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테레프탈산 유래 에스테르의 제조장치

  • 기술번호 : KST2015065585
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요약 본 발명은 테레프탈산으로부터 가소제로 사용될 수 있는 에스테르를 제조하는 장치에 관한 것으로, 제조 도중 에스테르화 반응속도를 개선시킬 수 있고, 공장 운전 현황에 따라 분쇄기와 반응기의 최적 배치가 가능하다.
Int. CL C07B 63/00 (2006.01) B01J 19/24 (2006.01) C07C 67/48 (2006.01) C07C 69/82 (2006.01)
CPC B01J 19/24(2013.01)B01J 19/24(2013.01)B01J 19/24(2013.01)B01J 19/24(2013.01)B01J 19/24(2013.01)
출원번호/일자 1020110106801 (2011.10.19)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0042742 (2013.04.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.10.18)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 엄성식 대한민국 대전광역시 유성구
2 고동현 대한민국 대전광역시 유성구
3 권오학 대한민국 대전광역시 서구
4 정다원 대한민국 서울특별시 동작구
5 이미연 대한민국 경기도 고양시 일산동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인태평양 대한민국 서울특별시 중구 청계천로 **, *층(다동, 예금보험공사빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.10.19 수리 (Accepted) 1-1-2011-0816368-19
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.10.18 수리 (Accepted) 1-1-2013-0940219-25
3 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)
2014.06.25 수리 (Accepted) 1-1-2014-0595255-00
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.09.04 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.10.14 수리 (Accepted) 9-1-2014-0080822-07
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.02.02 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0077675-37
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.04.02 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0324850-13
9 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.04.02 수리 (Accepted) 1-1-2015-0324852-04
10 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2015.08.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0585567-31
11 [법정기간연장]기간연장(단축, 경과구제)신청서
[Extension of Legal Period] Request for Extension of Period (Reduction, Expiry Reconsideration)
2015.09.25 수리 (Accepted) 7-1-2015-0044324-14
12 [명세서등 보정]보정서(재심사)
Amendment to Description, etc(Reexamination)
2015.10.08 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0976935-54
13 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.10.08 수리 (Accepted) 1-1-2015-0976949-93
14 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2015.11.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0767022-95
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
16 거절결정서
Decision to Refuse a Patent
2016.05.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0369186-73
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
에스테르 반응 원료로서 테레프탈산과 알코올을 에스테르화 반응하기 위한 반응조, 및 상기 반응조로부터 유입된 생성물을 정제하기 위한 정제조,로 이루어지되,상기 반응조에 분쇄된 에스테르 반응 원료를 공급하기 위한 분쇄기, 및 상기 반응조로부터 생성된 반응 생성수를 제거하기 위한 반응 생성수 제거 수단, 이 구비된 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
2 2
제1항에 있어서, 상기 분쇄기는 반응조 전단 혹은 반응조 하단에 구비된 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
3 3
제2항에 있어서, 상기 반응조 전단에 구비된 분쇄기는 테레프탈산을 분쇄하기 위한 건식 타입의 분쇄기인 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
4 4
제2항에 있어서, 상기 반응조 전단에 구비된 분쇄기는 에스테르 반응원료로서 사용된 테레프탈산과 알코올의 혼합물을 분쇄하기 위한 습식 타입의 분쇄기로서, 테레프탈산과 알코올의 혼합물을 제공하기 위하여 반응조 전단에 추가 배설된 용해조와 반응조 사이에 구비된 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
5 5
제4항에 있어서, 상기 반응조는 1 내지 4기가 직렬 혹은 병렬로 연결된 것을 특징으로 하는테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
6 6
제2항에 있어서, 상기 반응조 하단에 구비된 분쇄기는 에스테르 반응원료로서 사용된 테레프탈산과 알코올의 혼합물을 분쇄하기 위한 습식 타입의 분쇄기인 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
7 7
제4항 또는 제6항에 있어서, 상기 테레프탈산은 농도 20 내지 33% 범위인 것을 사용하는 것을 특징으로 하는테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
8 8
제1항에 있어서, 상기 알코올은 탄소수 4 내지 12인 알코올로부터 선택된 1종 이상을 사용하는 것을 특징으로 하는테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
9 9
제3항에 있어서,상기 건식 분쇄기는 볼 밀 또는 다이노 밀 중에서 선택된 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
10 10
제9항에 있어서,상기 건식 분쇄기에 사용되는 비드 크기가 3 내지 5 mm인 것을 특징으로 하는테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
11 11
제4항 또는 제6항에 있어서,상기 습식 분쇄기는 호모게나이저, 또는 캐비트론 중에서 선택된 것을 특징으로 하는테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
12 12
제11항에 있어서,상기 캐비트론은 원주 속도가 30 내지 40 m/sec 이내로 수행하는 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
13 13
제1항에 있어서,상기 분쇄된 에스테르 반응 원료 중 테레프탈산의 평균 입도는 100 ㎛ 이하인 것을 특징으로 하는테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
14 14
제1항에 있어서,상기 정제조는 반응조로부터 유입된 생성물을 중화, 수세 및 탈수하는 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
15 15
제1항에 있어서,상기 에스테르화 반응조 내 반응 종료 시점은, 상기 반응 생성수 제거 수단에서 반응 생성수가 발생되지 않고, 반응조 내 반응액 슬러리가 맑은 액체 상태로 전환이 완료되는 시점인 것을 특징으로 하는 테레프탈산 유래 에스테르의 제조 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.