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질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015064650
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요약 본 발명은 반도체 소자에 관한 것으로 특히, 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자 및 그 제조방법에 관한 것이다. 이러한 본 발명은, 상부에 2DEG층을 포함하는 질화물 반도체 버퍼층; 상기 버퍼층 상에 위치하는 장벽층; 상기 장벽층 상에 불연속적으로 위치하는 캡층; 상기 장벽층 및 캡층 중 적어도 어느 하나와 오믹 접촉되는 소스 및 드레인 전극; 및 상기 장벽층 및 캡층 중 적어도 어느 하나와 쇼트키 접촉되며, 상기 소스 및 드레인 전극 사이에 위치하는 게이트 전극을 포함하여 구성된다.
Int. CL H01L 29/737 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020110073586 (2011.07.25)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-1259126-0000 (2013.04.22)
공개번호/일자 10-2013-0012406 (2013.02.04) 문서열기
공고번호/일자 (20130426) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.07.25)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박진홍 대한민국 서울특별시 서초구
2 김광중 대한민국 서울특별시 서초구
3 장태훈 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)
2 박영복 대한민국 서울특별시 강남구 논현로**길 **, *층(역삼동, 삼화빌딩)(특허법인 두성)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.07.25 수리 (Accepted) 1-1-2011-0572838-10
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.03.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.04.19 수리 (Accepted) 9-1-2012-0031432-97
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0580197-76
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.11.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0931338-15
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.11.13 수리 (Accepted) 1-1-2012-0931339-50
7 등록결정서
Decision to grant
2013.03.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0154636-27
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
질화물 반도체 버퍼층;상기 버퍼층 상에 위치하는 장벽층;상기 장벽층 상에 불연속적으로 위치하며, 상기 장벽층 면적의 30% 내지 70%를 덮는 캡층;상기 장벽층 및 캡층과 접촉되는 소스 및 드레인 전극; 및상기 장벽층 및 캡층과 접촉되며, 상기 소스 및 드레인 전극 사이에 위치하는 게이트 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
2 2
제 1항에 있어서, 상기 캡층은, AlN 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
3 3
제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 상기 장벽층 상에 불규칙적으로 분포되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
4 4
제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 양자 점 형태인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
5 5
제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 소자의 문턱 전압을 높이기 위한 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
6 6
제 1항에 있어서, 상기 캡층의 두께 분포는, 0 nm 내지 3 nm인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
7 7
제 1항에 있어서, 상기 소스 및 드레인 전극은, Ti 및 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
8 8
제 1항에 있어서, 상기 게이트 전극은, Ni, Ir, Pd, 및 Pt 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
9 9
제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 적어도 일부분에서 서로 이격되어 분포되는 다수의 기둥들로 이루어지는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
10 10
제 9항에 있어서, 상기 기둥들은, 상기 소스 전극, 드레인 전극, 및 게이트 전극에 덮인 기둥을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
11 11
제 1항에 있어서, 상기 소스 및 드레인 전극은, 상기 장벽층 및 캡층 중 적어도 어느 하나와 오믹 접촉되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
12 12
제 1항에 있어서, 상기 게이트 전극은, 상기 장벽층 및 캡층 중 적어도 어느 하나와 쇼트키 접촉되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
13 13
기판 상에 질화물 반도체 버퍼층을 형성하는 단계;상기 질화물 반도체 버퍼층 상에 장벽층을 형성하는 단계;성장 조건을 조절하여 상기 장벽층 상에 장벽층의 전체 면적의 30% 내지 70%를 덮는 불연속 형태의 캡층을 형성하는 단계;상기 장벽층 및 캡층과 접촉되는 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 및상기 장벽층 및 캡층과 접촉되며, 상기 소스 및 드레인 전극 사이에 위치하는 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자의 제조 방법
14 14
제 13항에 있어서, 상기 캡층은, 상기 장벽층 상에 불규칙적으로 분포되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자의 제조 방법
15 15
제 13항에 있어서, 상기 캡층은, AlN 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US08592869 US 미국 FAMILY
2 US20130026450 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US2013026450 US 미국 DOCDBFAMILY
2 US2014054600 US 미국 DOCDBFAMILY
3 US8592869 US 미국 DOCDBFAMILY
4 US9276103 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.