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메모리카드, 메모리 카드용 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015064691
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명의 실시 예에 따른 메모리 카드용 인쇄회로기판은, 메모리 카드용 인쇄회로기판에 있어서, 절연층; 상기 절연층의 제 1 면에 형성되고, 메모리 소자와 전기적으로 연결되는 실장부; 및 상기 절연층의 제 2 면에 형성되며, 외부의 전자기기와 전기적으로 연결되는 단자부를 포함하며, 상기 실장부 및 단자부의 표면에는 동일한 금속층이 형성되어 있다.
Int. CL G06K 19/077 (2006.01) H05K 1/18 (2006.01) H05K 3/34 (2006.01)
CPC H05K 1/182(2013.01) H05K 1/182(2013.01) H05K 1/182(2013.01) H05K 1/182(2013.01) H05K 1/182(2013.01)
출원번호/일자 1020110074736 (2011.07.27)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1262561-0000 (2013.05.02)
공개번호/일자 10-2013-0013215 (2013.02.06) 문서열기
공고번호/일자 (20130508) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.07.27)
심사청구항수 15

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 임설희 대한민국 서울특별시 중구
2 엄새란 대한민국 서울특별시 중구
3 박창화 대한민국 서울특별시 중구
4 김애림 대한민국 서울특별시 중구
5 조윤경 대한민국 서울특별시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 중구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.07.27 수리 (Accepted) 1-1-2011-0581995-81
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.07.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.08.22 수리 (Accepted) 9-1-2012-0066753-46
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2012.08.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0494599-76
5 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2012.10.09 수리 (Accepted) 1-1-2012-0819991-04
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2012.10.09 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2012-0819992-49
7 등록결정서
Decision to grant
2013.02.01 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0077073-93
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
메모리 카드용 인쇄회로기판에 있어서,절연층;상기 절연층의 제 1 면에 형성되고, 메모리 소자와 전기적으로 연결되는 실장부; 및상기 절연층의 제 2 면에 형성되며, 외부의 전자기기와 전기적으로 연결되는 단자부를 포함하고,상기 실장부 및 단자부의 표면에는 동일한 성분의 금속층이 형성되어 있으며,상기 금속층은,니켈을 포함하는 금속으로 형성된 니켈층과,금을 포함하는 금속으로 형성된 금층과,상기 니켈층과 금층 사이에 팔라듐을 포함하는 금속으로 형성된 팔라듐층을 포함하는 메모리 카드용 인쇄회로기판
2 2
삭제
3 3
삭제
4 4
제 1항에 있어서,상기 니켈층은, 5~8㎛ 범위를 만족하는 두께로 형성되고,상기 금층은, 0
5 5
제 1항에 있어서,상기 금층은,순수 금층 또는 금-은 합금, 금-구리 합금, 금-팔라듐 합금, 금-아연 합금, 금-코발트 합금 및 금-무기물 합금 중 적어도 어느 하나로 형성된 금합금층인 메모리 카드용 인쇄회로기판
6 6
제 5항에 있어서,상기 금합금층은 80~99
7 7
제 1항에 있어서,상기 실장부, 단자부, 니켈층, 팔라듐층 및 금층 중 적어도 하나의 표면에는 조도가 부여되어 있는 메모리 카드용 인쇄회로기판
8 8
절연층을 포함하는 인쇄회로기판과, 상기 인쇄회로기판의 제 1면의 일정 영역에 실장되는 메모리 소자와, 상기 메모리 소자와 전기적으로 연결되는 제 1 패턴을 포함하고, 상기 인쇄회로기판의 제 2면에 형성되어 외부의 전자기기와 전기적으로 연결되는 제 2 패턴을 포함하는 인쇄회로기판을 포함하는 메모리 카드에 있어서,상기 제 1 패턴의 표면에는 금속 물질을 도금하여 형성된 적어도 하나의 금속층을 포함하며,상기 제 2 패턴의 표면에는 상기 제 1 패턴의 표면에 형성된 금속층과 동일한 성분의 금속층이 형성되어 있으며,상기 금속층은,니켈을 포함하는 금속으로 형성된 니켈층과,금을 포함하는 금속으로 형성된 금층과,상기 니켈층과 금층 사이에 팔라듐을 포함하는 금속으로 형성된 팔라듐층을 포함하는 메모리 카드
9 9
삭제
10 10
삭제
11 11
제 8항에 있어서,상기 니켈층은, 5~8㎛ 범위를 만족하는 두께로 형성되는 순수 니켈층 또는 니켈 합금층이고상기 금층은, 0
12 12
제 8항에 있어서,상기 금층은,순수 금, 금-은 합금, 금-구리 합금, 금-팔라듐 합금, 금-아연 합금, 금-코발트 합금 및 금-무기물 합금 중 적어도 어느 하나로 형성되는 메모리 카드
13 13
제 8항에 있어서,상기 인쇄회로기판의 제 1면을 전체적으로 덮어 보호하는 몰딩 부재를 더 포함하는 메모리 카드
14 14
메모리 카드용 인쇄회로기판의 제조 방법에 있어서,상면 및 하면에 금속 박막이 형성된 절연층을 준비하는 단계;상기 절연층의 상면 및 하면에 형성된 금속 박막을 선택적으로 제거하여 상기 절연층의 상면에 실장부 및 상기 절연층의 하면에 단자부를 형성하는 단계;상기 절연층의 상면 및 하면에 상기 실장부 및 단자부의 표면을 노출하는 포토 솔더 레지스트를 선택적으로 형성하는 단계; 및상기 노출된 실장부 및 단자부의 표면에 동일한 성분의 금속 물질을 도금하여 표면 처리하는 단계를 포함하며,상기 표면 처리하는 단계는,상기 포토 솔더 레지스트가 형성되지 않은 실장부 및 단자부 위에 니켈을 포함하는 니켈층을 형성하는 단계와,상기 니켈층 위에 팔라듐을 포함하는 팔라듐층을 형성하는 단계와,상기 팔라듐층 위에 금을 포함하는 금층을 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 메모리 카드용 인쇄회로기판의 제조 방법
15 15
삭제
16 16
제 14항에 있어서,상기 팔라듐층은, 0
17 17
제 14항에 있어서,상기 표면 처리에 의해 상기 실장부 및 단자부의 최 외각에 형성된 금속층은 서로 동일한 메모리 카드용 인쇄회로기판의 제조 방법
18 18
제 14항에 있어서,상기 니켈층을 형성하는 단계는,니켈을 포함하는 금속 물질을 도금하여, 5~8㎛ 범위를 만족하는 두께를 가진 순수 니켈층 또는 니켈 합금층을 형성하는 단계를 포함하는 메모리 카드용 인쇄회로기판의 제조 방법
19 19
제 14항에 있어서,상기 금층을 형성하는 단계는,순수 금, 금-은 합금, 금-구리 합금, 금-팔라듐 합금, 금-아연 합금, 금-코발트 합금 및 금-무기물 합금 중 적어도 어느 하나의 금속 물질을 도금하여, 0
20 20
제 14항에 있어서,상기 절연층의 상면에 메모리 소자를 실장하는 단계;상기 실장된 메모리 소자와 상기 실장부 위에 형성된 금층을 전기적으로 연결하는 단계; 및상기 절연층의 상면에 상기 메모리 소자 및 실장부를 덮는 몰딩 부재를 형성하는 단계가 더 포함되는 메모리 카드용 인쇄회로기판의 제조 방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.