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페놀 불순물 제거 방법

  • 기술번호 : KST2015061226
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요약 본 발명은 페놀 불순물 제거 방법에 관한 것으로, 하이드록시아세톤(HA), 2-메틸벤조퓨란(2MBF) 및 메시틸옥사이드(MO) 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 페놀 혼합물을 염기 및 산화제로 처리하는 단계; 처리된 페놀 혼합물을 이온교환수지가 충진된 반응기에서 반응시킴으로써, 하이드록시아세톤(HA), 2-메틸벤조퓨란(2MBF) 및 메시틸옥사이드(MO) 중에서 선택되는 1종 이상을 고비점 물질로 전환시키는 단계; 및 생성된 고비점 물질을 증류 공정에 의해 제거하여 고순도 페놀을 생산하는 단계를 포함하는 페놀 불순물 제거 방법을 제공한다.
Int. CL B01D 15/36 (2006.01) B01D 1/00 (2006.01) B01J 47/02 (2006.01) C02F 1/42 (2006.01)
CPC B01J 47/026(2013.01) B01J 47/026(2013.01) B01J 47/026(2013.01) B01J 47/026(2013.01) B01J 47/026(2013.01)
출원번호/일자 1020100053857 (2010.06.08)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1378274-0000 (2014.03.19)
공개번호/일자 10-2011-0134075 (2011.12.14) 문서열기
공고번호/일자 (20140401) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2012.06.04)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이원재 대한민국 대전광역시 유성구
2 이동철 대한민국 대전광역시 유성구
3 최용진 대한민국 대전광역시 유성구
4 이종구 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 조인제 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길**, *층(역삼동)(특허법인뉴코리아)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.06.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0367134-09
2 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2010.09.09 수리 (Accepted) 1-1-2010-0585861-20
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2012.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0443750-44
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.04.01 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.05.09 수리 (Accepted) 9-1-2013-0036864-03
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.10.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0709998-02
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.11.22 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-1063198-06
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.11.22 수리 (Accepted) 1-1-2013-1063196-15
9 등록결정서
Decision to grant
2014.03.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0164192-71
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
하이드록시아세톤(HA), 2-메틸벤조퓨란(2MBF) 및 메시틸옥사이드(MO) 중에서 선택되는 1종 이상을 포함하는 페놀 혼합물을 염기 및 산화제로 처리하는 단계;처리된 페놀 혼합물을 산성 양이온 교환수지가 충진되고 온도가 65 내지 95℃인 반응기에서 반응시킴으로써, 하이드록시아세톤(HA), 2-메틸벤조퓨란(2MBF) 및 메시틸옥사이드(MO) 중에서 선택되는 1종 이상을 고비점 물질로 전환시키는 단계;생성된 고비점 물질을 증류 공정에 의해 제거하여 고순도 페놀을 생산하는 단계; 및페놀 혼합물을 상기 산성 양이온 교환수지로 처리한 후, 염기성 음이온 교환수지로 처리하는 단계;를 포함하는 페놀 불순물 제거 방법
2 2
제1항에 있어서, 반응기 온도가 70 내지 90℃인 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
3 3
제1항에 있어서, 반응기는 적어도 2개가 연속적으로 직렬로 연결되는 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
4 4
제3항에 있어서, 첫 번째 반응기의 온도가 65 내지 95℃인 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
5 5
제4항에 있어서, 첫 번째 반응기의 온도는 두 번째 반응기의 온도와 같거나 이보다 높은 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
6 6
삭제
7 7
삭제
8 8
제1항에 있어서, 산성 양이온 교환수지에서 떨어져 나오는 유리 산을 염기성 음이온 교환수지로 제거하는 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
9 9
제1항에 있어서, 2-메틸벤조퓨란(2MBF)의 최종 농도는 5 ppm 이하인 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
10 10
제1항에 있어서, 산화제는 산소를 포함하는 가스인 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
11 11
제1항에 있어서, 염기는 수성 소듐 페네이트 용액인 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
12 12
제11항에 있어서, 소듐 페네이트 용액 내의 소듐 페네이트의 농도는 5 내지 50 중량%인 것을 특징으로 하는 페놀 불순물 제거 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.