기술이전플랫폼 Tech-Bridge-이전대상기술

맞춤기술찾기

홈으로 가기

맞춤기술찾기

이전대상기술

프린트하기

이전대상기술

트리클로로실란 제조방법

기술번호 : KST2015061994
담당센터 :
전화번호 :

상담신청 PDF 받기

상세정보
공개전문
공고전문
등록사항
통합행정정보
기술정보
과제정보
관련기술
심판사항

서지정보
인명정보
행정처리
청구항
지정국
패밀리정보
국가R&D 연구정보

요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약	본 발명은 트리클로로실란의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 금속 실리콘(MG-Si) 분말, 테트라클로로실란, 수소 및 상기 금속 실리콘 분말보다 작은 입도를 갖는 미분 금속 실리콘을 반응시키는 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 작은 입도 및 높은 금속 성분의 함량을 갖는 미분 금속 실리콘을 이용하여 촉매의 사용 없이 트리클로로실란을 고수율로 제조할 수 있으며, 이와 같이 촉매의 사용을 배제하므로 촉매와 금속 실리콘 분말의 추가 혼합 공정이 요구되지 않으며, 미세 촉매 입자에 의한 비산 방출에 기인한 수율 저하를 해결할 수 있고, 나아가 금속 염화물과 같은 불순물의 생성을 억제하여 안정적으로 높은 수율의 트리클로로실란의 제조가 가능하다.
Int. CL	B01J 8/00 (2006.01) C01B 33/107 (2006.01)
CPC	C01B 33/10742(2013.01) C01B 33/10742(2013.01)
출원번호/일자	1020100075231 (2010.08.04)
출원인	주식회사 엘지화학
등록번호/일자	10-1309600-0000 (2013.09.11)
공개번호/일자	10-2012-0013071 (2012.02.14) 문서열기
공고번호/일자	(20130923) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태	등록
심사진행상태	수리
심판사항
구분	신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자	Y (2011.08.09)
심사청구항수	14

출원인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 출원인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	주식회사 엘지화학	대한민국	서울특별시 영등포구

발명자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 발명자 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	강성훈	대한민국	대전광역시 유성구
2	최철환	대한민국	대전광역시 유성구
3	최광욱	대한민국	대전광역시 유성구

대리인

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 대리인 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	특허법인씨엔에스	대한민국	서울 강남구 언주로 길 , 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

번호, 이름, 국적, 주소의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 인명정보 - 최종권리자 표입니다.
번호	이름	국적	주소
1	주식회사 엘지화학		서울특별시 영등포구

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서 [Patent Application] Patent Application	2010.08.04	수리 (Accepted)	1-1-2010-0503379-24
2	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서 [Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)	2011.08.09	수리 (Accepted)	1-1-2011-0615358-59
3	선행기술조사의뢰서 Request for Prior Art Search	2012.02.16	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서 Report of Prior Art Search	2012.03.21	수리 (Accepted)	9-1-2012-0021996-35
5	의견제출통지서 Notification of reason for refusal	2013.04.05	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0234607-68
6	[명세서등 보정]보정서 [Amendment to Description, etc.] Amendment	2013.04.24	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-0361784-29
7	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서 [Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)	2013.04.24	수리 (Accepted)	1-1-2013-0361781-93
8	등록결정서 Decision to grant	2013.09.05	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0629954-49
9	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.01.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5000389-31
10	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2015.12.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5161532-51
11	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서 [Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)	2018.06.12	수리 (Accepted)	1-1-2018-0576208-12
12	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.11.12	수리 (Accepted)	4-1-2018-5227604-80
13	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2018.12.19	수리 (Accepted)	4-1-2018-5261818-30
14	출원인정보변경(경정)신고서 Notification of change of applicant's information	2019.08.19	수리 (Accepted)	4-1-2019-5164284-96

번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호	청구항
1	1 금속 실리콘(MG-Si) 분말, 테트라클로로실란, 수소 및 상기 금속 실리콘 분말 입도의 40% 이하의 입도를 갖는 미분 금속 실리콘을 반응시키는 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조방법
2	2 제 1항에 있어서, 상기 금속 실리콘 분말의 입도는 10-1000㎛인 트리클로로실란 제조방법
3	3 제 1항에 있어서, 상기 금속 실리콘 분말의 입도는 100-500㎛인 트리클로로실란 제조방법
4	4 삭제
5	5 제 1항에 있어서, 상기 미분 금속 실리콘의 입도는 상기 금속 실리콘 분말 입도의 20%이하인 트리클로로실란 제조방법
6	6 제 1항에 있어서, 상기 미분 금속 실리콘에 함유된 철 성분은 상기 금속 실리콘 분말에 함유된 철 성분의 20%를 초과하는 트리클로로실란 제조방법
7	7 제 1항에 있어서, 상기 미분 금속 실리콘에 함유된 구리 성분은 상기 금속 실리콘 분말에 함유된 구리 성분의 20%를 초과하는 트리클로로실란 제조방법
8	8 제 1항에 있어서, 상기 미분 금속 실리콘에 함유된 구리 성분 및 철 성분은 각각 상기 금속 실리콘 분말에 함유된 구리 성분 및 철 성분의 20%를 초과하는 트리클로로실란 제조방법
9	9 제 1항에 있어서, 상기 미분 금속 실리콘은 상기 금속 실리콘 분말 100 중량부 당 0
10	10 제 1항에 있어서, 상기 반응은 400 내지 800℃의 온도에서 이루어지는 트리클로로실란 제조방법
11	11 제 1항에 있어서, 상기 반응은 450 내지 650℃의 온도에서 이루어지는 트리클로로실란 제조방법
12	12 제 1항에 있어서, 상기 반응은 상압 내지 40 barr의 압력에서 이루어지는 트리클로로실란 제조방법
13	13 제 1항에 있어서, 상기 반응은 10 내지 35 barr의 압력에서 이루어지는 트리클로로실란 제조방법
14	14 제 1항에 있어서, 상기 반응은 염화수소(HCl)를 추가로 첨가하여 이루어지는 트리클로로실란 제조방법
15	15 제 1항에 있어서, 상기 반응은 유동층 반응기 또는 고정층 반응기에서 이루어지는 트리클로로실란 제조방법

본 등록정보는 참고용으로 법적증빙자료로 사용할 수 없습니다.
데이터 이관에 따른 소요기간(1일)으로 인하여 등록원부와 일부 차이가 발생할 수 있으며, 일부 정보(부기, 상세 주소 등)를 제공하지 않고 있습니다.
법적증빙자료로 활용하시거나 더 자세한 정보를 보시려면 등록원부를 발급받아 사용하시기 바랍니다.

이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허 등록번호 표입니다.
특허 등록번호	10-1309600-0000

권리란

표시번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 권리란 표입니다.
표시번호	사항
1	출원 연월일 : 20100804 출원 번호 : 1020100075231 공고 연월일 : 20130923 공고 번호 : 특허결정(심결)연월일 : 20130905 청구범위의 항수 : 14 유별 : C01B 33/107 발명의 명칭 : 트리클로로실란 제조방법 존속기간(예정)만료일 :

특허권자란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 특허권자란 표입니다.
순위번호	사항
1	(권리자) 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구...

등록료란

순위번호, 사항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 등록사항 > 등록료란 표입니다.
제 1 - 3 년분	금 액	591,000 원	2013년 09월 12일	납입
제 4 년분	금 액	348,000 원	2016년 08월 17일	납입
제 5 년분	금 액	348,000 원	2017년 07월 18일	납입
제 6 년분	금 액	348,000 원	2018년 06월 19일	납입
제 7 년분	금 액	632,000 원	2019년 06월 25일	납입
제 8 년분	금 액	632,000 원	2020년 06월 18일	납입

본 '원본보기 서비스'는 참고용이므로, 일부 오류 및 누락이 발생할 수 있습니다.
정확한 서류를 확인하시려면 해당 웹사이트에서 조회하시기 바랍니다. (특허로 바로가기: http://www.patent.go.kr)
해당 서비스는 점검으로 인해 매주 일요일 00:00 ~ 02:00까지 이용이 중단됩니다.

번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송번호의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 통합행정정보 > 등록료란 표입니다.
번호	서류명	접수/발송일자	처리상태	접수/발송번호
1	[특허출원]특허출원서	2010.08.04	수리 (Accepted)	1-1-2010-0503379-24
2	[심사청구]심사청구(우선심사신청)서	2011.08.09	수리 (Accepted)	1-1-2011-0615358-59
3	선행기술조사의뢰서	2012.02.16	수리 (Accepted)	9-1-9999-9999999-89
4	선행기술조사보고서	2012.03.21	수리 (Accepted)	9-1-2012-0021996-35
5	의견제출통지서	2013.04.05	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0234607-68
6	[명세서등 보정]보정서	2013.04.24	보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment)	1-1-2013-0361784-29
7	[거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서	2013.04.24	수리 (Accepted)	1-1-2013-0361781-93
8	등록결정서	2013.09.05	발송처리완료 (Completion of Transmission)	9-5-2013-0629954-49
9	출원인정보변경(경정)신고서	2015.01.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5000389-31
10	출원인정보변경(경정)신고서	2015.12.02	수리 (Accepted)	4-1-2015-5161532-51
11	[대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서	2018.06.12	수리 (Accepted)	1-1-2018-0576208-12
12	출원인정보변경(경정)신고서	2018.11.12	수리 (Accepted)	4-1-2018-5227604-80
13	출원인정보변경(경정)신고서	2018.12.19	수리 (Accepted)	4-1-2018-5261818-30
14	출원인정보변경(경정)신고서	2019.08.19	수리 (Accepted)	4-1-2019-5164284-96


기술번호	KST2015061994
자료제공기관	NTB
기술공급기관	LG그룹
기술명	트리클로로실란 제조방법
기술개요	본 발명은 트리클로로실란의 제조방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 금속 실리콘(MG-Si) 분말, 테트라클로로실란, 수소 및 상기 금속 실리콘 분말보다 작은 입도를 갖는 미분 금속 실리콘을 반응시키는 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조방법에 관한 것이다. 본 발명에 의하면 작은 입도 및 높은 금속 성분의 함량을 갖는 미분 금속 실리콘을 이용하여 촉매의 사용 없이 트리클로로실란을 고수율로 제조할 수 있으며, 이와 같이 촉매의 사용을 배제하므로 촉매와 금속 실리콘 분말의 추가 혼합 공정이 요구되지 않으며, 미세 촉매 입자에 의한 비산 방출에 기인한 수율 저하를 해결할 수 있고, 나아가 금속 염화물과 같은 불순물의 생성을 억제하여 안정적으로 높은 수율의 트리클로로실란의 제조가 가능하다.
개발상태
기술의 우수성
응용분야
시장규모 및 동향
희망거래유형
사업화적용실적
도입시고려사항

중요키워드

이전대상기술 뷰 페이지 관련기술 표
[KST2015042320][LG그룹]	촉매 탐색용 반응 장치	새창보기
[KST2015040301][LG그룹]	병렬중합반응장치	새창보기
[KST2015060013][LG그룹]	클로로실란의 저장방법	새창보기
[KST2015062679][LG그룹]	트리클로로실란의 정제장치 및 정제방법	새창보기
[KST2015062774][LG그룹]	트리클로로실란 제조용 유동층 반응장치	새창보기

의뢰할 수요기술을 선택합니다

담당자명, 주소, 이메일, 연락처, 내용, 파일선택의 정보를 제공하는 도입희망기술 뷰 페이지 의뢰하기 입력표입니다.
담당자명		활동구분※필수입력항목
이메일		연락처	- -
내용
파일선택	파일선택