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균일한 입자 분포를 갖는 산화세륨 나노분말의 제조방법

기술번호 : KST2015056532
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 균일한 입자 분포를 갖는 산화세륨 나노분말의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 1 μm 이상의 입자를 포함하는 산화세륨 분말의 슬러리를 준비하는 단계; 수평 타입 밀링 장치의 회전부를 400 내지 1000 rpm 으로 회전시키면서, 상기 산화세륨 분말의 슬러리를 1 차 밀링하는 단계; 및 상기 수평 타입 밀링 장치의 회전부를 400 내지 1000rpm 로 회전시키면서, 1 차 밀링된 산화세륨 입자를 2 차 밀링하는 단계를 포함하고, 상기 2 차 밀링단계의 회전부 회전속도는 상기 1 차 밀링단계의 회전부 회전속도보다 빠르다. 본 발명에 의한 제조방법으로 입경이 100nm 이하인 산화세륨 입자가 질량비로 50%이하로 포함된 산화세륨 나노분말 또는 부피 평균 기준으로 평균입경이 100nm 이하인 산화세륨 입자로 이루어진 산화세륨 나노분말 및 상기 산화세륨 나노분말을 포함하는 CMP슬러리를 제조할 수 있다.산화세륨, 나노분말, 제 1 차 분쇄, 제 2 차 분쇄, 분산도, 응집도
Int. CL	B82Y 40/00 (2011.01) C01F 17/00 (2006.01) B82B 3/00 (2011.01)
CPC	C01F 17/0043(2013.01) C01F 17/0043(2013.01) C01F 17/0043(2013.01) C01F 17/0043(2013.01) C01F 17/0043(2013.01) C01F 17/0043(2013.01) C01F 17/0043(2013.01) C01F 17/0043(2013.01)
출원번호/일자	1020090017642 (2009.03.02)
출원인	주식회사 엘지화학
등록번호/일자	10-1184730-0000 (2012.09.14)
공개번호/일자	10-2010-0098927 (2010.09.10) 문서열기
공고번호/일자	(20120920) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2010.07.20)
심사청구항수	17

출원인

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번호	이름	국적	주소
1	주식회사 엘지화학	대한민국	서울특별시 영등포구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	곽익순	대한민국	대전광역시 서구
2	조승범	대한민국	대전광역시 유성구
3	노준석	대한민국	대전광역시 유성구
4	하현철	대한민국	대전광역시 유성구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	유미특허법인	대한민국	서울특별시 강남구 테헤란로 *, 서림빌딩 층 (역삼동)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	주식회사 엘지화학		서울특별시 영등포구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2009.03.02	수리 (Accepted)	1-1-2009-0127626-74
2	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)	2010.07.20	수리 (Accepted)	1-1-2010-0468460-69
3	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2011.06.29	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2011.07.13	수리 (Accepted)	9-1-2011-0057249-01
5	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2012.01.05	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0009646-82
6	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2012.03.05	수리 (Accepted)	1-1-2012-0178996-18
7	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2012.03.05	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2012-0178997-64
8	등록결정서 Decision to grant	2012.08.28	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0503446-12
9	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.01.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5000389-31
10	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.12.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5161532-51
11	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.11.12	수리 (Accepted)	4-1-2018-5227604-80
12	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.12.19	수리 (Accepted)	4-1-2018-5261818-30
13	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.19	수리 (Accepted)	4-1-2019-5164284-96

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 1 μm 이상의 입자를 포함하는 산화세륨 분말의 슬러리를 준비하는 단계;수평 타입 밀링 장치의 회전부를 400 내지 800rpm 로 회전시키면서, 상기 산화세륨 분말의 슬러리를 1 차 밀링하는 단계; 및상기 수평 타입 밀링 장치의 회전부를 400 내지 1000rpm으로 회전시키면서, 1 차 밀링된 산화세륨 입자를 2 차 밀링하는 단계를 포함하고, 상기 2 차 밀링단계의 회전부 회전속도는 상기 1 차 밀링단계의 회전부 회전속도보다 빠른 산화세륨 나노분말의 제조방법
2	2 제 1 항에 있어서, 상기 2 차 밀링단계의 회전부 회전속도는 상기 1 차 밀링단계의 회전부 회전속도 보다 200 내지 600 rpm 빠른 산화세륨 나노분말의 제조방법
3	3 제 1 항에 있어서, 상기 산화세륨 분말의 슬러리는 분산제 및 산화지르코늄 비드를 포함하는 산화세륨 나노분말의 제조방법
4	4 제 3 항에 있어서, 분산제는 폴리아크릴산, 폴리메타크릴릭산 및 폴리카르복실산 아민염에서 선택되는 하나 이상인 산화세륨 나노분말의 제조방법
5	5 제 3 항에 있어서, 슬러리 중의 분산제의 농도는 2wt% 내지 5wt% 인 산화세륨 나노분말의 제조방법
6	6 제 3 항에 있어서, 산화지르코늄 비드는 부피 평균 기준으로 평균 입경이 0
7	7 제 3 항에 있어서, 상기 산화세륨 슬러리 중의 산화지르코늄 비드와 산화세륨 분말의 혼합비는 질량비를 기준으로 1:1 내지 10:1 인 산화세륨 나노분말의 제조방법
8	8 제 1 항에 있어서, 1 차 밀링의 슬러리 유입속도는 1 내지 20 L/min 인 산화세륨 나노분말의 제조방법
9	9 제 1 항에 있어서, 2 차 밀링의 슬러리 유입속도는 10 내지 30 L/min 인 산화세륨 나노분말의 제조방법
10	10 제 1 항에 있어서, 산화세륨 분말의 슬러리의 pH는 5 내지 10 인 산화세륨 나노분말의 제조방법
11	11 제 1 항에 있어서, 1 차 밀링은 슬러리 중의 산화세륨 입자의 부피 평균 기준으로 평균입경이 300nm 이하가 될 때까지 진행되는 산화세륨 나노분말의 제조방법
12	12 제 1 항에 있어서, 1 차 밀링은 300nm 이하의 입경을 가진 산화세륨 입자의 비율이 전체 산화세륨 입자에 대해 질량비로 50%이상으로 될 때까지 진행되는 산화세륨 나노분말의 제조방법
13	13 제 1 항에 있어서, 2 차 밀링된 산화세륨 나노분말의 입자 평균입경이 부피 평균 기준으로 100nm 이하인 산화세륨 나노분말의 제조방법
14	14 제 1 항에 있어서, 2 차 밀링된 산화세륨 나노분말 중의 100nm 이하인 산화세륨 입자는 전체 산화세륨 입자에 대해 질량비로 50%이상인 산화세륨 나노분말의 제조방법
15	15 제 1 항에 있어서, 2 차 밀링된 산화세륨 나노분말의 분산도(D75-D25)가 10nm 내지 20nm 인 산화세륨 나노분말의 제조방법
16	16 제 1 항에 있어서, 2 차 밀링된 산화세륨 나노분말의 응집도(Dw-Ds)가 0
17	17 제 1 항에 있어서, 상기 수평 타입 밀링 장치는 비드 밀(bead mill) 장치인 산화세륨 나노분말의 제조방법
18	18 삭제
19	19 삭제
20	20 삭제
21	21 삭제

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

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특허 등록번호	10-1184730-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20090302 출원 번호 : 1020090017642 공고 연월일 : 20120920 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120828 청구범위의 항수 : 17 유별 : C01F 17/00 발명의 명칭 : 균일한 입자 분포를 갖는 산화세륨 나노분말의 제조방법 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	708,000 원	2012년 09월 14일	납입
제 4 년분	금 액	414,000 원	2015년 07월 16일	납입
제 5 년분	금 액	414,000 원	2016년 08월 17일	납입
제 6 년분	금 액	414,000 원	2017년 07월 18일	납입
제 7 년분	금 액	746,000 원	2018년 06월 19일	납입
제 8 년분	금 액	746,000 원	2019년 06월 25일	납입
제 9 년분	금 액	746,000 원	2020년 06월 18일	납입

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정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2009.03.02	수리 (Accepted)	1-1-2009-0127626-74
2	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서	2010.07.20	수리 (Accepted)	1-1-2010-0468460-69
3	선행기술조사의뢰서	2011.06.29	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서	2011.07.13	수리 (Accepted)	9-1-2011-0057249-01
5	의견제출통지서	2012.01.05	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0009646-82
6	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2012.03.05	수리 (Accepted)	1-1-2012-0178996-18
7	[명세서등 보정]보정서	2012.03.05	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2012-0178997-64
8	등록결정서	2012.08.28	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0503446-12
9	출원인정보변경(경정)신고서	2015.01.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5000389-31
10	출원인정보변경(경정)신고서	2015.12.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5161532-51
11	출원인정보변경(경정)신고서	2018.11.12	수리 (Accepted)	4-1-2018-5227604-80
12	출원인정보변경(경정)신고서	2018.12.19	수리 (Accepted)	4-1-2018-5261818-30
13	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.19	수리 (Accepted)	4-1-2019-5164284-96


기술번호	KST2015056532
자료제공기관	NTB
기술공급기관	LG그룹
기술명	균일한 입자 분포를 갖는 산화세륨 나노분말의 제조방법
기술개요	본 발명은 균일한 입자 분포를 갖는 산화세륨 나노분말의 제조방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로 1 μm 이상의 입자를 포함하는 산화세륨 분말의 슬러리를 준비하는 단계; 수평 타입 밀링 장치의 회전부를 400 내지 1000 rpm 으로 회전시키면서, 상기 산화세륨 분말의 슬러리를 1 차 밀링하는 단계; 및 상기 수평 타입 밀링 장치의 회전부를 400 내지 1000rpm 로 회전시키면서, 1 차 밀링된 산화세륨 입자를 2 차 밀링하는 단계를 포함하고, 상기 2 차 밀링단계의 회전부 회전속도는 상기 1 차 밀링단계의 회전부 회전속도보다 빠르다. 본 발명에 의한 제조방법으로 입경이 100nm 이하인 산화세륨 입자가 질량비로 50%이하로 포함된 산화세륨 나노분말 또는 부피 평균 기준으로 평균입경이 100nm 이하인 산화세륨 입자로 이루어진 산화세륨 나노분말 및 상기 산화세륨 나노분말을 포함하는 CMP슬러리를 제조할 수 있다.산화세륨, 나노분말, 제 1 차 분쇄, 제 2 차 분쇄, 분산도, 응집도
개발상태
기술의 우수성
응용분야
시장규모 및 동향
희망거래유형
사업화적용실적
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