1 |
1
기판에 제1 전극층을 형성하는 단계;상기 제1 전극층 위에 광 흡수층을 형성하는 단계; 상기 광 흡수층 위에 버퍼층을 형성하는 단계; 상기 버퍼층의 산소 함유량을 감소시키도록 열처리하는 단계; 및상기 버퍼층 위에 제2 전극층을 형성하는 단계 를 포함하고,상기 열처리하는 단계는 진공 또는 수소 분위기 하에서 수행되는 태양 전지의 제조 방법
|
2 |
2
제1항에 있어서, 상기 열처리하는 단계는 급속 어닐링(rapid thermal annealing, RTA) 공정에 의해 수행되는 태양 전지의 제조 방법
|
3 |
3
제1항에 있어서,상기 열처리하는 단계의 열처리 온도가 250 내지 400℃인 태양 전지의 제조 방법
|
4 |
4
삭제
|
5 |
5
제1항에 있어서,상기 열처리하는 단계에 의해 열처리된 버퍼층의 산소 함유량이 2 내지 5 at%인 태양 전지의 제조 방법
|
6 |
6
제1항에 있어서, 상기 열처리하는 단계 이전에 상기 버퍼층의 산소 함유량이 6 at% 이상인 태양 전지의 제조 방법
|
7 |
7
제1항에 있어서, 상기 버퍼층을 형성하는 단계에서는 화학 용액 성장법(chemical bath depositon, CBD)에 의해 상기 버퍼층을 형성하는 태양 전지의 제조 방법
|
8 |
8
제1항에 있어서, 상기 버퍼층이 황화 카드뮴(CdS) 또는 황화 아연(ZnS)을 포함하는 태양 전지의 제조 방법
|
9 |
9
기판;상기 기판 위에 위치하는 제1 전극층;상기 제1 전극층 위에 위치하는 광 흡수층; 상기 광 흡수층 위에 위치하며, 산소 함유량이 2 내지 5 at%인 버퍼층; 및 상기 버퍼층 위에 위치하는 제2 전극층을 포함하고,상기 버퍼층은 진공 또는 수소 분위기 하에서 형성된 태양 전지
|
10 |
10
제9항에 있어서,상기 버퍼층이 황화 카드뮴(CdS) 또는 황화 아연(ZnS)을 포함하는 태양 전지
|