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반사기 및 이를 이용한 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기

  • 기술번호 : KST2015063064
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 일측면으로서, 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 내부에 삽입되고, 상기 반응기에 설치되어 있는 슬림 로드를 수용할 수 있는 소정의 내부 공간을 가지며, 내벽에 반사물질이 형성된 것을 특징으로 하는 반사기 및 이를 이용한 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기를 제공함으로써, 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기에서의 복사에너지 손실을 방지할 수 있고, 트리클로로실린의 열분해 반응 효율을 향상시킴으로써, 에너지 소모량의 감소 및 생산비용의 저감을 달성할 수 있고, 이에 따라 경제성장 및 전자산업의 발전에 기여할 수 있다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) F24J 2/10 (2006.01) C23C 16/44 (2006.01) C23C 16/06 (2006.01)
CPC H01L 31/182(2013.01) H01L 31/182(2013.01)
출원번호/일자 1020100110596 (2010.11.08)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1440049-0000 (2014.09.03)
공개번호/일자 10-2012-0049036 (2012.05.16) 문서열기
공고번호/일자 (20140912) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.03.27)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김균중 대한민국 충청북도 청주시 흥덕구
2 류창석 대한민국 대전광역시 서구
3 최광욱 대한민국 대전광역시 유성구
4 최철환 대한민국 대전광역시 유성구
5 임예훈 대한민국 대전광역시 유성구
6 홍유식 미국 대전광역시 유성구
7 강성훈 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인씨엔에스 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, 대림아크로텔 *층(도곡동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.11.08 수리 (Accepted) 1-1-2010-0728219-04
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.03.27 수리 (Accepted) 1-1-2013-0265166-04
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2013.11.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2013.12.17 수리 (Accepted) 9-1-2013-0102371-88
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.03.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0209518-51
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.05.23 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0488498-00
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.05.23 수리 (Accepted) 1-1-2014-0488497-54
8 등록결정서
Decision to grant
2014.08.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0554901-38
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 내부에 삽입되고, 상기 반응기에 설치되어 있는 슬림 로드를 수용할 수 있는 소정의 내부 공간을 가지며, 내벽에 반사물질이 형성되고, 상기 반사물질은 Mo, Ta 및 W로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 반사기
2 2
청구항 1에 있어서,상기 반사물질은 녹는점이 1500℃ 이상인 것을 특징으로 하는 반사기
3 3
청구항 1 또는 2에 있어서,상기 반사물질은 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 반사기
4 4
삭제
5 5
폴리실리콘 제조용 CVD 반응기의 내부에 삽입되고, 상기 반응기에 설치되어 있는 슬림 로드를 수용할 수 있는 소정의 내부 공간을 가지며, 내벽에 반사물질이 형성된 반사기를 포함하고, 상기 반사물질은 Mo, Ta 및 W로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기
6 6
청구항 5에 있어서,상기 반사물질은 녹는점이 1500℃ 이상인 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기
7 7
청구항 5 또는 6에 있어서,상기 반사물질은 반사율이 50% 이상인 것을 특징으로 하는 폴리실리콘 제조용 CVD 반응기
8 8
삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.