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수용성 에틸렌계 불포화 단량체 및 디아조디설폰 화합물, 술포늄염, 이오도늄염 및 설포네이트 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 하나 이상인 양이온성 광개시제를 포함하는 모노머 조성물을 준비하는 단계; 및상기 모노머 조성물에 자외선을 조사하여 중합하는 단계를 포함하는 고흡수성 수지의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 디아조디설폰 화합물은 하기 화학식 1로 표현되는 화합물인 제조 방법:화학식 1단, 상기 화학식 1에서 R1은 페닐기, 싸이클로 헥실기, 메틸 페닐기, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 또는 탄소수 1 내지 5의 알킬렌기이다
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제 3항에 있어서,상기 디아조디설폰 화합물은 비스(사이클로헥실술포닐)디아조메탄 (Bis(cyclohexylsulfonyl)diazomethane), 비스(t-부틸술포닐)디아조메탄 (Bis(t-butylsulfonyl)diazomethane) 및 비스(p-톨루엔술포닐)디아조메탄(Bis(p-toluenesulfonyl)diazomethane)으로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상인 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 술포늄염은 하기 화학식 2로 표현되는 화합물인 제조 방법:화학식 2단, 상기 화학식2에서 R2는 수소, 탄소수 1 내지 5의 알킬기, 탄소수 1 내지 5의 알콕시기, 페닐기 또는 사이클로 헥실기이고, R3는 PF6- 또는 R4SO3-이고, 이때 R4는 CF3, C2F5, C3F7, 또는C4F9이다
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제 5항에 있어서,상기 술포늄염은 디페닐-4-메틸페닐술포늄 트리플로로메탄술포네이트(Diphenyl-4-methylphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate), 디페닐-4-메틸페닐술포늄 퍼플루오로부탄설포네이트(Diphenyl-4-methylphenylsulfonium perfluorobutanesulfonate), 디페닐-4-메톡시페닐술포늄 트리플로로메탄술포네이트(Diphenyl-4-methoxylphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate) 및 트리아릴 설포늄 헥사플로로 포스페이트(triaryl sulfonium hexafluoro phosphate)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 이오도늄염은 하기 화학식 3으로 표현되는 디페닐 이오도늄염인 제조 방법:화학식 3단, 상기 화학식 3에서 R5는 PF6- 또는 R6SO3-이고, 이때 R6는 CF3, C4F9, 또는 이고, R7은 탄소수 1 내지 5의 알킬기이며, 상기 R8 및 R9는 각각 독립적으로 수소 또는 이다
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제 1항에 있어서,상기 이오도늄염은 디페닐 이오도늄 트리플로로메탄설포네이트(Diphenyl iodonium trifluoromethanesulfonate), 디페닐 이오도늄 캠포메틸설포네이트(Diphenyl iodonium camphormethylsulfonate) 및 이오도늄 일리덴 비스(4,1-페닐렌옥시-4,1-페닐렌)비스[디스페닐 술포늄] 트리(헥사플로로포스페이트) [Iodoniumylidenebis(4,1-phenyleneoxy-4,1-phenylene)bis[disphenylsulfonium] tri(hexafluorophosphate)]로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 설포네이트 화합물은 하기 화학식 4로 표현되는 화합물인 제조 방법:화학식 4단, 상기 화학식 4에서 R10은 CF3, C2F5, C3F7, 또는C4F9이다
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제 9항에 있어서,상기 설포네이트 화합물은 N-하이드록시-5-노보넨-2,3-디카르복시미드 트리플로로메탄설포네이트(N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide trifluoromethanesulfonate) 및 N-하이드록시-5-노보넨-2,3-디카르복시미드 퍼플루오로-1-부텐설포네이트(N-hydroxy-5-norbornene-2,3-dicarboximide perfluoro-1-butanesulfonate)로 이루어진 군에서 선택되는 1종 이상인 제조 방법
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제 1 항에 있어서,상기 수용성 에틸렌계 불포화 단량체는 아크릴산, 메타아크릴산, 무수말레인산, 푸말산, 크로톤산, 이타콘산, 2-아크릴로일에탄 술폰산, 2-메타아크릴로일에탄술폰산, 2-(메타)아크릴로일프로판술폰산, 또는 2-(메타)아크릴아미드-2-메틸 프로판 술폰산 및 이들 각각의 염; (메타)아크릴아미드, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 메톡시폴리에틸렌글리콜(메타)아크릴레이트 또는 폴리에틸렌 글리콜(메타)아크릴레이트; 및(N,N)-디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트 또는 (N,N)-디메틸아미노프로필(메타)아크릴아미드 및 이들의 4급화물로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상인 고흡수성 수지의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 모노머 조성물 중 수용성 에틸렌계 불포화 단량체의 농도는 30 내지 60 중량 %인 고흡수성 수지의 제조방법
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제 1항에 있어서,상기 모노머 조성물 중 양이온성 광개시제는 수용성 에틸렌계 불포화 단량체 100 중량부에 대해 0
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제 1항에 있어서, 상기 모노머 조성물은 아세토페논, 벤조인, 벤조페논, 벤질, 디에톡시 아세토페논, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 벤질 디메틸 타르, 4-(2-히드록시 에톡시)페닐-(2-히드록시)-2-프로필 케톤, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 벤조인메틸에테르, 벤조일에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인이소부틸에테르, o-벤조일 안식향산 메틸, 4-페닐 벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸-디페닐 황화물, (4-벤조일 벤질)트리메틸 암모늄 염화물, 비스 (2,4,6-트리메틸 벤조일)-페닐 포스핀 옥시드, 디페닐(2,4,6-트리메틸벤조일)-포스핀 옥시드, 2-히드록시 메틸 프로피온니트릴, 및 2,2'-{아조비스(2-메틸-N-[1,1'-비스(히드록시메틸)-2-히드록시 에틸]프로피온 아미드)의 광개시제 군; 및과황산나트륨(Sodium persulfate; Na2S2O8), 과황산칼륨(Potassium persulfate; K2S2O8), 과황산암모늄(Ammonium persulfate; (NH4)2S2O8), 2, 2-아조비스-(2-아미디노프로판)이염산염(2, 2-azobis(2-amidinopropane) dihydrochloride), 2, 2-아조비스-(N, N-디메틸렌)이소부티라마이딘 디하이드로클로라이드(2,2-azobis-(N, N-dimethylene)isobutyramidine dihydrochloride), 2-(카바모일아조)이소부티로니트릴(2-(carbamoylazo)isobutylonitril), 2, 2-아조비스[2-(2-이미다졸린-2-일)프로판] 디하이드로클로라이드(2,2-azobis[2-(2-imidazolin-2-yl)propane] dihydrochloride), 및 4,4-아조비스-(4-시아노발레릭 산)(4,4-azobis-(4-cyanovaleric acid))의 열개시제 군에서 선택되는 1 종 이상을 수용성 에틸렌계 불포화 단량체 100 중량부에 대하여 0
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제 1항에 있어서,상기 모노머 조성물은 탄소수 8 내지 12 의 비스 아크릴아미드, 비스 메타 아크릴 아미드, 탄소수 2 내지 10인 폴리올의 폴리(메타)아크릴레이트, 탄소수 2 내지10인 폴리올의 폴리(메타)알릴에테르, N,N'-메틸렌비스(메타)아크릴레이트, 에틸렌옥시(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌옥시(메타)아크릴레이트, 프로필렌옥시(메타)아크릴레이트, 글리세린 디아크릴레이트, 글리세린 트리아크릴레이트, 트리메티롤프로판 트리아크릴레이트, 트리 알릴 아미드, 트리아릴시아누레이트, 트리알릴이소시아네이트, 폴리에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜 및 프로필렌글리콜로 이루어진 가교제군에서 선택되는 1종 이상을 수용성 에틸렌계 불포화 단량체 100중량부에 대하여 0
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제 1항에 있어서,상기 자외선 조사는 제논 램프, 수은 램프, 메탈할라이드 램프로 이루어진 자외선 조사원 군으로부터 선택되는 하나 이상을 이용한 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 자외선을 이용한 중합 단계 후의 잔존 모노머 양은 주입되는 모노머 조성물 전체 중량의 1중량% 미만인 고흡수성 수지의 제조 방법
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제 1항에 있어서,상기 중합 단계를 거친 중합체를 분쇄하는 단계;상기 분쇄된 중합체를 건조하는 단계; 및상기 건조된 중합체를 추가로 분쇄하는 단계를 더 포함하는 고흡수성 수지 제조 방법
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디아조디설폰 화합물, 술포늄염, 이오도늄염 및 설포네이트 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 이상의 양이온성 광개시제와 수용성 에틸렌계 불포화 단량체를 포함하는 고흡수성 수지 제조용 모노머 조성물
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