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소정의 광을 출사하는 조명부;상기 조명부의 광을 전달받아 소정의 패턴을 갖는 광으로 출사하는 공간 광변조기(Spatial Light Modulator; SLM);상기 공간 광변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander);상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 마이크로 렌즈 어레이(Micro Lens Array; MLA); 및상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈(Projection Lens); 를 구비하되,상기 마이크로 렌즈 어레이와 프로젝션 렌즈 사이에, 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴을 갖는 공간 필터(Spatial Filter)를 포함하고,상기 공간 필터는, 상기 마이크로 렌즈 어레이에서 분리되어 집광되는 광을 투과시키며, 서로 이격되어 형성되는 복수의 홀(hole)을 구비하되, 상기 홀(hole)은 N x N 사이즈의 어레이 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
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제 1항에 있어서, 상기 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴은, 공간필터가 포함하는 복수의 홀 중에서 1 X N 또는 N X 1 사이즈의 홀(hole)상에 형성되는 라인 형태의 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
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제 1항에 있어서, 상기 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴은, 공간필터가 포함하는 복수의 홀 중에서 N X N 사이즈의 홀(hole)상에 형성되는 어레이(Array) 형태의 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
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제 1항에 있어서, 상기 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴은, 위상반전 마스크를 이용하여 상기 공간 필터에 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
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제 5항에 있어서, 상기 위상반전 마스크는, 감쇄형 위상반전 마스크(Attenuated Phase Shift mask), 얼터내이팅 위상반전 마스크(alternating phase shift mask), 아웃-리거 위상반전 마스크(out-rigger phase shift mask), 또는 크롬리스 위상반전 마스크(Cromless phase shift mask) 또는 림(rim) 형태의 위상 반전 마스크 중에서 선택된 어느 하나의 위상반전 마스크인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
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제 1항에 있어서, 상기 조명부는, 광을 출사하는 광원; 상기 광원으로부터 조사된 광을 반사하는 미러(Mirror); 및상기 미러로부터 반사된 광을 상기 공간 광변조기에 집광하는 플라이 아이 렌즈 및 콘덴서 렌즈;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
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조명부에서 공간 광변조기에 광을 출사하는 단계;상기 공간 광변조기에서 상기 조명부로부터 전달받은 광을 소정의 패턴이 포함된 광으로 반사하는 단계;빔 확장기에서 상기 공간 광변조기에서 반사된 광을 확장시켜 마이크로 렌즈 어레이로 전달하는 단계;상기 마이크로 렌즈 어레이에서 상기 빔확장기로부터 전달된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광하는 단계; 상기 마이크로 렌즈 어레이에서 분리되어 집광된 광이 위상 시프터 패턴을 갖는 공간 필터를 통과하는 단계; 및 프로젝션 렌즈에서 상기 공간필터를 통과한 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과하는 단계;를 포함하고,상기 공간 필터는, 상기 마이크로 렌즈 어레이에서 분리되어 집광되는 광을 투과시키며, 서로 이격되어 형성되는 복수의 홀(hole)을 구비하되, 상기 홀(hole)은 N x N 사이즈의 어레이 형태를 갖는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
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제 10항에 있어서, 상기 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴은, 공간필터가 포함하는 복수의 홀 중에서 1 X N 또는 N X 1 사이즈의 홀(hole) 상에 형성되는 라인 형태의 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
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제 10항에 있어서, 상기 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴은, 공간필터가 포함하는 복수의 홀 중에서 N X N 사이즈의 홀(hole) 상에 형성되는 어레이(Array) 형태의 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
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제 10항에 있어서, 상기 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴은, 위상반전 마스크를 이용하여 상기 공간 필터에 위상 시프터(Phase Shifter) 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
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제 15항에 있어서, 상기 위상반전 마스크는, 감쇄형 위상반전 마스크(Attenuated Phase Shift mask), 얼터내이팅 위상반전 마스크(alternating phase shift mask), 아웃-리거 위상반전 마스크(out-rigger phase shift mask), 또는 크롬리스 위상반전 마스크(Cromless phase shift mask) 또는 림(rim) 형태의 위상 반전 마스크 중에서 선택된 어느 하나의 위상반전 마스크인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
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