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원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법

  • 기술번호 : KST2015063970
  • 담당센터 : 경기기술혁신센터
  • 전화번호 : 031-8006-1570
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법에 관한 것으로, 유기박막 태양전지 제조방법에 있어서, 준비된 기판 표면으로 서로 수평한 벽면(wall ; 110)이 나란히 형성되도록 패턴화하여 기판을 제조하는 단계, 상기 기판 벽면이 형성된 표면으로 하부전극(애노드 ; 200) 패턴을 형성하는 단계, 상기 전극 패턴 표면으로 버퍼층(300)을 형성하는 단계, 상기 버퍼층 표면으로 활성층(유기광전층 ; 400)을 형성하는 단계, 상기 활성층 표면으로 전자수용층(500)을 형성하는 단계 및 상기 전자수용층 표면으로 상부전극(캐소드 ; 600) 패턴을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.
Int. CL H01L 51/42 (2014.01)
CPC H01L 51/442(2013.01) H01L 51/442(2013.01)
출원번호/일자 1020100140337 (2010.12.31)
출원인 한국생산기술연구원
등록번호/일자 10-1112058-0000 (2012.01.27)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20120224) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2010.12.31)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국생산기술연구원 대한민국 충청남도 천안시 서북구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 유경훈 대한민국 서울특별시 강남구
2 조영준 대한민국 경기 용인시 구
3 이낙규 대한민국 인천광역시 연수구
4 강희석 대한민국 서울특별시 강남구
5 강경태 대한민국 서울특별시 서초구
6 이상호 대한민국 서울특별시 관악구
7 황준영 대한민국 경기도 용인시 수지구
8 강정진 대한민국 서울특별시 서대문구
9 송근수 대한민국 경기도 의정부시 회룡로***
10 김형태 대한민국 경기도 의정부시 회룡로***

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 공인복 대한민국 서울특별시 서초구 바우뫼로**길*-**, 대송빌딩 *층(특허법인 대한(서초분사무소))

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2010.12.31 수리 (Accepted) 1-1-2010-0880543-14
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2011.12.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.01.16 수리 (Accepted) 9-1-2012-0005111-92
4 등록결정서
Decision to grant
2012.01.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0036412-38
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.02 수리 (Accepted) 4-1-2012-5068733-13
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.04.26 수리 (Accepted) 4-1-2012-5090658-47
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.01.29 수리 (Accepted) 4-1-2013-5017806-08
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.16 수리 (Accepted) 4-1-2015-5006834-98
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.02 수리 (Accepted) 4-1-2018-5123030-77
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번호 청구항
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유기박막 태양전지 제조방법에 있어서,준비된 기판 표면으로 서로 수평한 벽면(wall)이 소정의 간격으로 나란히 형성되도록 패턴화하여 기판을 제조하는 단계;스핀 코팅을 이용하여 상기 기판 표면으로 소수성 물질을 코팅하는 단계;소수성 물질이 코팅된 기판 표면에 형성할 하부전극 패턴에 따른 마스크를 위치시키는 단계;자외선을 10분 이상 조사하여 마스크 패턴에 따라 소수성 물질을 친수성으로 변화시키는 단계;300nm 이상 두께를 갖도록 상기 하부전극을 증착시키는 단계;상기 하부전극 패턴 표면으로 버퍼층을 형성하는 단계;상기 버퍼층 표면으로 활성층(유기광전층)을 형성하는 단계;상기 활성층 표면으로 전자수용층을 형성하는 단계; 및상기 전자수용층 표면으로 상부전극(캐소드) 패턴을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
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유기박막 태양전지 제조방법에 있어서,준비된 기판 표면으로 서로 수평한 벽면(wall)이 소정의 간격으로 나란히 형성되도록 패턴화하여 기판을 제조하는 단계;스핀 코팅을 이용하여 상기 기판 표면으로 소수성 물질을 코팅하는 단계;소수성 물질이 코팅된 기판 표면에 형성할 하부전극 패턴에 따른 마스크를 위치시키는 단계;자외선을 10분 이상 조사하여 마스크 패턴에 따라 소수성 물질을 친수성으로 변화시키는 단계;300nm 이상 두께를 갖도록 상기 하부전극을 증착시키는 단계;상기 기판 벽면과 하부전극이 형성된 상태에서 하부전극 패턴 위에 상기 벽면에 수직하는 칸막이 벽을 일정 간격으로 형성하여 다수의 격자형구조의 전극 패턴을 구성하는 단계;상기 전극 패턴 표면으로 버퍼층을 형성하는 단계;상기 버퍼층 표면으로 활성층(유기광전층)을 형성하는 단계;상기 활성층 표면으로 전자수용층을 형성하는 단계; 및상기 전자수용층 표면으로 상부전극(캐소드) 패턴을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
3 3
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 기판은,유리 온도가 섭씨 250 도 이하이고 투명한 필름으로 구비되는 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
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제 1항 또는 2항에 있어서, 상기 기판 제조단계는,벽면이 형성된 스탬퍼와 기판을 챔버 내 성형기에 장착하는 단계;상기 챔버를 진공 상태로 전환하는 단계; 및상기 스탬퍼에 형성된 벽면 패턴이 상기 기판에 전사되도록 가열온도와 가압력, 가압시간을 제어하여 전사하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 기판의 벽면은,각 벽면 간의 간격은 5 mm 이하이고, 벽면의 길이는 벽면 간의 간격의 약 10 배 이상이며, 벽면의 폭은 100 마이크로미터, 기판의 두께, 벽면 간의 간격의 1/10 중 가장 작은 크기 이하인 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
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제 2항에 있어서, 상기 기판의 칸막이 벽의 간격은,상기 기판의 벽면의 간격의 10 배 이하인 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 버퍼층은,PEDT(poly ethylenedioxythiophene)/PSS(poly styrene sulphonicacid)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
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제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 전자수용층은,LiF(Lithium Fluoride)나 LiO2로 형성되는 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
9 9
제 1항 또는 제 2항에 있어서,상기 하부전극과 상부전극 패턴은 서로 이격되도록 형성되는 것을 특징으로 하는 채널구조의 유기박막 태양전지 제조방법
10 10
제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 버퍼층을 형성시키는 단계와 활성층(유기광전층)을 형성하는 단계는,잉크젯 인쇄, 에어로졸젯 인쇄, EHD(electrohydrodynamic) 젯 인쇄, 그라비아 인쇄, 그라비아옵셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄 중 어느 하나의 인쇄기법인 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
11 11
제 2항에 있어서, 상기 기판의 칸막이 벽을 형성시키는 단계는,잉크젯 인쇄, 에어로졸젯 인쇄, EHD(electrohydrodynamic) 젯 인쇄, 그라비아 인쇄, 그라비아옵셋 인쇄, 플렉소 인쇄, 스크린 인쇄 중 어느 하나의 인쇄기법인 것을 특징으로 하는 원자층 형성 공정의 선택적 증착으로 투명전극이 제조된 채널 구조의 태양전지 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.