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터치 스크린 제조방법

  • 기술번호 : KST2015063172
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요약 본 발명은 베이스 기판상에 투명 도전층을 형성한 후 패터닝하여, 상기 베이스 기판의 중앙에 전극패턴을 형성하고 외측에는 배선패턴을 형성하는 단계와, 상기 전극패턴을 마스킹하고 상기 배선패턴 상에 버퍼층과 금속층을 순차로 형성하는 단계, 및 상기 전극패턴에 형성된 마스킹을 제거하는 단계를 포함하는 터치 스크린 제조방법을 개시한다.
Int. CL G06F 3/041 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01)
CPC G06F 3/0412(2013.01) G06F 3/0412(2013.01) G06F 3/0412(2013.01)
출원번호/일자 1020100104432 (2010.10.26)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1155462-0000 (2012.06.05)
공개번호/일자 10-2012-0043239 (2012.05.04) 문서열기
공고번호/일자 (20120615) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.10.26)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김창제 대한민국 서울특별시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 중구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.10.26 수리 (Accepted) 1-1-2010-0691430-75
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2011.10.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2011-0631483-70
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2011.12.28 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2011-1045320-90
4 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2011.12.28 수리 (Accepted) 1-1-2011-1045321-35
5 등록결정서
Decision to grant
2012.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0315855-62
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
베이스 기판상에 투명 도전층을 형성한 후 패터닝하여, 상기 베이스 기판의 중앙에 전극패턴을 형성하고 외측에는 배선패턴을 형성하는 단계;상기 전극패턴을 마스킹하고 상기 배선패턴 상에 버퍼층과 금속층을 순차로 형성하는 단계; 및상기 전극패턴에 형성된 마스킹을 제거하는 단계;를 포함하는 터치 스크린 제조방법
2 2
삭제
3 3
제1항에 있어서, 상기 배선패턴은 상기 전극패턴과 이격되고 복수 개로 형성되는 터치 스크린 제조방법
4 4
제3항에 있어서, 상기 배선패턴 간의 간격은 상기 금속층의 두께보다 넓게 형성되는 터치 스크린 제조방법
5 5
제1항에 있어서, 상기 금속층은 금(Au), 은(Ag), 구리(Cu), 몰디브덴(Mo), 니켈(Ni), 주석(Sn), 크롬(Cr), 아연(Zn), 알루미늄(Al)으로 이루어진 그룹에서 선택된 어느 하나 이상의 금속으로 형성되는 터치 스크린 제조방법
6 6
제1항에 있어서, 상기 금속층은 0
7 7
제1항에 있어서, 상기 금속층은 전해도금법 또는 무전해도금법으로 상기 배선패턴 상에 형성되는 터치 스크린 제조방법
8 8
삭제
9 9
제1항에 있어서, 상기 버퍼층은 납(pd), 티타늄(Ti), 구리(Cu), 몰리브덴(Mo)으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상으로 금속으로 형성되는 터치 스크린 제조방법
10 10
제1항에 있어서, 상기 버퍼층은 50 ~ 300Å의 두께로 형성되는 터치 스크린 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.