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대면적 포토마스크의 제조방법에 있어서,적어도 2 이상의 단위글라스를 이용하여 글라스 표면에 차광패턴 또는 반투과패턴을 포함하는 광학패턴을 포토리소그라피로 구현하여 포토마스크를 형성하는 1단계;상기 2 이상의 단위글라스 사이의 대응하는 측면에 접합물질을 도포하여 접합하는 2단계;를 포함하되,상기 접합물질은, 접착제 표면 끈적임을 조절하기 용이한 분자량 500~2000 이내인 고체상의 에폭시수지로 비스페놀A형, 비스페놀F형, 비스페놀S형, 취소화비스페놀A형, 수소첨가 비스페놀A형, 비스페놀AF형, 비페닐형, 나프타렌형, 플로렌형, 페놀노볼락형, 크레졸노보락형, 트리스하이드록실페닐메탄형, 테트라페닐메탄형 등의 2 관능 또는 다관능 에폭시수지가 이용될 수 있지만 경화성, 접착성 및 내열,내습성 등의 물성면에서 비교적 우수한 비스페놀A형, 크레졸노볼락형 및 페놀노볼락형 에폭시수지 중 어느 하나 또는 이들 중 2 종 이상을 혼합하여 이루어지며,상기 접합물질에는 페놀계 경화제로 페놀노볼락수지, 크레졸노볼락수지, 비스페놀A노볼락수지, 페놀아랄킬수지, 폴리-p-비닐페놀 t-부틸페놀노볼락수지, 나프톨노볼락수지 중 선택되는 어느 하나를 더 포함하는 것을 적용하는 대면적 포토마스크의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 대면적 포토마스크는,TFT LCD를 제조하기 위한 대면적 포토마스크로,포토마스크의 규격을 가로*세로*높이가 1620*1780*17mm이며, 상기 단위글라스는 상기 대면적 포토마스크의 장변을 2등분하여 가로*세로*높이가 1620*890*17mm로 형성한 것을 적용하는 대면적 포토마스크의 제조방법
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청구항 1에 있어서,상기 1단계의 상기 차광패턴은 Cr 또는 CrOX 중 어느 하나로 형성되며,상기 반투과패턴은 Mo, Si, Ta, W, Al, Cr, Hf, Zr, Me, V, Ni, Nb, Co, Ti 을 주원소로 하여, 상기 주원소 물질 또는 상기 주원소들 중 적어도 두 개 이상이 혼합된 복합 물질이거나, 상기 주원소 또는 복합물질에 C0x, Ox, Nx 중 적어도 하나가 첨가된 물질로 형성되는 대면적 포토마스크의 제조방법
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표면에 차광패턴 또는 반투과패턴을 구비하는 적어도 2 이상의 단위글라스를 포함하되,이웃하는 각각의 단위글라스의 일측면이 접합된 구조로 형성되며,상기 접합된 부분에 사용되는 접합물질은,상기 접합물질은, 접착제 표면 끈적임을 조절하기 용이한 분자량 500~2000 이내인 고체상의 에폭시수지로 비스페놀A형, 비스페놀F형, 비스페놀S형, 취소화비스페놀A형, 수소첨가 비스페놀A형, 비스페놀AF형, 비페닐형, 나프타렌형, 플로렌형, 페놀노볼락형, 크레졸노보락형, 트리스하이드록실페닐메탄형, 테트라페닐메탄형 등의 2 관능 또는 다관능 에폭시수지가 이용될 수 있지만 경화성, 접착성 및 내열,내습성 등의 물성면에서 비교적 우수한 비스페놀A형, 크레졸노볼락형 및 페놀노볼락형 에폭시수지 중 어느 하나 또는 이들 중 2 종 이상을 혼합하여 이루어지며,상기 접합물질에는 페놀계 경화제로 페놀노볼락수지, 크레졸노볼락수지, 비스페놀A노볼락수지, 페놀아랄킬수지, 폴리-p-비닐페놀 t-부틸페놀노볼락수지, 나프톨노볼락수지 중 선택되는 어느 하나를 더 포함하는 것을 적용하는 대면적 포토마스크
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청구항 7에 있어서,상기 대면적 포토마스크는,가로*세로*높이가 1620*890*17mm인 단위 글라스가 접합된 구조인 대면적 포토마스크
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청구항 7에 있어서,상기 차광패턴은 Cr 또는 CrOX 중 어느 하나로 형성되며,상기 반투과패턴은 Mo, Si, Ta, W, Al, Cr, Hf, Zr, Me, V, Ni, Nb, Co, Ti 을 주원소로 하여, 상기 주원소 물질 또는 상기 주원소들 중 적어도 두 개 이상이 혼합된 복합 물질이거나, 상기 주원소 또는 복합물질에 C0x, Ox, Nx 중 적어도 하나가 첨가된 물질로 형성되는 대면적 포토마스크
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