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질화물 반도체 버퍼층;상기 버퍼층 상에 위치하는 장벽층;상기 장벽층 상에 불연속적으로 위치하며, 상기 장벽층 면적의 30% 내지 70%를 덮는 캡층;상기 장벽층 및 캡층과 접촉되는 소스 및 드레인 전극; 및상기 장벽층 및 캡층과 접촉되며, 상기 소스 및 드레인 전극 사이에 위치하는 게이트 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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제 1항에 있어서, 상기 캡층은, AlN 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 상기 장벽층 상에 불규칙적으로 분포되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 양자 점 형태인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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5
제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 소자의 문턱 전압을 높이기 위한 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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6
제 1항에 있어서, 상기 캡층의 두께 분포는, 0 nm 내지 3 nm인 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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7
제 1항에 있어서, 상기 소스 및 드레인 전극은, Ti 및 Al 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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8
제 1항에 있어서, 상기 게이트 전극은, Ni, Ir, Pd, 및 Pt 중 적어도 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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9
제 1항에 있어서, 상기 캡층은, 적어도 일부분에서 서로 이격되어 분포되는 다수의 기둥들로 이루어지는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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10
제 9항에 있어서, 상기 기둥들은, 상기 소스 전극, 드레인 전극, 및 게이트 전극에 덮인 기둥을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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제 1항에 있어서, 상기 소스 및 드레인 전극은, 상기 장벽층 및 캡층 중 적어도 어느 하나와 오믹 접촉되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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12
제 1항에 있어서, 상기 게이트 전극은, 상기 장벽층 및 캡층 중 적어도 어느 하나와 쇼트키 접촉되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자
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기판 상에 질화물 반도체 버퍼층을 형성하는 단계;상기 질화물 반도체 버퍼층 상에 장벽층을 형성하는 단계;성장 조건을 조절하여 상기 장벽층 상에 장벽층의 전체 면적의 30% 내지 70%를 덮는 불연속 형태의 캡층을 형성하는 단계;상기 장벽층 및 캡층과 접촉되는 소스 및 드레인 전극을 형성하는 단계; 및상기 장벽층 및 캡층과 접촉되며, 상기 소스 및 드레인 전극 사이에 위치하는 게이트 전극을 형성하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자의 제조 방법
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제 13항에 있어서, 상기 캡층은, 상기 장벽층 상에 불규칙적으로 분포되는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자의 제조 방법
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제 13항에 있어서, 상기 캡층은, AlN 층을 포함하는 것을 특징으로 하는 질화물계 반도체 이종접합 반도체 소자의 제조 방법
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