맞춤기술찾기

이전대상기술

표면 형상이 제어된 가교 고분자 입자의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015060530
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 분산 중합을 이용한 표면 형상이 제어된 가교 고분자 입자의 제조 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 표면 형상이 제어된 가교 고분자 입자의 제조 방법은 이온성 열 개시제 단독 또는 이온성 열 개시제와 비이온성 열 개시제의 혼합물을 사용하는 것을 특징으로 한다. 본 발명에 따르면, 분산 중합을 통하여 5 중량% 이상의 가교도를 가지며 표면 형상이 제어된 가교 고분자 입자를 제조할 수 있다.
Int. CL C08F 20/18 (2006.01) G02B 5/02 (2006.01) G02F 1/1337 (2006.01) C08J 3/12 (2006.01)
CPC C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01) C08J 3/12(2013.01)
출원번호/일자 1020100014693 (2010.02.18)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1367527-0000 (2014.02.19)
공개번호/일자 10-2011-0094949 (2011.08.24) 문서열기
공고번호/일자 (20140225) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.09.05)
심사청구항수 15

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 구재필 대한민국 대전광역시 서구
2 임상혁 대한민국 대전광역시 유성구
3 장영래 대한민국 대전광역시 서구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 정순성 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층 (역삼동, 타워***빌딩)(새온특허법률사무소)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.02.18 수리 (Accepted) 1-1-2010-0107274-51
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.09.16 수리 (Accepted) 1-1-2010-0603640-60
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.09.05 수리 (Accepted) 1-1-2011-0693158-31
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.06.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.07.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0057526-88
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.12.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0774096-13
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.02.19 수리 (Accepted) 1-1-2013-0146680-47
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.02.19 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0146681-93
9 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0440888-02
10 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.08.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0727916-44
11 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.08.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0727915-09
12 등록결정서
Decision to grant
2013.11.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0796676-23
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
단량체; 가교제; 용매; 분산 안정제; 및 이온성 및 비이온성 열 개시제의 혼합물을 포함하는 조성물을 이용하여 분산 중합하는 단계를 포함하는 고분자 입자의 제조방법으로서,상기 비이온성 열 개시제는 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, o-클로로벤조일퍼옥사이드, o-메톡시벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, 2,2´- 아조비스이소부티로니트릴, 2,2´- 아조비스(2-메틸이소부티로니트릴), 2,2´- 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 및 이들의 혼합물에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고분자 입자의 제조방법
2 2
청구항 1에 있어서, 상기 고분자 입자는 5 중량% 이상의 가교도를 가지는 것을 특징으로 하는 고분자 입자의 제조방법
3 3
청구항 1에 있어서, 상기 단량체는 방향족 비닐계 단량체 및 아크릴계 비닐 단량체로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상인 것을 특징으로 하는 고분자 입자의 제조방법
4 4
청구항 1에 있어서, 상기 가교제는 단량체 100 중량부 대비 5 내지 50 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자의 제조방법
5 5
청구항 1에 있어서, 상기 용매는 단량체 100 중량부 대비 200 내지 2000 중량부로 포함되는 것을 특징으로 하는 고분자 입자의 제조방법
6 6
청구항 1에 있어서, 상기 분산 안정제는 단량체 100 중량부 대비 0
7 7
청구항 1에 있어서, 상기 이온성 열 개시제와 비이온성 열 개시제의 혼합물은 단량체 100 중량부 대비 0
8 8
청구항 1에 있어서, 상기 이온성 열 개시제는 포타슘퍼설페이트(KPS), 암모늄퍼설페이트(APS) 및 나트륨퍼설페이트(SPS)로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고분자 입자의 제조방법
9 9
삭제
10 10
단량체; 가교제; 용매; 분산 안정제; 및 이온성 및 비이온성 열 개시제의 혼합물을 포함하는 조성물을 이용하는 분산중합에 의하여 형성되는 고분자 입자로서,상기 비이온성 열 개시제는 벤조일퍼옥사이드, 라우릴퍼옥사이드, 큐멘하이드로퍼옥사이드, 메틸에틸케톤퍼옥사이드, t-부틸하이드로퍼옥사이드, o-클로로벤조일퍼옥사이드, o-메톡시벤조일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, 2,2´- 아조비스이소부티로니트릴, 2,2´- 아조비스(2-메틸이소부티로니트릴), 2,2´- 아조비스(2,4-디메틸발레로니트릴) 및 이들의 혼합물에서 선택되는 1종 이상인 것을 특징으로 하는 고분자 입자
11 11
청구항 10에 있어서, 상기 고분자 입자는 5 중량% 이상의 가교도를 가지는 것을 특징으로 하는 고분자 입자
12 12
청구항 10에 따른 고분자 입자를 포함하는 눈부심 방지 코팅 조성물
13 13
청구항 12에 있어서, 상기 눈부심 방지 코팅 조성물은 아크릴계 바인더 수지 및 용매를 더 포함하는 눈부심 방지 코팅 조성물
14 14
청구항 12 및 13 중 어느 하나의 항에 따른 눈부심 방지 코팅 조성물을 기재 상에 도포하는 단계 및 상기 도포된 조성물을 건조 및 경화하는 단계를 포함하는 눈부심 방지 코팅 필름의 제조방법
15 15
청구항 12 및 13 중 어느 하나의 항에 따른 눈부심 방지 코팅 조성물을 이용하여 제조된 눈부심 방지 코팅 필름
16 16
청구항 15에 따른 눈부심 방지 코팅 필름을 포함하는 디스플레이 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.