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베이스 기판;상기 베이스 기판의 가장 자리에 기설정된 폭으로 접착되고, 최외곽이 라운드 가공된 지지부; 및상기 지지부의 가장 자리 상에 구비된 코팅층을 포함하는 웨이퍼 지지 부재
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제 1 항에 있어서,상기 코팅층은 에폭시 코팅층인 웨이퍼 지지 부재
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제 1 항에 있어서,상기 코팅층은 에폭시와 폴리머가 2 대 1 내지 4 대 1의 질량비로 포함된 웨이퍼 지지 부재
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제 1 항에 있어서,상기 코팅층은 라운드 가공된 지지부의 가장 자리 상에 0
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제 1 항에 있어서,상기 코팅층은 상기 지지부의 라운드 가공된 부분보다 넓게 구비된 웨이퍼 지지 부재
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제 1 항에 있어서,상기 코팅층의 폭과 상기 지지부의 라운드 가공된 부분의 폭의 비는 1
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제 6 항에 있어서,상기 코팅층은 상기 지지부의 라운드 가공되지 않은 부분에 0
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베이스 기판의 가장 자리에 복수 개의 층으로 이루어진 지지부를 적층하는 단계;상기 지지부의 가장 자리를 라운드 가공하는 단계; 및상기 지지부의 라운드 가공된 부분을 코팅하는 단계를 포함하는 웨이퍼 지지 부재의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 코팅하는 단계는,에폭시와 폴리머가 2 대 1 내지 4 대 1로 포함된 재료를 도포하고 건조하는 웨이퍼 지지 부재의 제조방법
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제 9 항에 있어서,상기 건조 단계는,상기 재료를 45℃이상에서 1차 건조하고, 상온에서 2차 건조하는 웨이퍼 지지 부재의 제조방법
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제 8 항에 있어서,상기 코팅 단계는,상기 지지부 가장 자리에 라운드 가공된 부분에, 에폭시와 폴리머를 포함한 재료를 0
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제 8 항에 있어서,상기 코팅 단계에서,상기 지지부의 라운드 가공된 부분의 폭의 1
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제 8 항에 있어서,상기 코팅 단계에서,상기 지지부의 라운드 가공되지 않은 부분에 에폭시와 폴리머가 포함된 재료가 0
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웨이퍼를 지지하는 웨이퍼 지지 부재;상기 웨이퍼 지지 부재를 가압하는 가압 유닛; 및상기 가압 유닛에 압력을 공급하는 압력 제공 유닛을 포함하고,상기 웨이퍼 지지 부재는 베이스 기판과, 상기 베이스 기판의 가장 자리에 기설정된 폭으로 접착되고 최외곽이 라운드 가공된 지지부, 및 상기 지지 부재의 가장 자리 상에 구비된 코팅층을 포함하는 웨이퍼 연마 유닛
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