맞춤기술찾기

이전대상기술

플라즈마 화학 기상 증착 장치

  • 기술번호 : KST2015056461
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 플라즈마 화학 기상 증착 장치에 관한 것으로서, 이 플라즈마 화학 기상 증착 장치는 정해진 크기의 전원을 공급받는 제1 전극부, 그리고 상기 제1 전극부와 마주보게 배치되어 있고 접지되어 있는 제2 전극부를 포함하고, 상기 제1 전극부는 절연 기판과 상기 절연 기판에 서로 이격되게 배치되고, 상기 전원을 공급받는 복수의 전극을 구비하며, 외부로부터 가스를 공급받아 확산시킨다. 이로 인해, 제1 전극부의 복수의 전극이 절연 기판 위에 형성되어 있으므로, 전극 사이가 절연 물질로 채워져 제1 전극부의 평탄도가 향상되고, 이로 인해, 위치에 따른 기판과 제1 전극간의 거리 차이가 크게 감소하여, 프라즈마 화학 증착 장치의 성능이 향상된다. PECVD, 플라즈마화학기상증착, VHF, CVD
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/509(2013.01) C23C 16/509(2013.01) C23C 16/509(2013.01)
출원번호/일자 1020090008842 (2009.02.04)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-1552726-0000 (2015.09.07)
공개번호/일자 10-2010-0089540 (2010.08.12) 문서열기
공고번호/일자 (20150911) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.01.10)
심사청구항수 8

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 이승윤 대한민국 서울특별시 서초구
2 황두섭 대한민국 서울특별시 서초구
3 안세원 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 특허법인로얄 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로 ***, *층(서초동,서일빌딩)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2009.02.04 수리 (Accepted) 1-1-2009-0069238-12
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.04.27 수리 (Accepted) 4-1-2009-5080835-50
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.11.03 수리 (Accepted) 4-1-2009-0023850-26
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2014.01.10 수리 (Accepted) 1-1-2014-0029361-66
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.10.06 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.11.12 수리 (Accepted) 9-1-2014-0090532-40
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.01.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0030446-54
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.03.16 수리 (Accepted) 1-1-2015-0251254-10
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.03.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0251255-66
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0436054-71
12 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.07.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0678974-12
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.07.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-0678973-77
14 등록결정서
Decision to grant
2015.09.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0598369-02
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
정해진 크기의 전원을 공급받는 제1 전극부, 그리고상기 제1 전극부와 마주보게 배치되어 있고 접지되어 있는 제2 전극부를 포함하고,상기 제1 전극부는 평판 형상의 제1 패널, 상기 제1 패널과 조립되어 가스가 유입되는 공간부를 형성하며, 한 면이 개방되어 있는 장방형 형상을 가지고, 상기 공간부에 연결되어 가스가 확산되는 복수의 홀을 갖는 절연 기판과 상기 절연 기판 상에 서로 이격되게 배치되고, 상기 전원을 공급받는 복수의 전극을 구비하되, 상기 절연 기판은 상기 제2 전극부와 마주보는 표면에 복수의 홈을 구비하고, 상기 복수의 전극은 상기 복수의 홈 내에 삽입되어 형성되되, 상기 제2 전극부와 마주보는 상기 복수의 전극의 표면과 상기 절연 기판의 표면은 서로 동일한 선상에 위치하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제1항에서,상기 제1 패널은 상기 절연 기판의 개방된 면과 조립되어 상기 공간부를 형성하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
5 5
제4항에서,상기 제1 패널은 상기 공간부에 연결되어 있는 주입구를 포함하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
6 6
삭제
7 7
제1항에서,상기 복수의 홀은 상기 절연 기판과 상기 전극에 형성되어 있는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
8 8
삭제
9 9
제1항에서,상기 복수의 전극은 전기적으로 서로 연결되어 있는 복수의 제1 전극과 전기적으로 서로 연결되어 있고 상기 복수의 제1 전극과 분리되어 있는 제2 전극을 포함하고,상기 전원은 상기 제1 전극에 인가되는 제1 전원과 상기 제2 전극에 인가되는 제2 전원을 포함하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
10 10
제9항에서,상기 제1 전원과 상기 제2 전원은 0˚ 내지 180˚의 위상차를 갖는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
11 11
제9항에서,상기 제1 전극부는,도전 물질로 이루어져 있고, 상기 복수의 제1 전극의 일측과 연결되어 상기 복수의 제1 전극을 전기적으로 연결하는 제2 패널, 그리고도전 물질로 이루어져 있고, 상기 복수의 제2 전극의 일측과 연결되어 상기 복수의 제2 전극을 전기적으로 연결하는 제3 패널을 더 포함하는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
12 12
제9항에서,상기 제1 전극과 상기 제2 전극은 번갈아 형성되는 플라즈마 화학 기상 증착 장치
13 13
삭제
14 14
삭제
15 15
삭제
16 16
삭제
17 17
삭제
18 18
삭제
19 19
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.