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리드 프레임 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015062734
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요약 본 발명의 실시 예에 따른 리드 프레임의 제조 방법은 리드 프레임 기판을 준비하는 단계와, 상기 리드 프레임 기판의 제 1 면에 복수의 이너 리드를 형성하고, 상기 제 1 면과 반대되는 제 2 면에 복수의 아우터 리드를 형성하는 단계와, 상기 이너 리드 및 아우터 리드가 형성된 리드 프레임 기판 아래에 캐리어를 형성하는 단계와, 상기 캐리어가 형성된 리드 프레임 기판에 회로를 형성하는 단계와, 상기 형성된 캐리어를 제거하는 단계를 포함한다. 따라서, 캐리어를 이용하여 회로 패턴 형성 공정을 진행함으로써, 상기 회로 패턴 형성 공정 시 발생하는 기판의 휨 현상을 방지하고, 상기 기판의 두께를 최소화하여 미세회로 패턴을 구현할 수 있다.또한, 회로 패턴 형성 시 접착된 캐리어를 제거하기 위한 추가 공정이 요구되지 않기 때문에 공정 수를 감소시킬 수 있고, 롤투롤(Roll-To-Roll)로 제조 전 공정이 가능해짐으로써 원가 경쟁력을 가질 수 있다.
Int. CL H01L 23/48 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020100096152 (2010.10.01)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1134706-0000 (2012.04.02)
공개번호/일자 10-2012-0034529 (2012.04.12) 문서열기
공고번호/일자 (20120413) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.01)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박충식 대한민국 서울특별시 중구
2 이형의 대한민국 서울특별시 중구
3 천현아 대한민국 서울특별시 중구
4 엄새란 대한민국 서울특별시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 (주)에이엘에스 경기도 안산시 단원구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2010-0637570-03
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.11.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0651365-59
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.01.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0010903-00
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.01.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0010904-45
5 등록결정서
Decision to grant
2012.02.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0116373-00
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
활성 영역과 더미 영역을 포함하며, 소자 칩을 외부 회로와 전기적으로 연결하는 리드부;상기 리드부의 제 1 면에 형성되며, 상기 실장되는 소자 칩과 리드부 사이를절연하는 절연층;상기 리드부의 제 1 면에 형성되며, 상기 소자 칩의 실장 영역 이외의 영역에 형성되는 이너 리드; 및상기 리드부의 제 2 면에 형성되며, 상기 소자 칩의 실장 영역에 형성되는 아우터 리드를 포함하며,상기 절연층, 이너 리드 및 아우터 리드는 상기 리드부의 활성 영역에 각각 형성되는 리드 프레임
2 2
제 1항에 있어서,상기 리드부 및 절연층에는 상기 소자 칩의 하면을 노출하는 관통 홀이 형성되어 있으며, 상기 관통 홀은 본딩 페이스트로 매립되는 리드 프레임
3 3
삭제
4 4
삭제
5 5
리드 프레임 기판을 준비하는 단계;상기 리드 프레임 기판의 제 1 면에 복수의 이너 리드를 형성하고, 상기 제 1 면과 반대되는 제 2 면에 복수의 아우터 리드를 형성하는 단계; 상기 이너 리드 및 아우터 리드가 형성된 리드 프레임 기판 아래에 캐리어를 형성하는 단계; 상기 캐리어가 형성된 리드 프레임 기판에 회로를 형성하는 단계; 및상기 리드 프레임 기판 아래에 형성된 캐리어를 제거하는 단계가 포함되며,상기 리드 프레임 기판은 상기 회로가 형성되는 활성 영역과, 상기 활성 영역을 제외한 더미 영역으로 구분되며,상기 캐리어는 상기 리드 프레임 기판의 더미 영역에 형성된 접착 페이스트에 의해 상기 리드 프레임 기판 아래에 부착되는 리드 프레임의 제조 방법
6 6
제 5항에 있어서,상기 복수의 아우터 리드는 상기 형성된 복수의 이너 리드 사이에 형성되는 리드 프레임의 제조 방법
7 7
삭제
8 8
삭제
9 9
제 5항에 있어서,상기 회로를 형성하는 단계는상기 리드 프레임 기판의 제 1 면에 절연층을 형성하는 단계와,상기 형성될 회로의 형상에 대응되게 상기 형성된 절연층을 식각하는 단계와,상기 식각된 절연층을 마스크로 상기 리드 프레임 기판을 식각하여 상기 회로를 형성하는 단계를 포함하는 리드 프레임의 제조 방법
10 10
제 9항에 있어서,상기 식각 단계에 의해 상기 절연층 및 리드 프레임 기판에 형성된 관통 홀을 매립하며 본딩 페이스트를 도포하는 단계가 더 포함되는 리드 프레임의 제조 방법
11 11
제 10항에 있어서,상기 본딩 페이스트를 도포하는 단계는상기 관통 홀이 매립되도록 상기 형성된 관통 홀 내에 본딩 페이스트를 도포하는 단계와,상기 본딩 페이스트 위에 소자 칩을 부착하는 단계와,상기 소자 칩과 상기 이너 리드를 와이어 본딩하는 단계를 포함하는 리드 프레임의 제조 방법
12 12
제 11항에 있어서,상기 본딩 페이스트를 도포하는 단계는상기 소자 칩을 봉지하는 단계를 더 포함하는 리드 프레임의 제조 방법
13 13
제 5항에 있어서,상기 캐리어를 제거하는 단계는상기 접착 페이스트가 도포된 더미 영역을 다이싱하여 상기 리드 프레임 기판을 활성 영역과 더미 영역으로 분리하는 단계인 것을 특징으로 하는 리드 프레임의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.