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마스크리스 노광장치 및 노광방법

  • 기술번호 : KST2015062985
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요약 본 발명은 마스크리스 노광장치(Maskless Exposure Apparatus) 및 마스크리스 노광방법에 관한 것으로, 노광된 패턴의 조도 균일성을 향상시킬 수 있는 마스크리스 노광장치 및 마스크리스 노광방법에 관한 것이다.보다 더 구체적으로 본 발명의 일측면에 의하면, 소정의 광을 출사하는 조명부; 상기 조명부의 광을 전달받아 소정의 패턴을 갖는 광으로 출사하는 공간 광변조기(Spatial Light Modulator; SLM); 상기 공간 광변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander); 상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 마이크로 렌즈 어레이(Micro Lens Array; MLA); 및 상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈(Projection Lens); 를 포함하되, 상기 공간 광변조기와 빔 확장기 사이 또는 상기 빔 확장기와 마이크로 렌즈 어레이 사이에, 도즈 컨트롤 필터(Dose Control Filter)를 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치를 제공한다.
Int. CL H01L 21/027 (2006.01) G03F 7/20 (2006.01)
CPC G03F 7/2051(2013.01) G03F 7/2051(2013.01) G03F 7/2051(2013.01) G03F 7/2051(2013.01)
출원번호/일자 1020100100453 (2010.10.14)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2012-0038800 (2012.04.24) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2015.10.14)
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 신영훈 대한민국 경기도 화성
2 김건수 대한민국 경기도 수원시 영통구
3 박명주 대한민국 경기도 수원시 영통구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 황이남 대한민국 서울시 송파구 법원로 ***, ****호 (문정동, 대명벨리온지식산업센터)(아시아나국제특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2010-0664895-58
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.10.14 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0991083-66
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2015.10.14 수리 (Accepted) 1-1-2015-0991084-12
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2016.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0532904-39
6 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.09.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0686811-14
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
소정의 광을 출사하는 조명부;상기 조명부의 광을 전달받아 소정의 패턴을 갖는 광으로 출사하는 공간 광변조기(Spatial Light Modulator; SLM);상기 공간 광변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander);상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 마이크로 렌즈 어레이(Micro Lens Array; MLA); 및상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈(Projection Lens); 를 포함하되, 상기 공간 광변조기와 빔 확장기 사이 또는 상기 빔 확장기와 마이크로 렌즈 어레이 사이에, 도즈 컨트롤 필터(Dose Control Filter)를 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
2 2
소정의 광을 출사하는 조명부;상기 조명부의 광을 전달받아 소정의 패턴을 갖는 광으로 출사하는 공간 광변조기(Spatial Light Modulator; SLM);상기 공간 광변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander);상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 마이크로 렌즈 어레이(Micro Lens Array; MLA); 및상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈(Projection Lens); 를 포함하되,상기 공간 광 변조기는, 외부 신호를 받아 선택적으로 광을 투과시키는 LCD(Liquid Crystal Display) 또는 투과형 LCoS(Liquid Crystal on Silicon)로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
3 3
소정의 광을 출사하는 조명부;상기 조명부의 광을 전달받아 소정의 패턴을 갖는 광으로 출사하는 공간 광변조기(Spatial Light Modulator; SLM);상기 공간 광변조기에서 출사된 광을 확장시키는 빔 확장기(Beam Expander);상기 빔 확장기에서 확장된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광시키는 마이크로 렌즈 어레이(Micro Lens Array; MLA); 및상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과시키는 프로젝션 렌즈(Projection Lens); 를 포함하되, 상기 공간 광 변조기는, 외부 신호를 받아 선택적으로 광을 반사시키는 복수개의 마이크로미러(Micro Mirror)들이 배열되어 있는 디지털 마이크로미러 소자(Digital Micromirror Divice; DMD) 또는 반사형 LCoS(Liquid Crystal on Silicon)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
4 4
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 스캔 스테이지의 위치 정렬정보와 소정의 CAD 데이터를 입력받아 소정의 광 패턴을 생성하고, 이를 상기 공간 광변조기에 전송하는 패턴 생성기(Patter Generator)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
5 5
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조명부로부터 출사되는 광의 각도를 조절하여 상기 공간 광변조기로 전달하고,상기 공간 광변조기로부터 입사되는 소정의 패턴이 포함된 광의 각도를 조절하여, 이를 상기 빔 확장기로 출사하는 TIR(Total Internal Reflection) 프리즘을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
6 6
제 1항에 있어서, 상기 조명부와 공간 광변조기 사이에, 도즈 컨트롤 필터 및 TIR 프리즘을 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
7 7
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 조명부는, 광을 출사하는 광원; 상기 광원으로부터 조사된 광을 반사하는 미러(Mirror); 및상기 미러로부터 반사된 광을 상기 공간 광변조기에 집광하는 플라이 아이 렌즈 및 콘덴서 렌즈; 를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
8 8
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 광원은, 레이저 광 또는 UV광을 출사하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
9 9
제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 마이크로 렌즈 어레이와 프로젝션 렌즈사이에 공간 필터(Spatial Filter)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
10 10
제 1항 또는 제 6항에 있어서, 상기 도즈 컨트롤 필터는,블랭크 마스크(Blank Mask)에 투과되는 광원을 가리기 위한 소정의 패턴을 추가하여 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
11 11
제 10항에 있어서, 상기 도즈 컨트롤 필터는,투과되는 광원을 가리기 위한 적어도 하나 이상의 커팅 픽셀(Cutting Pixel)을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
12 12
제 11항에 있어서, 상기 커팅 픽셀의 크기를 S라 할 때, 상기 S는 ''0um < S ≤ 3um ''의 관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
13 13
제 3항에 있어서, 상기 디지털 마이크로미러 소자는, 상기 복수의 마이크로미러의 기울기 각도 및 포커스 제어가 가능한 브라운호퍼-Institute Photonic Microsytems(IPMS)를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
14 14
조명부에서 공간 광변조기에 광을 출사하는 단계;상기 공간 광변조기에서 상기 조명부로부터 전달받은 광을 소정의 패턴이 포함된 광으로 반사하는 단계;빔 확장기에서 상기 공간 광변조기에서 반사된 광을 확장시켜 마이크로 렌즈 어레이로 전달하는 단계;상기 마이크로 렌즈 어레이에서 빔확장기로부터 전달된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광하는 단계; 및프로젝션 렌즈에서 상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과하는 단계;를 포함하되, 상기 공간 광변조기와 빔 확장기 사이 또는 상기 빔 확장기와 마이크로 렌즈 어레이 사이에, 도즈 컨트롤 필터를 구비하여 광을 통과시키는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
15 15
조명부에서 공간 광변조기에 광을 출사하는 단계;상기 공간 광변조기에서 상기 조명부로부터 전달받은 광을 소정의 패턴이 포함된 광으로 반사하는 단계;빔 확장기에서 상기 공간 광변조기에서 반사된 광을 확장시켜 마이크로 렌즈 어레이로 전달하는 단계;상기 마이크로 렌즈 어레이에서 빔확장기로부터 전달된 광을 복수개의 광들로 분리하여 집광하는 단계; 및프로젝션 렌즈에서 상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과하는 단계;를 포함하되, 상기 공간 광변조기는, LCD, 투과형 LCoS, 반사형 LCoS 또는 디지털 마이크로미러 소자 중에서 선택되는 어느 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
16 16
제 14항 또는 제 15항에 있어서, 패턴 생성기에서 상기 공간 광변조기에 스캔 스테이지의 위치정렬정보 및 소정의 CAD 데이터를 입력하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
17 17
제 14항 또는 제 15항에 있어서, 조명부에서 공간 광변조기에 광을 출사하는 단계는,광원에서 광을 출사하는 단계; 미러에서 상기 광원으로부터 조사된 광을 반사하는 단계; 및 상기 미러로부터 반사된 광이 플라이 아이 렌즈 및 콘덴서 렌즈를 통해 공간 광 변조기에 입력되는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
18 18
제 14항 또는 제 15항에 있어서, 상기 조명부의 광 출사단계 및 상기 공간 광변조기의 광 반사단계는, 상기 조명부에서 광을 TIR 프리즘에 입력하는 단계;상기 TIR 프리즘에서 상기 조명부로부터 출사되는 광의 각도를 조절하여 상기 공간 광변조기로 전달하는 단계; 상기 공간 광변조기에서 상기 TIR 프리즘으로부터 전달받은 광을 소정의 패턴이 포함된 광으로 TIR 프리즘에 재반사하는 단계; 및상기 TIR 프리즘에서 상기 소정의 패턴이 포함된 광의 각도를 조절하여, 이를 상기 빔 확장기로 출사하는 단계;인 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
19 19
제 14항에 있어서, 상기 도즈 컨트롤 필터는,블랭크 마스크에 투과되는 광원을 가리기 위한 소정의 패턴을 추가하여 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
20 20
제 14항에 있어서, 상기 도즈 컨트롤 필터는,투과되는 광원을 가리기 위한 적어도 하나 이상의 커팅 픽셀을 구비하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
21 21
제 14항에 있어서, 상기 커팅 픽셀의 크기를 S라 할 때, 상기 S는 ''0um < S ≤ 3um ''의 관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
22 22
제 14항에 있어서, 상기 프로젝션 렌즈에서 상기 마이크로 렌즈 어레이에서 집광된 광들의 해상도를 조정하여 대상물로 투과하는 단계 후에, 상기 도즈 컨트롤 필터를, 상기 도즈 컨트롤 필터의 커팅 픽셀과 다른 형태의 커팅 픽셀이 구비되어 있는 또 다른 도즈 컨트롤 필터로 교체하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
23 23
제 15항에 있어서, 상기 디지털 마이크로미러 소자가 포함하는 브라운호퍼-Institute Photonic Microsytems(IPMS)를 이용하여 마이크로미러의 기울기 각도 또는 포커스를 제어하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.