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미러판;상기 미러판의 외측에 위치하며, 양측에서 상기 미러판 방향으로 굴곡되는 굴곡부를 갖는 김블;상기 김블의 외측의 굴곡부 측에 위치하는 지지단;상기 굴곡부와 지지단을 연결하며, 제 1 회전축을 이루고, 탄성을 가지는 제 1 탄성체; 및상기 미러판의 양측과 김블을 연결하며, 상기 제 1 회전축에 수직인 제 2 회전축을 이루고, 탄성을 가지는 제 2 탄성체를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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제 1 항에 있어서, 상기 김블은 상기 제 2 회전축 방향의 폭이 상기 제 1 회전축 방향의 폭보다 더 큰 타원형인 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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제 1 항에 있어서, 상기 김블은,제 1 김블; 및상기 제 1 김블의 내측에 위치하는 제 2 김블을 포함하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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제 3 항에 있어서, 상기 제 1 김블과 제 2 김블은 제 3 탄성체에 의하여 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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5
제 4 항에 있어서, 상기 제 3 탄성체는, 상기 제 2 회전축 상에 위치하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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6
제 4 항에 있어서, 상기 제 3 탄성체가 연결되는 부분의 제 1 김블에는 홈이 형성된 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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7
제 3 항에 있어서, 상기 제 1 김블과 제 2 김블은 일정 간격을 두고 위치하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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8
제 3 항에 있어서, 상기 굴곡부는,상기 제 1 김블에서 굴곡되는 제 1 굴곡부; 및상기 제 2 김블에서 굴곡되는 제 2 굴곡부를 포함하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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제 3 항에 있어서, 상기 제 1 김블 및 제 2 김블 중 적어도 어느 하나는 외부 힘에 의해 상기 제 1 회전축과 제 2 회전축에 의하여 이루어지는 평면에 대하여 수직 방향으로 변형 가능한 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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10
제 1 항에 있어서, 상기 굴곡부는, 상기 제 1 회전축에 대하여 대칭 형상을 가지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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11
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 탄성체가 연결되는 부분의 김블에는 제 1 지지대가 형성되고, 상기 제 2 탄성체가 연결되는 부분의 미러판에는 제 2 지지대가 형성된 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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12
제 11 항에 있어서, 제 1 지지대 및 제 2 지지대의 두께는 상기 제 2 탄성체의 두께보다 두꺼운 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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13
제 11 항에 있어서, 상기 제 2 탄성체와 제 1 지지대 사이의 연결 영역에는 경사진 제 1 경사면을 가지고, 상기 제 2 탄성체와 제 2 지지대 사이의 연결 영역에는 제 2 경사면을 가지는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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14
광원으로부터 출사된 광을 1차원 또는 2차원 영역으로 주사하는 미러판;상기 미러판이 지지되는 지지단; 및상기 미러판과 지지단을 연결하며, 상기 미러판의 제 1 회전축과 상기 제 1 회전축에 대하여 수직인 제 2 회전축을 포함하는 탄성 지지체로 구성되고,상기 탄성 지지체의 적어도 일부분은 상기 지지단보다 두께가 얇게 형성되고, 상기 지지단과 연결되어 형성되는 취약점이 상기 지지단 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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15
제 14 항에 있어서, 상기 미러판은 상기 탄성 지지체와 연결되는 부분에 지지대를 포함하고, 상기 탄성 지지체가 상기 미러판의 지지대와 연결되어 형성되는 취약점이 상기 지지단 내에 위치하는 것을 특징으로 하는 스캐닝 마이크로 미러
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