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트리클로로실란 제조용 유동층 반응장치

  • 기술번호 : KST2015062774
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요약 본 발명은 일측면으로서, 금속 실리콘 분말과 상기 염화수소 가스가 반응하는 파이프부; 및 상기 파이프부의 상단에 연결되고, 상기 파이프보다 더 큰 입경을 가지며, 내벽에 적어도 하나의 배플(baffle)이 설치된 팽창탱크부를 포함하는 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조용 유동층 반응장치를 제공함으로써, 상기 반응과정에서 발생하는 실리콘 미분의 비산에 의한 장치의 폐색을 저비용 및 고효율로 달성함으로써, 실리콘 제조비용을 저감시키고 실리콘 생산성을 확대할 수 있고, 이에 따라 경제성장 및 전자산업 발전에 기여할 수 있다.
Int. CL B01J 19/02 (2006.01) C01B 33/107 (2006.01)
CPC C01B 33/1071(2013.01) C01B 33/1071(2013.01) C01B 33/1071(2013.01)
출원번호/일자 1020100096269 (2010.10.04)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1336302-0000 (2013.11.26)
공개번호/일자 10-2012-0034895 (2012.04.13) 문서열기
공고번호/일자 (20131202) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.09.21)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최철환 대한민국 대전광역시 유성구
2 최광욱 대한민국 대전광역시 유성구
3 강성훈 대한민국 대전광역시 유성구
4 류창석 대한민국 대전광역시 서구
5 김균중 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
6 임예훈 대한민국 대전광역시 유성구
7 홍유식 미국 대전광역시 유성구
8 박성현 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2010-0638916-75
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2011.09.21 수리 (Accepted) 1-1-2011-0735935-75
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.04.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.05.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0039144-28
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.05.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0313801-06
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.06.17 수리 (Accepted) 1-1-2013-0534880-17
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.06.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0534881-63
8 등록결정서
Decision to grant
2013.11.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0814329-18
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
11 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2018.06.12 수리 (Accepted) 1-1-2018-0576208-12
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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금속 실리콘 분말과 염화수소 가스가 반응하는 파이프부; 및상기 파이프부의 상단에 연결되고, 상기 파이프부보다 더 큰 입경을 가지며, 내벽에 적어도 하나의 배플(baffle)이 설치된 팽창탱크부를 포함하며,상기 배플과 상기 팽창탱크부의 내벽이 접합되는 부분에 회수구멍이 형성된 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조용 유동층 반응장치
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청구항 1에 있어서,상기 배플이 상기 팽창탱크부 높이의 1/10 ~ 1/3의 간격으로 적어도 둘 이상 설치된 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조용 유동층 반응장치
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삭제
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청구항 1에 있어서,상기 배플은 상기 팽창탱크부의 내벽으로부터 멀어질수록 상방향으로 경사지는 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조용 유동층 반응장치
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청구항 1에 있어서,상기 회수구멍의 상부에 가스 공급관이 설치된 것을 특징으로 하는 트리클로로실란 제조용 유동층 반응장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.