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습식에칭제를 포함하는 전극 슬러리 조성물

  • 기술번호 : KST2015056414
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요약 본 발명은 전극 슬러리 조성물에 관한 것으로서, 더 상세하게는 산화제 및 착화제를 포함하여 이루어지는 습식에칭제를 포함하는 전극 슬러리 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 슬러리 조성물은 집전체에 도포되었을 때에, 전극을 형성함과 동시에 전극집전체의 표면에 에칭영역을 형성하여 전극집전체의 표면적을 증가시키므로 집전체 활물질의 결착력을 증가시킬 수 있는 효과가 있고, 추가적인 집전체 에칭공정을 단축시킬 수 있는 효과가 있다. 습식에칭, 전극 슬러리, 결착력, 집전체, 유기산, 산화제, 착화제
Int. CL H01M 10/38 (2006.01) H01M 4/02 (2006.01)
CPC H01M 4/62(2013.01) H01M 4/62(2013.01) H01M 4/62(2013.01) H01M 4/62(2013.01) H01M 4/62(2013.01) H01M 4/62(2013.01)
출원번호/일자 1020090006116 (2009.01.23)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1431284-0000 (2014.08.11)
공개번호/일자 10-2010-0086733 (2010.08.02) 문서열기
공고번호/일자 (20140821) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.10.25)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤난지 대한민국 대전광역시 유성구
2 박혜웅 대한민국 대전광역시 유성구
3 홍승택 대한민국 서울특별시 서초구
4 전호진 대한민국 대전광역시 유성구
5 박성준 대한민국 서울특별시 송파구
6 최대식 대한민국 경기도 용인시 수지구
7 김여진 대한민국 대전광역시 유성구
8 이한호 대한민국 대전광역시 유성구
9 최승돈 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인태평양 대한민국 서울특별시 중구 청계천로 **, *층(다동, 예금보험공사빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.01.23 수리 (Accepted) 1-1-2009-0047865-14
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2012.10.09 수리 (Accepted) 1-1-2012-0819342-93
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.10.25 수리 (Accepted) 1-1-2012-0872876-38
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.10.02 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.11.13 수리 (Accepted) 9-1-2013-0092009-95
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.01.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0077180-15
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.02.19 수리 (Accepted) 1-1-2014-0162962-27
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.02.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0162963-73
9 등록결정서
Decision to grant
2014.05.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0346575-78
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
습식에칭제가 포함된 전극 슬러리 조성물로서,상기 습식에칭제는 산화제 및 착화제를 포함하며,상기 산화제는 H2O2 , H5IO6 및 FeNO3 에서 선택되어지는 하나 또는 이들의 2 이상 조합인 전극 슬러리 조성물
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서, 상기 습식 에칭제는 전체 조성물에 대해 1 내지 5 wt% 포함하는 것임을 특징으로 하는 전극 슬러리 조성물
4 4
삭제
5 5
제 1 항에 있어서, 상기 산화제는 상기 습식에칭제 전체에 대하여 1 ~ 10 wt% 포함되는 것을 특징으로 하는 전극 슬러리 조성물
6 6
제 1 항에 있어서, 상기 착화제는 유기산인 것임을 특징으로 하는 전극 슬러리 조성물
7 7
제 6 항에 있어서, 상기 유기산은 아세트산, 프로피온산, 부티르산, 이소부티르산, 길초산(valeric acid), 카프로산(caproic acid), 카프릴산(caprylic acid), 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 모노플루오로아세트산, 디플루오로아세트산, 트리플루오로아세트산, α-클로로부티르산, β-클로로부티르산, γ-클로로부티르산, 락트산, 글리콜산(glycolic acid), 피루브산(pyruvic acid), 글리옥살산(glyoxalic acid), 아크릴산, 술폰산, 옥살산, 호박산, 아디프산(adipic acid), 주석산(tartaric acid), 구연산(citric acid) 및 아스코르브산(ascorbic acid)에서 선택되어지는 하나 또는 2 이상의 조합인 것임을 특징으로 하는 전극 슬러리 조성물
8 8
제 6 항 또는 제 7 항에 있어서, 상기 유기산은 습식에칭제 전체에 대하여 1 ~ 10 wt% 포함되는 것임을 특징으로 하는 전극 슬러리 조성물
9 9
제 1 항에 있어서, 상기 전극 슬러리 조성물의 pH는 6 내지 7 범위 이내인 것임을 특징으로 하는 전극 슬러리 조성물
10 10
제 1 항의 전극 슬러리 조성물을 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬 이차 전지용 전극
11 11
제 10 항의 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬 이차 전지
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.