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다중 반투과부를 구비한 포토 마스크

기술번호 : KST2015058875
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크에 관한 것으로, 구체적으로는 투명기판상에 형성되는 광투과부, 광차단부, 반투과부를 구비하는 포토마스크에 있어서, 상기 광차단부 또는 반투과부에 격자패턴을 포함하는 투과율 조정패턴 영역을 구비하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따르면, 2차원 격자구조를 가지는 투과율조절패턴영역을 구비함으로써, 종래의 제조방비가 구현할 수 있는 최소 선 폭의 범위에서 더 넓은 범위의 투과율을 구현할 수 있는 효과가 있다.포토마스크, 투과율조정영역
Int. CL	G03F 1/54 (2012.01)
CPC	G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01) G03F 1/144(2013.01)
출원번호/일자	1020090099173 (2009.10.19)
출원인	엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자	10-1168408-0000 (2012.07.18)
공개번호/일자	10-2011-0042488 (2011.04.27) 문서열기
공고번호/일자	(20120913) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2009.10.19)
심사청구항수	4

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	엘지이노텍 주식회사	대한민국	서울특별시 강서구

발명자

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번호	이름	국적	주소
1	서재용	대한민국	경기도 과천시
2	김종선	대한민국	경기도 안산시 상록구
3	서충원	대한민국	경기도 성남시 분당구

대리인

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번호	이름	국적	주소
1	김희곤	대한민국	대전시 유성구 문지로 **-(문지동) *동(웰쳐국제특허법률사무소)
2	김인한	대한민국	서울특별시 서초구 사임당로 , 층 (서초동, 신영빌딩)(특허법인세원)
3	박용순	대한민국	서울특별시 송파구 법원로길 , 층 D-***호(문정동)(주심국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호	이름	국적	주소
1	엘지이노텍 주식회사		서울특별시 강서구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2009.10.19	수리 (Accepted)	1-1-2009-0637618-82
2	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2010.02.24	수리 (Accepted)	4-1-2010-5032116-06
3	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2011.03.08	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2011.04.15	수리 (Accepted)	9-1-2011-0033626-59
5	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2011.05.24	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2011-0278054-60
6	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2011.07.25	수리 (Accepted)	1-1-2011-0572751-47
7	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서 [Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)	2011.08.24	수리 (Accepted)	1-1-2011-0659243-27
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2011.09.26	수리 (Accepted)	1-1-2011-0745465-07
9	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2011.09.26	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2011-0745466-42
10	거절결정서 Decision to Refuse a Patent	2012.03.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0186870-54
11	[명세서등 보정]보정서(재심사) Amendment to Description, etc(Reexamination)	2012.04.26	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2012-0335061-49
12	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2012.04.26	수리 (Accepted)	1-1-2012-0335062-95
13	등록결정서 Decision to Grant Registration	2012.05.19	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0293850-28
14	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2014.10.27	수리 (Accepted)	4-1-2014-0093826-77
15	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2017.03.08	수리 (Accepted)	4-1-2017-5035901-08
16	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.07.18	수리 (Accepted)	4-1-2018-5136723-03
17	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2020.01.15	수리 (Accepted)	4-1-2020-5011221-01

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 투명기판상에 형성되는 광투과부, 광차단부, 반투과부를 구비하는 포토마스크에 있어서,상기 반투과부와 투과율이 상이한 투과율조정패턴영역을 더 포함하며,상기 투과율조정패턴영역은,상기 광차단부 또는 반투과부에 격자패턴을 배열하여 상기 반투과부와의 투과율의 차이가 3~50%의 범위를 가지도록 구현하는 다중 반투과부를 구비한 포토마스크
2	2 청구항 1에 있어서,상기 투과율 조정패턴영역은,상기 격자패턴의 폭(x)과 격자패턴 간의 거리(y)를 조절하여 투과율을 조절하는 것을 특징으로 하는 다중 반투과부를 구비한 포토마스크
3	3 청구항 2에 있어서,상기 격자패턴은 차광물질로 충진된 패턴 또는 완전투과패턴인 다중 반투과부를 구비한 포토마스크
4	4 삭제
5	5 청구항 1 내지 3중 어느 한 항에 있어서,상기 격자패턴이 반투과부에 형성되는 경우,상기 격자패턴은 반투과물질로 구현되며, 상기 반투과물질은 Mo, Si, Ta, W, Al, Cr, Hf, Zr, Me, V, Ni, Nb, Co, Ti 중 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물질이거나,상기 Mo, Si, Ta, W, Al, Cr, Hf, Zr, Me, V, Ni, Nb, Co, Ti 중 어느 하나 또는 둘 이상의 혼합물질에 C0x, Ox, Nx 중 적어도 하나가 첨가된 물질로 형성되는 다중 반투과부를 구비한 포토마스크

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허 등록번호 표입니다.
특허 등록번호	10-1168408-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20091019 출원 번호 : 1020090099173 공고 연월일 : 20120913 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20120519 청구범위의 항수 : 4 유별 : G03F 1/08 발명의 명칭 : 다중 반투과부를 구비한 포토 마스크 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 강서구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	201,000 원	2012년 07월 19일	납입
제 4 년분	금 액	128,000 원	2015년 06월 05일	납입
제 5 년분	금 액	128,000 원	2016년 06월 07일	납입
제 6 년분	금 액	128,000 원	2017년 06월 05일	납입
제 7 년분	금 액	252,000 원	2018년 06월 08일	납입
제 8 년분	금 액	252,000 원	2019년 06월 12일	납입
제 9 년분	금 액	252,000 원	2020년 06월 09일	납입

본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2009.10.19	수리 (Accepted)	1-1-2009-0637618-82
2	출원인정보변경(경정)신고서	2010.02.24	수리 (Accepted)	4-1-2010-5032116-06
3	선행기술조사의뢰서	2011.03.08	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서	2011.04.15	수리 (Accepted)	9-1-2011-0033626-59
5	의견제출통지서	2011.05.24	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2011-0278054-60
6	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2011.07.25	수리 (Accepted)	1-1-2011-0572751-47
7	[지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서	2011.08.24	수리 (Accepted)	1-1-2011-0659243-27
8	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2011.09.26	수리 (Accepted)	1-1-2011-0745465-07
9	[명세서등 보정]보정서	2011.09.26	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2011-0745466-42
10	거절결정서	2012.03.29	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0186870-54
11	[명세서등 보정]보정서(재심사)	2012.04.26	보정승인 (Acceptance of amendment)	1-1-2012-0335061-49
12	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2012.04.26	수리 (Accepted)	1-1-2012-0335062-95
13	등록결정서	2012.05.19	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2012-0293850-28
14	출원인정보변경(경정)신고서	2014.10.27	수리 (Accepted)	4-1-2014-0093826-77
15	출원인정보변경(경정)신고서	2017.03.08	수리 (Accepted)	4-1-2017-5035901-08
16	출원인정보변경(경정)신고서	2018.07.18	수리 (Accepted)	4-1-2018-5136723-03
17	출원인정보변경(경정)신고서	2020.01.15	수리 (Accepted)	4-1-2020-5011221-01


기술번호	KST2015058875
자료제공기관	NTB
기술공급기관	LG그룹
기술명	다중 반투과부를 구비한 포토 마스크
기술개요	본 발명은 다중 반투과부를 구비한 하프톤 마스크에 관한 것으로, 구체적으로는 투명기판상에 형성되는 광투과부, 광차단부, 반투과부를 구비하는 포토마스크에 있어서, 상기 광차단부 또는 반투과부에 격자패턴을 포함하는 투과율 조정패턴 영역을 구비하는 것을 특징으로 한다.본 발명에 따르면, 2차원 격자구조를 가지는 투과율조절패턴영역을 구비함으로써, 종래의 제조방비가 구현할 수 있는 최소 선 폭의 범위에서 더 넓은 범위의 투과율을 구현할 수 있는 효과가 있다.포토마스크, 투과율조정영역
개발상태
기술의 우수성
응용분야
시장규모 및 동향
희망거래유형
사업화적용실적
도입시고려사항

중요키워드

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