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1) 기판 전면에 감광재를 코팅하여 감광재층을 형성하는 단계,2) 상기 감광재층 상의 패턴 형성을 요하는 영역에 나노 스케일의 요철을 형성하는 단계, 및3) 상기 나노 스케일의 요철이 형성된 감광재층 상에 패턴 형성을 요하는 용액을 코팅하는 단계를 포함하고, 상기 2) 단계의 나노 스케일의 요철의 선 폭은 50nm 내지 1㎛이고, 상기 3) 단계에서 상기 감광재층 상에 형성되는 패턴의 최소 선 폭은 1㎛이상이며, 두께는 선폭의 1/2 이상인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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a) 기판 상의 패턴 형성을 요하는 영역에 나노 스케일의 요철을 형성하는 단계, 및b) 상기 나노 스케일의 요철이 형성된 기판 상에 패턴 형성을 요하는 용액을 코팅하는 단계를 포함하고, 상기 a) 단계의 나노 스케일의 요철의 선 폭은 50nm 내지 1㎛이고, 상기 b) 단계에서 상기 기판 상에 형성되는 패턴의 최소 선 폭은 1㎛이상이며, 두께는 선폭의 1/2 이상인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계의 감광재는 i-line 감광재인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계의 감광재를 코팅하는 방법은 스핀 코팅 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 1) 단계의 감광재 및 기판 사이에 추가로 반사 방지 물질을 코팅하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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청구항 1에 있어서, 상기 2) 단계의 감광재층 상에 나노 스케일의 요철을 형성하는 방법은 레이저 간섭 방법, 포토 리소그래피 방법 및 나노 임프린트 방법으로 이루어진 군으로부터 선택되는 방법을 이용하는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 2) 단계 또는 a) 단계의 나노 스케일의 요철의 단면은 직사각형, 정사각형, 삼각형, 원형 및 정현파형으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 3) 단계 또는 b) 단계의 패턴 형성을 요하는 용액을 코팅하는 방법은 스핀 코팅 방법, 바 코팅 방법, 및 딥 코팅 방법으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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청구항 1 또는 청구항 2에 있어서, 상기 3) 단계 또는 b) 단계의 패턴 형성을 요하는 용액은 물인 것을 특징으로 하는 패턴 형성 방법
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기판, 패턴 형성을 요하는 영역에 나노 스케일의 요철이 형성된 감광재층, 및 상기 감광재층 상의 나노 스케일의 요철이 형성된 영역에 대응하도록 형성된 패턴층을 포함하고, 상기 감광재층의 나노 스케일의 요철의 선 폭은 50nm 내지 1㎛이고, 상기 감광재층 상에 형성된 패턴의 최소 선 폭은 1㎛이상이며, 두께는 선폭의 1/2 이상인 것을 특징으로 하는 기판
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패턴 형성을 요하는 영역에 나노 스케일의 요철이 형성된 기판 및 상기 기판 상의 나노 스케일의 요철이 형성된 영역에 대응하도록 형성된 패턴층을 포함하고, 상기 기판의 나노 스케일의 요철의 선 폭은 50nm 내지 1㎛이고, 상기 기판 상에 형성된 패턴의 최소 선 폭은 1㎛이상이며, 두께는 선폭의 1/2 이상인 것을 특징으로 하는 기판
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