대한민국 충청북도 청원군
3 김민수 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 손창규 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 *** *동 ****호(역삼동, 성지하이츠*차빌딩)(글로벌혜성특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
2 도레이 카부시키가이샤 일본국 도오교오도 쥬우오오구 니혼바시 무로마찌 *쪼메
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.05.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0390318-77
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.05.29 수리 (Accepted) 1-1-2012-0424073-52
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.01.10 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.02.07 수리 (Accepted) 9-1-2013-0009018-71
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.04.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0297900-41
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.06.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0546882-34
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.06.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0546773-66
8 등록결정서
Decision to grant
2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0627466-23
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
전기화학소자용 다공성 분리막을 제조하는 방법으로서, 분리막 기재의 상면 상에 다공성(porosity) 무기물 필러 및 바인더 고분자를 포함하는 혼합물인 바인더용 혼합물을 다이 코팅 방식으로 도포하여 활성 코팅층을 형성하는 단계; 및 상기 분리막 기재의 하면에 접착성 고분자를 분사하여 접착성 고분자층을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
2 2
제 1 항에 있어서, 상기 다공성 분리막 기재는 폴리올레핀 계열 고분자로 이루어진 것인 것을 특징으로 하는 분리막의 제조방법
3 3
삭제
4 4
제 1 항에 있어서, 상기 무기물 필러의 성분은 BaTiO3, Pb(Zr,Ti)O3 (PZT), Pb1-xLaxZr1-yTiyO3 (PLZT), PB(Mg3Nb2/3)O3-PbTiO3 (PMN-PT), hafnia (HfO2) SrTiO3, SnO2, CeO2, MgO, NiO, CaO, ZnO, ZrO2,Y2O3, Al2O3, 및 TiO2로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 바인더 고분자의 성분은 폴리비닐리덴플로라이드, 폴리비닐리덴 플로라이드-헥사플루오로프로필렌, 폴리비닐리덴플로라이드-트리클로로에틸렌, 폴리비닐리덴플로라이드-클로로트리플로로에틸렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리아크릴로니트릴, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐아세테이트, 에틸렌 비닐 아세테이트 공중합체, 폴리에틸렌옥사이드, 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트, 시아노에틸풀루란, 시아노에틸폴리비닐알콜, 시아노에틸셀룰로오스, 시아노에틸수크로오스, 풀루란, 카르복실 메틸 셀룰로오스, 아크리로니트릴스티렌부타디엔 공중합체, 폴리이미드, 및 스티렌부타디인 고무(SBR)로 이루어진 군에서 선택되는 하나 또는 둘 이상인 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 무기물 필러의 성분은 활성 코팅층의 중량을 기준으로 60 ~ 90 중량%의 농도로 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
7 7
제 1 항에 있어서, 상기 활성 코팅층은 2 ㎛ 내지 4 ㎛의 두께로 형성되는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
8 8
제 1 항에 있어서, 상기 접착성 고분자층은 전기 방사 방식에 의해 분사 및 코팅되는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 접착성 고분자층은 2 ㎛ 내지 6 ㎛인 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
10 10
제 1 항에 있어서, 상기 활성 코팅층 상에 접착성 고분자를 분사하여 접착성 고분자층을 추가로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막 제조방법
11 11
전기화학소자용 다공성 분리막으로서,(i) 분리막 기재; (ii) 상기 분리막 기재의 상면에 바인더용 혼합물이 다이 코팅 방식으로 도포되어 있는 활성 코팅층; 및(iii) 상기 분리막 기재의 하면에 접착성 고분자가 분사 도포되어 있는 접착성 고분자층; 을 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막
12 12
제 11 항에 있어서, 상기 활성 코팅층 상에 접착성 고분자가 분사 도포된 접착성 고분자층을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 분리막
13 13
양극과 음극, 상기 양극과 음극 사이에 개재된 제 1 항, 제2항 및 제4항 내지 제 11 항 중 어느 하나에 따른 다공성 분리막 및 전해질을 포함하는 것을 특징으로 하는 전기화학소자
14 14
제 13 항에 있어서, 상기 전기화학소자는 리튬 이차전지인 것을 특징으로 하는 전기 화학 소자
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.