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기재층; 상기 기재층 상에 형성된 아크릴 변성 폴리에스터 수지층; 및 불소계 고분자 코팅층을 포함하고,2 기압, 121℃ 및 100% 상대습도에서 100 시간 경과 후 또는 85℃ 및 85%의 상대습도에서 3000 시간 경과 후의 신율(elongation)이 10% 이상이고, 크로스-해치 접착력이 5B인 다층 필름
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제 1 항에 있어서, 기재층은 폴리에스테르계 시트, 폴리아미드계 시트 또는 폴리이미드계 시트의 중합체 시트인 다층 필름
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제 2 항에 있어서,폴리에스테르계 시트는 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리에틸렌 나프탈레이트(PEN) 또는 폴리부틸렌 테레프탈레이트(PBT) 등의 단일 시트, 적층 시트 또는 공압출물인 다층 필름
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제 1 항에 있어서,기재층의 두께는 50 내지 500 ㎛인 다층 필름
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제 1 항에 있어서,불소계 고분자 코팅층은 불소계 수지를 포함하며, 상기 불소계 수지는 비닐리덴 플루오라이드(VDF, Vinylidene Fluoride), 비닐 플루오라이드(VF, Vinyl Fluoride), 테트라플루오로에틸렌(TFE, Tetrafluoroethylene) 헥사플루오로프로필렌(HFP, Hexafluoropropylene), 클로로트리플루오로에틸렌(CTFE, chlorotrifluoroethylene), 트리플루오로에틸렌, 헥사플루오로이소부틸렌, 퍼플루오로 부틸에틸렌, 퍼플루오로 메틸 비닐 에테르(PMVE, perfluoro(methylvinylether)), 퍼플루오로 에틸 비닐 에테르(PEVE, perfluoro(ethylvinylether)), 퍼플루오로 프로필 비닐 에테르(PPVE), 퍼플루오로 메틸 비닐 에테르(PMVE), 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔(PDD) 및 퍼플루오로-2-메틸렌-4-메틸-1,3-디옥솔란(PMD)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 단일 중합체, 둘 이상의 공중합체 또는 이들의 혼합물인 다층 필름
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제 5 항에 있어서,불소계 수지는 비닐리덴 플루오라이드와 헥사플루오로프로필렌(HFP), 클로로트리플루오로에틸렌(CTFE), 테트라플루오로에틸렌(TFE), 트리플루오로에틸렌, 헥사플루오로이소부틸렌, 퍼플루오로부틸에틸렌, 퍼플루오로메틸비닐에테르(PMVE), 퍼플루오로-2,2-디메틸-1,3-디옥솔(PDD) 및 퍼플루오로-2-메틸렌-4-메틸-1,3-디옥솔란(PMD)으로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 공단량체를 포함하는 공중합체 또는 이들의 혼합물인 다층 필름
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제 6 항에 있어서,공단량체의 함량은 불소계 수지 전체 중량 대비 1 내지 50 중량부인 다층 필름
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제 5 항에 있어서,불소계 수지의 중량평균분자량이 50,000 내지 1,000,000인 다층 필름
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제 5 항에 있어서,불소계 수지의 결정화도가 50% 미만인 다층 필름
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제 1 항에 있어서, 불소계 고분자 코팅층은 안료 및 충전제를 추가로 포함하는 다층 필름
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제 1 항에 있어서, 불소계 고분자 코팅층의 두께는 3 내지 50 ㎛인 다층 필름
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제 1 항에 있어서,아크릴 변성 폴리에스터 수지층은 폴리에스테르(PET): 글리시딜메타크릴레이트(GMA): 메틸메타크릴레이트(MMA): 메틸메타크릴산(MAA)의 수분산액인 다층 필름
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2 기압, 121℃ 및 100% 상대습도에서 100 시간 경과 후 또는 85℃ 및 85%의 상대습도에서 3000 시간 경과 후의 신율(elongation)이 10% 이상이고, 크로스-해치 접착력이 5B인 다층 필름을 제조하기 위한 방법으로서,기재층을 준비하는 단계;상기 기재층 상에 아크릴 변성 폴리에스터 수지층을 형성하는 단계; 및상기 아크릴 변성 폴리에스터 수지층 상에 불소계 고분자 코팅층을 형성하는 단계를 포함하는 다층 필름의 제조 방법
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제 14 항에 있어서,불소계 고분자 코팅층의 형성은 용매 및 불소계 수지의 혼합물을 기재층 표면에 코팅하여 이루어지는 다층 필름의 제조 방법
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제 16 항에 있어서,용매는 비점이 200℃ 이하인 다층 필름의 제조 방법
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제 16 항에 있어서,용매는 아세톤, 메틸에틸케톤, 디메틸포름아미드 및 디메틸아세트아마이드로 이루어진 그룹으로부터 선택된 하나 이상의 혼합물인 다층 필름의 제조 방법
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제 1 항에 따른 다층 필름을 포함하는 태양전지 백시트
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