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평면 구조의 기판 상부에 희생층을 코팅시키는 단계; 상기 코팅된 희생층 상부에 POSS(polyhedral oligomeric silsesquioxane)로 이루어진 패턴형성층을 코팅시키는 단계; 상기 코팅된 패턴형성층 상부에 미세 패턴을 형성시키는 단계; 상기 희생층을 식각하여 기판으로부터 패턴형성층을 분리시키는 단계; 및상기 분리된 패턴형성층을 적용 대상 물품에 접착시키는 단계를 포함하는 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 기판 재료는 실리콘 또는 유리인 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 미세 패턴 형성 방법은 레이저 간섭 노광 방법인 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 희생층의 코팅은 실리콘산화물을 사용하는 것인 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 희생층의 코팅방법은 액상박막증착방법, 기체박막증착방법 또는 화학박막증착방법인 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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삭제
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제1항에 있어서, 상기 패턴형성층의 코팅 방법은 액상박막증착방법, 기체박막증착방법 또는 화학박막증착방법인 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 미세 패턴을 레이저 간섭 노광 방법을 이용하여 형성시키는 경우 10 내지 900 mW를 사용하여 노광시키는 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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제1항에 있어서, 상기 적용 대상 물품은 유연표시소자, 플렉서블 디바이스, 유연 전자소자 또는 태양전지인 미세 패턴의 비평면적 전사 방법
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제1항 내지 제5항 및 제7항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 미세 패턴의 비평면적 전사 방법을 이용하여 미세 패턴을 전사한 물품
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11
제10항에 있어서, 상기 물품은 유연표시소자, 플렉서블 디바이스, 유연 전자소자 또는 태양전지인 물품
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