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지지 기판 상에 제1 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 상기 광 흡수층 상에 계면 활성제를 위치시키고 열처리하는 단계; 및상기 광 흡수층 상에 제2 전극층을 형성하는 단계 를 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 계면 활성제가 소듐(sodium, Na)을 포함하여 상기 소듐이 상기 광 흡수층 내로 확산되는 태양 전지의 제조 방법
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제2항에 있어서, 상기 계면 활성제는 소듐 팔미테이트(sodium palmitate)(CH3(CH2)14CO2Na), 소듐 라우릴 설페이트(sodium lauryl sulphate, SLS), 알파 술폰산 소듐(alpha sulfonic acid sodium) 및 알파 올레핀 술폰산 소듐(alpha olefin sulfonic acid sodium) 중 적어도 하나의 물질을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리하는 단계의 열처리 온도는 50℃ 내지 100℃의 온도인 태양 전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리하는 단계와 상기 제2 전극층을 형성하는 단계 사이에, 상기 계면 활성제가 위치한 상기 광 흡수층을 세정하는 단계; 및 상기 열처리 단계 이후에 진행되는 후 열처리하는 단계를 더 포함하고,상기 후 열처리하는 단계의 열처리 온도는 150 ℃ 내지 300 ℃인 태양 전지의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 열처리하는 단계 이후에 상기 광 흡수층 상에 버퍼층을 형성하는 단계를 더 포함하고, 상기 제2 전극층을 형성하는 단계에서는 상기 버퍼층 상에 상기 제2 전극층을 형성하는 태양 전지의 제조 방법
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7 |
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제1항에 있어서, 상기 광 흡수층 상에 계면 활성제를 위치시키고 열처리하는 단계는, 상기 광 흡수층 상에 상기 계면 활성제를 포함하는 버퍼층 형성 용액을 위치시키고 상기 버퍼층 형성 용액의 반응을 위하여 열처리하는 단계에서 수행되는 태양 전지의 제조 방법
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지지 기판 상에 제1 전극층을 형성하는 단계; 상기 제1 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 상기 광 흡수층 상에 계면 활성제를 위치시키는 단계; 상기 계면 활성제가 위치한 상기 광 흡수층을 세정하는 단계; 상기 광 흡수층을 후 열처리하는 단계; 상기 광 흡수층에 버퍼층을 형성하는 단계; 및상기 버퍼층 상에 제2 전극층을 형성하는 단계 를 포함하는 태양 전지의 제조 방법
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제8항에 있어서, 상기 후 열처리 단계의 온도가 150℃ 내지 300℃인 태양 전지의 제조 방법
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지지 기판; 상기 지지 기판 상에 위치하는 제1 전극층;상기 제1 전극층 상에 위치하는 광 흡수층;상기 광 흡수층 상에서 상기 광 흡수층에 접촉 형성되는 버퍼층; 및 상기 버퍼층 상에 위치하는 제2 전극층을 포함하고, 상기 광 흡수층이 소듐을 포함하고, 상기 광 흡수층의 소듐 함량은 상기 버퍼층에 접촉하는 상기 광 흡수층의 제1 면으로부터 상기 제1 전극층에 인접한 상기 광 흡수층의 제2 면을 향하면서 줄어드는 태양 전지
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