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제1 전도성 타입의 반도체 기판에 형성되는 제1 전도성 타입의 제1 도핑부;상기 제1 도핑부와 인접한 위치의 반도체 기판에 형성되며, 상기 제1 전도성 타입과 반대의 전도성 타입을 갖는 제2 전도성 타입의 제2 도핑부;상기 제1 및 제2 도핑부의 일부를 노출하는 보호막;상기 노출된 제1 도핑부 위에 형성되는 제1 전극; 및상기 노출된 제2 도핑부 위에 형성되는 제2 전극을 포함하고,상기 제1 및 제2 전극은 상기 도핑부와 직접 접촉하며 단일층(single layer)으로 형성되는 금속 시드층 및 상기 금속 시드층 위에 배치된 전기도금층을 각각 포함하며, 상기 금속 시드층은 증착된 알루미늄을 포함하는 태양 전지
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제3항에서,상기 금속 시드층은 50㎚ 내지 200㎚의 두께로 형성되는 태양 전지
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제3항 또는 제4항에서,상기 전기도금층은 상기 금속 시드층 위에 배치되는 적어도 하나의 도전층을 더 포함하는 태양 전지
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제5항에서,상기 도전층은 구리, 은, 알루미늄, 주석, 아연, 인듐, 티타늄, 금 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 포함하는 태양 전지
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제6항에서,상기 도전층은 상기 금속 시드층 위에 순차적으로 배치되는 구리층 및 주석층을 포함하는 태양 전지
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제7항에서,상기 구리층은 10㎛ 내지 30㎛의 두께로 형성되고, 상기 주석층은 5㎛ 내지 15㎛의 두께로 형성되는 태양 전지
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제5항에서,상기 금속 시드층과 도전층 사이에는 상기 도전층을 형성하는 물질이 상기 금속 시드층을 통해 상기 도핑부로 확산되는 것을 방지하는 확산방지층이 배치되는 태양 전지
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제9항에서,상기 확산방지층은 니켈을 포함하는 태양 전지
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제9항에서,상기 확산방지층은 5㎛ 내지 15㎛의 두께로 형성되는 태양 전지
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제9항에서,상기 제1 및 제2 도핑부가 형성되지 않은 상기 반도체 기판의 표면은 텍스처링 표면으로 형성되는 태양 전지
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제12항에서,상기 텍스처링 표면 위에 반사 방지막이 형성되는 태양 전지
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제1 전도성 타입의 반도체 기판 위에 상기 제1 전도성 타입의 제1 도핑부와, 상기 제1 전도성 타입과 반대의 전도성 타입을 갖는 제2 전도성 타입의 제2 도핑부를 형성하는 단계;상기 제1 및 제2 도핑부의 일부를 노출하는 보호막을 상기 반도체 기판 위에 형성하는 단계; 및상기 제1 및 제2 도핑부와 전기적으로 연결되는 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하며,상기 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계는 상기 제1 및 제2 도핑부와 직접 접촉하며 단일층(single layer)으로 형성되는 금속 시드층을 형성하는 단계 및 상기 금속 시드층 위에 전기도금층을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 금속 시드층을 형성하는 단계는,알루미늄을 포함하는 시드 물질을 증착하는 단계; 및알루미늄 표면을 징케이트 처리하는 단계를 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제14항에서,상기 알루미늄을 진공 증착하는 태양 전지의 제조 방법
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제14항에서,상기 알루미늄을 50~200nm두께로 증착하는 태양전지의 제조 방법
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제14항에서,상기 금속 시드층을 형성하는 단계는 증착된 알루미늄을 열처리하는 단계를 더 포함하는 태양전지의 제조 방법
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제17항에서,상기 열처리는 수소 분위기에서 350℃ 내지 500℃의 온도로 실시하는 태양전지의 제조 방법
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제14항에서, 상기 알루미늄을 증착하는 단계는 스퍼터링 또는 전자빔 증착을 포함하는 진공 방법에 따라 이루어지는 태양전지의 제조 방법
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제14항 내지 제19항 중 어느 한 항에서,상기 전기도금층을 형성하는 단계는 상기 시드층 위에 전도성 물질막을 형성하여 상기 전도성 물질막을 포함하는 도전층을 형성하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제20항에서,상기 전도성 물질막은 구리, 은, 알루미늄, 주석, 아연, 인듐, 티타늄, 금 및 이들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 적어도 하나의 물질을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제21항에서,상기 도전층을 형성하는 단계는 상기 금속 시드층 위에 10㎛ 내지 30㎛의 두께로 구리를 도금하여 구리층을 형성하고, 상기 구리층 위에 5㎛ 내지 15㎛의 두께로 주석을 도금하여 주석층을 형성하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제20항에서, 상기 제1 및 제2 전극을 형성하는 단계는 상기 금속 시드층과 도전층의 사이에 확산방지층을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제23항에서,상기 확산방지층을 형성하는 단계는 전해도금 방법에 의해 상기 금속 시드층 위에 5㎛ 내지 15㎛의 두께로 니켈을 도금하는 것을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제17항에서,상기 제1 도핑부 및 상기 제2 도핑부를 형성하는 단계에서는 상기 제1 도핑부와 상기 제2 도핑부를 동시에 형성하는 태양 전지의 제조 방법
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