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850 내지 950℃의 온도 하에 세륨 전구체를 4kg/hr 내지 8kg/hr의 속도로 회전식 소성로 투입하는 소성 과정을 통하여 60 내지 70nm의 결정 크기를 갖는 산화세륨 분말을 형성하는 단계; 및수평 타입 밀링 장치의 회전부를 400 내지 1000rpm (선속도 4 내지10m/sec)으로 회전시키면서, 상기 산화세륨 분말을 분쇄하는 단일의 밀링 단계를 포함하는, 100nm이하의 부피 평균 입경을 갖는 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 세륨 전구체의 소성은 회전식 소성로 내에서, 상기 회전식 소성로를 0
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제 1 항에 있어서, 세륨 전구체를 소성하여 형성된 산화세륨 분말은 1 ㎛ 이상의 입경을 갖는 산화세륨 입자를 포함하고, 부피 평균 입경은 1 내지 10㎛인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 세륨 전구체를 소성하여 형성된 산화세륨 분말의 분산도(D75-D25)가 50nm 내지 800nm인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 세륨 전구체는 탄산세륨, 세륨나이트레이트, 세륨하이드록사이드, 세륨설페이트 및 세륨포스페이트로 이루어지는 군에서 선택되는 하나 이상인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 산화세륨 분말은 수용매 내에 분산된 슬러리 형태로 습식 밀링되는 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 슬러리는 분산제 및 산화지르코늄 비드를 포함하는 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 9항에 있어서, 상기 분산제는 폴리아크릴산, 폴리메타크릴릭산 및 폴리카르복실산 아민염에서 선택되는 하나 이상인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 슬러리의 pH는 5 내지 10인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 산화세륨 나노분말은 100nm이하의 입경을 가진 산화세륨 입자의 비율이 전체 산화세륨 입자에 대해 부피비로 50%이상인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 산화세륨 나노분말은 100nm를 초과하는 입경을 가진 산화세륨 입자의 비율이 전체 산화세륨 입자에 대해 부피비로 25%이하인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 밀링 단계 후 입경이 1 ㎛이상인 산화세륨 입자는 분쇄된 산화세륨 슬러리 5wt% 내에 200,000개/mL 이하인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 8 항에 있어서, 상기 밀링 단계 후 입경이 2 ㎛이상인 산화세륨 입자는 분쇄된 산화세륨 슬러리 5wt% 내에 20,000개/mL 이하인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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제 1 항에 있어서, 상기 산화세륨 나노분말은 분산도(D75-D25)가 5nm 내지 15nm인 산화세륨 나노분말의 제조방법
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