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무분극 질화물계 발광 소자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015054201
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요약 본 발명은 반도체 발광 소자에 관한 것으로 특히, 무분극 질화물계 발광 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. 이러한 본 발명은, r-면 사파이어 기판; 상기 기판 상에 위치하고, a-면 질화물계 반도체를 포함하며, 제 1전도성 반도체층, 활성층, 및 제 2전도성 반도체층을 포함하는 질화물 반도체층; 상기 제 2 전도성 반도체층 상에 위치하며, 역 피라미드 형의 음각 형상을 가지는 다수의 단위구조를 포함하는 적어도 한 층 이상의 인듐을 포함하는 층으로 이루어지는 광 추출층; 상기 제 1전도성 반도체층에 전기적으로 연결되는 제 1전극; 및 상기 제 2전도성 반도체층에 전기적으로 연결되는 제 2전극을 포함하여 구성될 수 있다.
Int. CL H01L 33/22 (2010.01)
CPC
출원번호/일자 1020110045166 (2011.05.13)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-1481593-0000 (2015.01.06)
공개번호/일자 10-2012-0126981 (2012.11.21) 문서열기
공고번호/일자 (20150112) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.09.12)
심사청구항수 17

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 정석구 대한민국 서울특별시 서초구
2 장영학 대한민국 서울특별시 서초구
3 김형구 대한민국 서울특별시 서초구
4 방규현 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)
2 방해철 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2011-0355529-38
2 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.09.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0737377-89
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.09.12 수리 (Accepted) 1-1-2012-0737378-24
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.04.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.05.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0035883-92
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.10.17 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0714035-88
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.11.26 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1077926-11
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.11.26 수리 (Accepted) 1-1-2013-1077929-47
9 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2014.04.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0284546-11
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.06.23 수리 (Accepted) 1-1-2014-0585171-84
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.06.23 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2014-0585170-38
12 등록결정서
Decision to grant
2014.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0734499-41
13 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2014.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2014-1239789-31
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
r-면 사파이어 기판;상기 기판 상에 위치하고, a-면 질화물계 반도체를 포함하며, 제 1전도성 반도체층, 활성층, 및 제 2전도성 반도체층을 포함하는 질화물 반도체층;상기 제 2전도성 반도체층 상에 위치하며, 역 피라미드 형의 음각 형상을 가지는 다수의 단위구조를 포함하는 적어도 한 층 이상의 인듐을 포함하는 층으로 이루어지는 광 추출층;상기 제 1전도성 반도체층에 전기적으로 연결되는 제 1전극; 및상기 제 2전도성 반도체층에 전기적으로 연결되는 제 2전극을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
2 2
제 1항에 있어서, 상기 피라미드 형은, 가상의 밑면이 사각형인 피라미드 형인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
3 3
제 2항에 있어서, 상기 가상의 밑면은, 다이아몬드 형 또는 마름모 형인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
4 4
제 2항에 있어서, 상기 가상의 밑면은, 인접한 두 변과, 상기 두 변에 마주하는 두 변의 길이가 서로 다른 비대칭형 사각형인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
5 5
제 1항에 있어서, 상기 광 추출 층은, 적어도 하나 이상의 제 1층과 제 2층이 교차된 구조인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
6 6
제 5항에 있어서, 상기 제 1층은 InGaN 층이고, 상기 제 2층은 GaN 층인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
7 7
제 5항에 있어서, 상기 제 1층의 두께는, 1 내지 100 nm인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
8 8
제 5항에 있어서, 상기 제 1층과 제 2층은, 2 내지 50 쌍을 포함하는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
9 9
제 1항에 있어서, 상기 광 추출 층 상에는, 과 도핑된 제 2전도성 반도체층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
10 10
제 9항에 있어서, 상기 과 도핑된 제 2전도성 반도체층 상에는, 투명 전도성층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
11 11
삭제
12 12
제 1항에 있어서, 상기 광 추출층은 InGaN을 포함하고, 상기 인듐의 비율은, 상기 광 추출층에 포함된 전체 3족 원소 대비 1 내지 12 %인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
13 13
제 1항에 있어서, 상기 광 추출 층의 단위구조는,상기 역 피라미드 형의 음각 형상을 가지는 다수의 제 1단위구조; 및 상기 제 1단위구조 사이에 위치하며 상기 제 1단위구조보다 크기가 작은 음각 형상을 가지는 다수의 제 2단위구조를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
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17 17
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18 18
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19 19
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20 20
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21 21
r-면 사파이어 기판 상에 1전도성 반도체층, 활성층, 및 제 2전도성 반도체층을 포함하는 a-면 질화물 반도체층을 성장시키는 단계;상기 질화물 반도체층 상에 인듐을 포함하고 역 피라미드 형의 음각 형상을 가지는 다수의 단위구조를 포함하는 광 추출층을 형성하는 단계;상기 광 추출층 상에 과 도핑된 제 2전도성 반도체층을 형성하는 단계;상기 제 2전도성 반도체층 상에 투명 전도성층을 형성하는 단계;상기 제 1전도성 반도체층과 전기적으로 연결되는 제 1전극을 형성하는 단계; 및상기 투명 전도성층 상에 제 2전극을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자의 제조방법
22 22
제 21항에 있어서, 상기 광 추출층은, InGaN을 포함하는 제 1층과, GaN을 포함하는 제 2층이 교대로 적층된 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자의 제조방법
23 23
제 22항에 있어서, 상기 제 1층과 제 2층은 적어도 2쌍 이상 교차되어 형성되는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자의 제조방법
24 24
제 21항에 있어서, 상기 광 추출층을 형성하는 단계는, 수직 방향의 성장 속도가 수평 방향의 성장 속도에 비하여 상대적으로 높은 조건으로 형성하는 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자의 제조방법
25 25
제 21항에 있어서, 상기 광 추출층은 InGaN을 포함하고, 상기 인듐의 비율은, 상기 광 추출층에 포함된 전체 3족 원소 대비 1 내지 12%인 것을 특징으로 하는 무분극 질화물계 발광 소자의 제조방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US09184340 US 미국 FAMILY
2 US20120286286 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2012286286 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US9184340 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.