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기판;상기 기판 상에 배치되는 전극층;상기 전극층 상에 배치되는 광 흡수층; 및상기 광 흡수층 상에 배치되는 윈도우층을 포함하고,상기 기판은지지층; 및상기 지지층 상에 배치되고, 상기 전극층에 인접하는 열팽창 완화층을 포함하고,상기 열팽창 완화층은 폴리머층을 포함하고, 상기 폴리머층에는 금속이 도핑되는 태양전지
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제 1 항에 있어서, 상기 지지층 및 상기 열팽창 완화층은 일체로 형성되는 태양전지
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삭제
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제 1 항에 있어서, 상기 금속은 크롬, 바나듐, 네오디뮴, 탄탈륨 또는 몰리브덴으로부터 선택되는 태양전지
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제 1 항에 있어서, 상기 열팽창 완화층의 두께는 50㎚ 내지 500㎚인 태양전지
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제 1 항에 있어서, 상기 지지층 및 상기 열팽창 완화층은 폴리이미드를 포함하고,상기 전극층은 몰리브덴을 포함하고,상기 열팽창 완화층에는 금속이 도핑되는 태양전지
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금속이 주입된 폴리머 기판;상기 폴리머 기판 상에 형성되는 전극층;상기 전극층 상에 배치되는 광 흡수층; 및상기 광 흡수층 상에 배치되는 윈도우층을 포함하는 태양전지
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8
제 7 항에 있어서,상기 폴리머 기판은 폴리이미드를 포함하고,상기 전극층은 몰리브덴을 포함하고,상기 금속의 열팽창 계수는 몰리브덴의 열팽창 계수보다 낮고, 폴리이미드의 열팽창 계수보다 더 높은 태양전지
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9
기판에 금속을 주입하여, 열팽창 완화층을 형성하는 단계;상기 열팽창 완화층 상에 전극층을 형성하는 단계;상기 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계; 및상기 광 흡수층 상에 윈도우층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지의 제조방법
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10
제 9 항에 있어서, 상기 금속의 열팽창 계수는 상기 전극층의 열팽창 계수보다 낮은 태양전지의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 금속은 상기 전극층에 포함된 금속과 다른 태양전지의 제조방법
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제 9 항에 있어서, 상기 기판에 금속을 주입하는 단계에서, 상기 기판의 상면에 요철이 형성되는 태양전지의 제조방법
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