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질화물계 반도체 발광 소자에 있어서,도전성 기판;상기 도전성 기판 상에 위치하는 반사 전극; 및상기 반사 전극 상에 위치하며, 제 1전도성 반도체층, 상기 제 1전도성 반도체층 상에 위치하는 활성층, 및 상기 활성층 상에 위치하고 발광면 상에 광 추출 구조를 갖는 제 2전도성 반도체층을 포함하는 반도체 구조를 포함하고,상기 제 1전도성 반도체층의 두께 및 상기 반도체 구조 전체의 두께는, 상기 활성층에서 직접 방출되는 광과 상기 활성층에서 방출되어 상기 반사 전극에서 반사된 광에 의한 간섭 현상의 보강 간섭 조건에 해당하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 보강 간섭 조건은, 상기 제 1전도성 반도체층의 두께 및 상기 반도체 구조의 두께가 λ/4n의 홀수배±10 nm(상기 λ는 방출되는 빛의 파장, 상기 n은 반도체층의 굴절률)인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 광 추출 구조는, 제 2전도성 반도체층의 발광면에 위치하는 거친 표면인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 광 추출 구조는, 제 2전도성 반도체층의 발광면에 불규칙하게 배열되는 육각뿔 또는 육각 기둥 구조인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 광 추출 구조는, 제 2전도성 반도체층의 발광면에 위치하는 요철 구조인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 광 추출 구조는, 광 결정인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 도전성 기판은, 금속 또는 반도체를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 제 1전도성 반도체층의 두께는, 상기 반사 전극에서 활성층 사이의 최단거리인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 반도체 구조 전체의 두께는, 상기 반사 전극에서 상기 발광면 사이의 최단거리인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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10
제 1항에 있어서, 상기 반도체 구조 상에 패시베이션층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 도전성 기판과 반사 전극 사이에는 결합층을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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질화물계 반도체 발광 소자에 있어서,도전성 기판;상기 도전성 기판 상에 위치하는 반사 전극; 및상기 반사 전극 상에 위치하며, 제 1전도성 반도체층, 상기 제 1전도성 반도체층 상에 위치하는 활성층, 및 상기 활성층 상에 위치하고 발광면 상에 광 추출 구조를 갖는 제 2전도성 반도체층을 포함하는 반도체 구조를 포함하고,상기 반사 전극에서 활성층 사이의 최단거리 및 상기 반사 전극에서 상기 발광면 사이의 최단거리는, λ/4n의 홀수배±10 nm(상기 λ는 방출되는 빛의 파장, 상기 n은 반도체층의 굴절률)를 만족하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 발광 소자
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