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리드 프레임의 제조방법에 있어서,금속 소재에 에칭공정을 통해 다이패드와, I/O패드를 포함하는 패드부를 형성하는 제 1 단계와;패턴부의 형성을 위한 감광성 물질을 상기 패드부의 상부면 일부 영역이 노출되도록 상기 금속 소재에 도포하고, 표면처리를 수행하여 패턴부의 폭이 상기 패드부의 폭 보다 좁게 형성하는 제 2 단계;를 포함하여 수행하는 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 1 단계는,상기 금속 소재에 감광제를 도포하고, 마스크를 이용하여 노광 및 현상을 수행하고, 에칭을 수행하여 상기 패드부를 형성하는 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 2 단계는,감광성 물질의 도포 시,상기 패드부의 상부를 일부 포함하고 이웃하는 패드부 사이의 영역을 덮는 구조의 지붕형 감광성 물질 도포 하거나,또는 상기 패드부와 이웃하는 패드부의 사이 영역 내부와 상기 패드부 상부면의 일부영역을 덮는 구조의 보호형 감광성 물질 도포가 수행되도록 하는 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 제 2 단계는,표면처리시 표면처리 도금을 수행하며, 상기 도금은 전해질 또는 무전해질의 Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co, Cu 중에서 단일 성분 또는 2원이나 3원의 합금층을 사용하고, 단층 혹은 복층으로 도금을 수행하는 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임의 제조방법
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청구항 1 , 2, 4, 5 중 어느 하나의 항을 이용한 리드 프레임의 반도체 패키지의 제조방법에 있어서,상기 제 2 단계 후 어셈블리 공정에 의해 반도체 칩의 실장, 와이어 본딩, 에폭시 몰딩, 백에칭을 수행하는 제 3 단계;를 포함하여 수행하는 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임의 반도체 패키지의 제조방법
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리드 프레임에 있어서,금속 소재에 에칭공정을 통해 패터닝되어 형성되는 다이패드와, I/O패드를 포함하는 패드부; 및상기 패드부 상에 도금으로 형성되며, 상기 패드부의 폭 보다 좁게 형성되어 상기 패드부의 일부가 노출되는 구조의 패턴부;를 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임
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청구항 7에 있어서,상기 패턴부의 도금은,전해질 또는 무전해질의 Ni, Pd, Au, Sn, Ag, Co, Cu 중에서 단일 성분 또는 2원이나 3원의 합금층을 사용하고, 단층 혹은 복층의 도금으로 이루어진 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임
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청구항 7 또는 청구항 8을 이용한 능동소자 매립형 리드 프레임의 반도체 패키지에 있어서,상기 반도체 패키지는,상기 리드 프레임에 실장된 반도체 칩과 와이어 본딩과 에폭시 몰딩을 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 능동소자 매립형 리드 프레임의 반도체 패키지
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