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절연기판을 관통하도록 형성된 제 1도전층;상기 절연기판의 일면에 형성된 산화물층 및 제 2도전층; 상기 절연기판의 타면에 형성되며 상기 제 1도전층에 의해 상기 제 2도전층과 전기적으로 연결되는 제 3도전층; 및상기 제 2도전층과 접촉하는 제 4도전층이 일면에 형성된 LED칩을 포함하되, 상기 산화물층은 상기 LED칩과 상기 절연기판의 공극 중 적어도 일부를 매우도록 형성된 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED 패키지
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제 1항에 있어서,상기 완충층이 형성된 LED 패키지는,상기 제 4도전층과 접촉하는 상기 제 2도전층의 접촉면은 도금된 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED 패키지
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제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 절연기판은 세라믹 기판 또는 규소 기판인 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED 패키지
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제 3항에 있어서,상기 산화물층은 비정질상인 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED 패키지
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(a) 절연기판상에 홀을 형성하는 단계;(b) 상기 홀을 도전성 재료로 충진하여 제 1도전층을 형성하는 단계;(c) 상기 절연기판의 일면에는 산화물층 및 제 2도전층을 형성하고 타면에는 제 3도전층을 형성하여 상기 제 1도전층을 통해 상기 제 2, 3도전층을 전기적으로 연결하는 단계; 및(d) LED칩에 형성된 제 4도전층을 상기 제 2도전층상에 접착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED패키지 제조 방법
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제 5항에 있어서,상기 (c) 단계는,(c1) 상기 제 1도전층과 전기적으로 연결되도록 상기 절연기판의 양면 각각의 일부에 제 2, 제 3 도전층을 형성하는 단계;(c2) 상기 제 2도전층상에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 및(c3) 상기 제 2도전층이 형성된 절연기판 면의 노출된 부분에 산화물층을 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 의한 LED패키지 제조 방법
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제 6항에 있어서,상기 (c3) 단계는,상기 노출된 부분에 금속을 증착하고 양극산화법에 의해 산화물층을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED패키지 제조 방법
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제 6항에 있어서,상기 (c3) 단계는,상기 노출된 부분에 규소 (Si)를 증착하고 건식산화법 또는 습식산화법에 의해 산화물층을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED패키지 제조 방법
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제 5항에 있어서,상기 (c) 단계는,(c1) 상기 제 1도전층과 전기적으로 연결되도록 상기 절연기판의 일면의 전면에 제 2도전층을 형성하고 타면의 일부에 제 3도전층을 형성하는 단계;(c2) 상기 제 2도전층의 일부에 포토레지스트층을 형성하는 단계; 및(c3) 상기 제 2도전층 중 상기 포토레지스트층이 형성되지 않은 부분을 산화시켜 산화물층으로 형성하는 단계로 이루어진 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED패키지 제조 방법
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제 9항에 있어서,상기 (c3) 단계는,상기 제 2도전층 중 상기 포토레지스트층이 형성되지 않은 부분을 양극산화법에 의해 산화시켜 산화물층을 형성하는 단계인 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED패키지 제조 방법
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11
제 5항 내지 제 10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 (c) 단계는,상기 제 2도전층을 도금하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 완충층이 형성된 LED패키지 제조 방법
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