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CMP슬러리

  • 기술번호 : KST2015056071
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요약 본 발명은 반도체 공정에서 화학적 기계적 연마시, 우수한 연마 성능을발휘할 수 있는, 특히 높은 연마 속도를 발휘하면서도, 피연마면의 스크래치를 최소화할 수 있는 CMP 슬러리에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 (a) 0.01㎛ ~ 10㎛ 의 입도분포를 갖는 산화세륨, 중량평균분자량이 2,000 ~ 8,000인 제1폴리아크릴산, 및 물을 혼합하여 산화세륨 분산액을 제조하는 단계; 및 (b) 상기 산화세륨 분산액과 중량평균분자량이 5,000 ~ 10,000인 제2폴리아크릴산을 혼합하는 단계;를 포함하는 것이 특징인 CMP 슬러리의 제조 방법; 및 상기 방법에 따라 제조된 CMP 슬러리에 관한 것이다. CMP 슬러리, 산화세륨, 폴리아크릴산
Int. CL C09K 3/14 (2006.01)
CPC C09G 1/02(2013.01) C09G 1/02(2013.01) C09G 1/02(2013.01) C09G 1/02(2013.01)
출원번호/일자 1020090003716 (2009.01.16)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1197163-0000 (2012.10.29)
공개번호/일자 10-2010-0084302 (2010.07.26) 문서열기
공고번호/일자 (20121102) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.11.08)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 노준석 대한민국 대전광역시 유성구
2 조승범 대한민국 대전광역시 유성구
3 김종필 대한민국 대전광역시 유성구
4 최상순 대한민국 강원 삼척시
5 정상윤 대한민국 대전광역시 중구
6 하현철 대한민국 대전광역시 유성구
7 홍인기 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.01.16 수리 (Accepted) 1-1-2009-0029312-77
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2010.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0728700-54
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0728684-11
4 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2011.03.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-0211417-91
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.12.21 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.01.13 수리 (Accepted) 9-1-2012-0001450-61
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.03.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0161296-26
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.05.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0390983-43
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2012-0390984-99
10 등록결정서
Decision to grant
2012.10.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0628763-12
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
(a) 0
2 2
제1항에 있어서, 상기 (a) 단계에서 제1폴리아크릴산의 혼합 중량비는 산화세륨 100 중량부 대비 0
3 3
제1항에 있어서, 상기 (b) 단계에서 제2폴리아크릴산의 혼합 중량비는 산화세륨 분산액 100 중량부 대비 0
4 4
제 1항에 있어서, 상기 (a)단계의 산화세륨은 비표면적이 5 m2/g 이상이며, 3nm 이상의 직경을 갖는 기공과 3nm 미만의 직경을 갖는 기공의 부피 분율이 8 : 2 ~ 2 : 8 범위인 것이 특징인 CMP 슬러리의 제조방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 (a)단계의 산화세륨은 육방정계 탄산세륨을 소성하여 제조된 것이 특징인 CMP 슬러리의 제조방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 (a)단계의 산화세륨은 결정립(crystallite)의 크기가 1 ~ 60 nm 범위인 것이 특징인 CMP 슬러리의 제조방법
7 7
(i) 0
8 8
제7항에 있어서, 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항의 방법으로 제조된 것이 특징인 CMP 슬러리
9 9
제7항에 있어서, 상기 산화세륨 분말 중 1~10㎛ 범위의 입도를 갖는 산화세륨 입자는 0
10 10
제7항에 있어서, 상기 제1폴리아크릴산: 제2폴리아크릴산의 질량비는 30:70~70:30인 것이 특징인 CMP 슬러리
11 11
제 7항에 있어서, 상기 (i)의 산화세륨 분말의 함량이 슬러리 100 중량부 당 0
12 12
제7항에 있어서, 중량평균분자량이 30 ~ 500이고 하이드록시기(OH), 카르복실기 (COOH) 또는 둘 다를 포함하는 화합물을 더 포함하는 것이 특징인 CMP 슬러리
13 13
제12항에 있어서, 상기 중량평균분자량이 30 ~ 500이고 하이드록시기(OH), 카르복실기 (COOH) 또는 둘 다를 포함하는 화합물은 시트레이트 (citrate)기 함유 화합물, 글루코네이트 (gluconate)기 함유 화합물, 말레이트(malate)기 함유 화합물, 타르타레이트(tartarate)기 함유 화합물, 2-하이드록시이소부티레이트 (2-hydroxyisobutyrate)기 함유 화합물, 아디페이트 (adipate)기 함유 화합물, 옥타노에이트(octanoate)기 함유 화합물, 숙시네이트(succinate)기 함유 화합물, 에틸렌디아민테트라아세테이트 (EDTA)기 함유 화합물, 글루타레이트(glutarate)기 함유 화합물, 메틸렌숙시네이트 (methylenesuccinate)기 함유 화합물, 만노즈(mannose), 글리세로-갈락토-헵토즈(glycero-galacto-heptose), 에리스로-만노-옥토즈(erythro-manno-octose), 아라비노-갈락토-논노즈(arabino-galacto-nonose), 및 글루타민(glutamine)으로 이루어진 군에서 선택되는 것이 특징인 CMP 슬러리
14 14
제12항에 있어서, 상기 중량평균분자량이 30 ~ 500이고 하이드록시기(OH), 카르복실기 (COOH) 또는 둘 다를 포함하는 화합물이 CMP슬러리 중 연마재 100 중량부 대비 0
15 15
제7항에 있어서, 일액형인 것이 특징인 CMP 슬러리
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.