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유동층 반응기

  • 기술번호 : KST2015062580
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 유동층 반응기는 헤드, 상기 헤드의 아래에 위치하여 상기 헤드와 연결되고 제1 반응관이 삽입되는 제1 몸체부, 상기 제1 몸체부의 아래에 위치하여 상기 제1 몸체부와 연결되고 제2 반응관이 삽입되는 제2 몸체부 및 상기 제2 몸체부의 아래에 위치하여 상기 제2 몸체부와 연결되며 유동가스공급노즐, 반응가스공급노즐, 히터 및 전극이 조립되는 저면부를 포함한다.
Int. CL B01J 8/18 (2006.01) C01B 33/027 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100095938 (2010.10.01)
출원인 한국화학연구원, 주식회사 실리콘밸류
등록번호/일자 10-1329030-0000 (2013.11.07)
공개번호/일자 10-2012-0057732 (2012.06.07) 문서열기
공고번호/일자 (20131113) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.04.20)
심사청구항수 19

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 실리콘밸류 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박용기 대한민국 대전광역시 유성구
2 윤경구 대한민국 대전광역시 유성구
3 구명회 대한민국 대전광역시 서구
4 정윤섭 대한민국 서울특별시 강서구
5 김근호 대한민국 울산광역시 남구
6 윤여균 대한민국 대전광역시 유성구
7 김진성 대한민국 대전광역시 서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김성호 대한민국 서울특별시 강남구 도곡로 *** (역삼동,미진빌딩 *층)(KNP 특허법률사무소)
2 고영갑 대한민국 경기도 성남시 분당구 정자일로 ***, 파크뷰 타워 ***호 (정자동)(가람특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국화학연구원 대전광역시 유성구
2 주식회사 실리콘밸류 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2010.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0636518-60
2 보정요구서
Request for Amendment		 2010.10.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0089168-90
3 청구범위 제출유예 안내서
Notification for Deferment of Submission of Claims		 2010.10.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2010-0089169-35
4 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2010.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0726988-38
5 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.12.06 수리 (Accepted) 1-1-2010-0802773-91
6 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2010.12.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0808144-22
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2010.12.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2010-0840642-09
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2011.04.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-0292996-25
9 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2011.04.20 수리 (Accepted) 1-1-2011-0292995-80
10 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2012.01.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
11 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2012.02.17 수리 (Accepted) 9-1-2012-0013298-42
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.07 수리 (Accepted) 4-1-2012-5121173-22
13 [출원에 대한 정보(특허)]정보제출서
[Information about Application (Patent)]Submission of Information		 2012.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-5021924-44
14 안내문(정보제출서)
Notification (Written Submission of Information)		 2012.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2012-0093409-17
15 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2013.02.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0115042-69
16 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2013.04.04 수리 (Accepted) 1-1-2013-0295320-87
17 보정요구서
Request for Amendment		 2013.04.08 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-2013-0036928-66
18 [출원서등 보정]보정서
[Amendment to Patent Application, etc.] Amendment		 2013.04.10 수리 (Accepted) 1-1-2013-0309733-03
19 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.04.12 수리 (Accepted) 1-1-2013-0319840-69
20 [지정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Designated Period Extension] Application of Period Extension(Reduction, Progress relief)		 2013.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-0417568-10
21 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2013.06.20 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0550178-59
22 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2013.06.20 수리 (Accepted) 1-1-2013-0550151-27
23 등록결정서
Decision to grant		 2013.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0699399-83
24 정보제공에대한처리결과통지서
Notice of Processing Result for Information Provision		 2013.10.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0699403-89
25 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2016.09.22 수리 (Accepted) 4-1-2016-0068159-14
26 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149265-52
27 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.09.14 수리 (Accepted) 4-1-2017-5149242-13
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
헤드;상기 헤드의 아래에 위치하여 헤드와 연결되고 제1 반응관이 그 내부에 위치하는 제1 몸체부;상기 제1 몸체부의 아래에 위치하여 상기 제1 몸체부와 연결되고 제2 반응관이 그 내부에 위치하는 제2 몸체부; 및상기 제2 몸체부의 아래에 위치하여 상기 제2 몸체부와 연결되며 유동가스공급노즐, 반응가스공급노즐, 히터 및 전극이 조립되는 저면부를 포함하며,상기 저면부는 유동가스공급노즐 및 반응가스공급노즐이 조립되는 기저 플레이트, 상기 기저 플레이트 상에 위치하여 상기 기저 플레이트를 절연시키는 제1 플레이트, 상기 제1 플레이트 상에 위치하며 상기 히터와 접촉하여 상기 히터에 전기를 공급하는 제2 플레이트, 상기 제2 플레이트 상에 위치하여 상기 제2 플레이트를 절연시키는 제3 플레이트를 포함하는 유동층 반응기
2 2
제1항에 있어서,상기 저면부에는 상기 히터에 삽입되는 고정부가 착설되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
3 3
제1항에 있어서,상기 히터의 표면에 주름, 돌기 또는 패턴 중 적어도 하나가 형성되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
4 4
제1항에 있어서,상기 히터에 히터캡이 씌워진 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
5 5
제1항에 있어서,상기 유동가스공급노즐에는 걸림턱이 형성되고,상기 저면부에는 상기 유동가스공급노즐이 안착되는 홀이 형성되며,상기 걸림턱의 위와 아래에 제1 완충물과 제2 완충물이 위치하도록 상기 제1 완충물과 상기 제2 완충물이 상기 유동가스공급노즐에 끼워지는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
6 6
제5항에 있어서,상기 홀 표면의 일부 또는 전체에 나사산이 형성되며,부싱이 상기 홀 표면의 나사산에 의하여 나사 결합되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
7 7
제1항에 있어서,상기 제1 반응관의 끝단 및 상기 제2 반응관의 끝단에는 상기 제1 몸체부와 상기 제2 몸체부 방향으로 돌출된 돌출부들이 형성되며, 상기 제1 반응관의 돌출부와 상기 제2 반응관의 돌출부가 마주보도록 위치하는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
8 8
제7항에 있어서,상기 돌출부들 사이에는 실링재가 위치하는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
9 9
제1항에 있어서,지지링이 상기 제1 반응관과 상기 제2 반응관 사이에 게재되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
10 10
제9항에 있어서,상기 지지링과 상기 제1 반응관 사이 그리고 상기 지지링과 상기 제2 반응관 사이에 실링재가 위치하는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
11 11
삭제
12 12
제1항에 있어서,상기 제2 플레이트의 끝단과 상기 기저 플레이트의 일면과 이격되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
13 13
제1항 또는 제12항에 있어서,상기 기저 플레이트와 상기 제2 플레이트의 끝단 사이에 상기 제1 플레이트의 일부분이 위치하는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
14 14
제1항 또는 제12항에 있어서,상기 제2 플레이트의 둘레를 감싸는 절연링이 설치되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
15 15
제1항에 있어서,상기 제2 플레이트와 상기 제3 플레이트 각각은 복수의 단위플레이트들을 포함하는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
16 16
제1항에 있어서,상기 제2 플레이트는 복수의 단위 플레이트들을 포함하며, 상기 히터의 하부는 서로 인접한 단위 플레이트들과 접촉하고,상기 인접한 단위 플레이트들은 서로 절연되어 있는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
17 17
제1항에 있어서,상기 히터의 하부에 형성된 돌출부는 상기 제3 플레이트에 걸리는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
18 18
제1항에 있어서,상기 히터에 히터캡이 씌워지며,상기 히터캡의 하부에는 걸림턱이 형성되고,상기 히터캡의 걸림턱은 상기 제3 플레이트의 복수의 단위 플레이트들 사이에 걸리는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
19 19
제1항에 있어서,2개의 상기 전극들과 연결된 히터 그룹을 포함하며, 상기 히터 그룹들이 소비하는 전력량들은 동일한 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
20 20
제1항에 있어서,하나의 상기 전극에 한 개 혹은 두 개 이상의 히터 그룹이 연결되는 것을 특징으로 하는 유동층 반응기
21 21
삭제
22 22
삭제
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1 CN102442669 CN 중국 FAMILY
2 EP02436438 EP 유럽특허청(EPO) FAMILY
3 JP24076078 JP 일본 FAMILY
4 US08580203 US 미국 FAMILY
5 US20120082592 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 CN102442669 CN 중국 DOCDBFAMILY
2 EP2436438 EP 유럽특허청(EPO) DOCDBFAMILY
3 JP2012076078 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 RU2011139608 RU 러시아 DOCDBFAMILY
5 RU2490576 RU 러시아 DOCDBFAMILY
6 TW201217053 TW 대만 DOCDBFAMILY
7 US2012082592 US 미국 DOCDBFAMILY
8 US8580203 US 미국 DOCDBFAMILY
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순번 연구부처 주관기관 연구사업 연구과제
1 지식경제부 유한회사 실리콘밸류 신재생에너지기술개발사업 태양전지용 폴리실리콘 제조장비개발