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태양 전지 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015065229
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요약 본 발명은 태양 전지 및 그 제조 방법에 관한 것이다.본 발명에 따른 태양 전지의 일례는 제 1 도전성 타입의 불순물이 도핑된 기판; 제 1 도전성 타입과 반대인 제 2 도전성 타입의 불순물이 도핑되어 기판과 p-n 접합을 형성하는 에미터부; 에미터부 상부에 위치하는 반사 방지부; 에미터부와 전기적으로 연결되어 있는 제 1 전극부; 그리고, 기판에 전기적으로 연결되어 있는 제 2 전극부;를 포함하고, 기판은 단결정 실리콘 영역인 제 1 영역과 다결정 실리콘 영역인 제 2 영역을 포함하고, 제 1 영역에 위치하는 에미터부 표면에는 피라미드 형상의 제 1 크기를 갖는 복수의 제 1 돌출부가 형성되며, 제 2 영역에 위치하는 에미터부 표면에는 제 1 돌출부가 형성되지 않으며, 복수의 제 1 돌출부의 경사면 및 제 2 영역의 상부에 위치하는 에미터부 표면에는 제 1 크기보다 작은 제 2 크기를 갖는 복수의 제 2 돌출부가 형성된다.
Int. CL H01L 31/0236 (2014.01) H01L 31/06 (2014.01) H01L 31/18 (2014.01) H01L 31/04 (2014.01)
CPC H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01) H01L 31/02363(2013.01)
출원번호/일자 1020110086335 (2011.08.29)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-1178445-0000 (2012.08.24)
공개번호/일자
공고번호/일자 (20120831) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.08.29)
심사청구항수 18

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김진아 대한민국 서울특별시 서초구
2 남정범 대한민국 서울특별시 서초구
3 양두환 대한민국 서울특별시 서초구
4 양주홍 대한민국 서울특별시 서초구
5 정인도 대한민국 서울특별시 서초구
6 정일형 대한민국 서울특별시 서초구
7 권형진 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인로얄 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로 ***, *층(서초동,서일빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2011-0670263-44
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.06.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.07.23 수리 (Accepted) 9-1-2012-0059442-98
4 등록결정서
Decision to grant
2012.08.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2012-0472114-42
5 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
제 1 도전성 타입의 불순물이 도핑된 기판; 상기 제 1 도전성 타입과 반대인 제 2 도전성 타입의 불순물이 도핑되어 상기 기판과 p-n 접합을 형성하는 에미터부;상기 에미터부 상부에 위치하는 반사 방지부;상기 에미터부와 전기적으로 연결되어 있는 제 1 전극부; 그리고,상기 기판에 전기적으로 연결되어 있는 제 2 전극부;를 포함하고,상기 기판은 단결정 실리콘 영역인 제 1 영역과 다결정 실리콘 영역인 제 2 영역을 포함하고,상기 제 1 영역에 위치하는 에미터부 표면에는 피라미드 형상의 제 1 크기를 갖는 복수의 제 1 돌출부가 형성되며, 상기 제 2 영역에 위치하는 에미터부 표면에는 상기 제 1 돌출부가 형성되지 않으며,상기 복수의 제 1 돌출부의 경사면 및 상기 제 2 영역에 위치하는 에미터부 표면에는 상기 제 1 크기보다 작은 제 2 크기를 갖는 복수의 제 2 돌출부가 형성되는 태양 전지
2 2
제 1 항에 있어서,상기 제 1 돌출부의 높이는 상기 제 2 돌출부의 높이보다 큰 태양 전지
3 3
제 1 항에 있어서,상기 제 1 돌출부의 높이는 5㎛ 이하이고, 상기 제 2 돌출부의 높이는 1㎛ 이하인 태양 전지
4 4
제 1 항에 있어서,상기 복수의 제 1 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격은 상기 복수의 제 2 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격보다 큰 태양 전지
5 5
제 1 항에 있어서,상기 복수의 제 1 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격은 7㎛ 이하이고, 상기 복수의 제 2 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격은 1㎛ 이하인 태양 전지
6 6
제 1 항에 있어서,상기 제 1 영역의 기판 상부에 위치하는 반사 방지부의 두께는 상기 제 1 영역의 기판 상부에 위치하는 반사 방지부의 두께와 오차 범위 내에서 동일한 태양 전지
7 7
제 6 항에 있어서,상기 오차 범위는 10%인 태양 전지
8 8
제 1 항에 있어서,상기 기판의 제 1 영역 상부에서의 반사율은 입사광이 500nm 내지 1050nm 파장인 범위에서 10%이하이고, 상기 기판의 제 2 영역 상부에서의 반사율은 입사광이 500nm 내지 1050nm 파장인 범위에서 15
9 9
제 1 항에 있어서,상기 제 1 영역에 위치하는 상기 에미터부의 두께는 상기 제 2 영역에 위치하는 상기 에미터부의 두께와 동일한 태양 전지
10 10
제 1 도전성 타입의 불순물이 도핑되며, 단결정 실리콘 영역인 제 1 영역과 다결정 실리콘 영역인 제 2 영역을 포함하는 기판의 표면 손상층을 제거하는 소우 데미지 에칭(saw damage etching)을 수행하여, 상기 제 1 영역에는 제 1 크기를 갖는 피라미드 형상의 제 1 돌출부를 형성시키고, 상기 제 2 영역에는 상기 제 1 돌출부를 형성시키지 않는 단계;반응성 이온 에칭(reactive ion etching; RIE)을 수행하여, 상기 제 1 돌출부의 경사면 및 상기 제 2 영역의 표면에 상기 제 1 크기보다 작은 제 2 크기를 갖는 제 2 돌출부를 형성시키는 단계; 및상기 제 1 도전성 타입과 반대인 제 2 도전성 타입의 불순물을 상기 제 1 돌출부 및 제 2 돌출부가 형성된 상기 기판 표면 내부로 확산시켜 에미터부를 형성시키는 단계를 포함하는 태양 전지 제조 방법
11 11
제 10 항에 있어서,상기 소우 데미지 에칭은 비등방성 에칭인 태양 전지 제조 방법
12 12
제 11 항에 있어서,상기 비등방성 에칭은 알카리 용액(alkaline solution)에 의해 수행되는 태양 전지 제조 방법
13 13
제 12 항에 있어서,상기 알카리 용액은 수산화칼륨(KOH) 또는 수산화나트륨(NaOH)을 포함하는 태양 전지 제조 방법
14 14
제 10 항에 있어서,상기 에미터부 상부에 반사 방지부를 형성하는 단계를 더 포함하는 태양 전지 제조 방법
15 15
제 10 항에 있어서,상기 제 1 돌출부의 높이는 상기 제 2 돌출부의 높이보다 큰 태양 전지 제조 방법
16 16
제 10 항에 있어서,상기 제 1 돌출부의 높이는 5㎛ 이하이고, 상기 제 2 돌출부의 높이는 1㎛ 이하인 태양 전지 제조 방법
17 17
제 10 항에 있어서,상기 복수의 제 1 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격은 상기 복수의 제 2 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격보다 큰 태양 전지 제조 방법
18 18
제 10 항에 있어서,상기 복수의 제 1 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격은 7㎛ 이하이고,상기 복수의 제 2 돌출부들의 돌출 끝단 사이의 간격은 1㎛ 이하인 태양 전지 제조 방법
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