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기재; 상기 기재상에 형성되며, TiO2, Nb2O5, Ta2O5, Sb2O5, ZrO2, ZnO 및 ZnS으로 이루어진 군으로부터 선택되는 단일 또는 복합조성물의 고굴절 입자가 분산된 우레탄계 수지의 경화물을 포함하고, 두께가 85 내지 90 nm이고, 굴절율이 1
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제 1 항에 있어서,상기 도전성층은 패턴화된 층이고, 하기 일반식 3의 조건을 만족하는 전도성 필름:[일반식 3]|R1-R2| ≤ 1%상기 일반식 3에서, R1은 전도성 필름에서 도전성층이 존재하는 영역의 반사율을 나타내고, R2는 전도성 필름에서 도전성층이 존재하지 않는 영역의 반사율을 나타낸다
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제 1 항에 있어서, 기재는 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르 술폰계 수지, 폴리카보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, (메타)아크릴레이트계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지 및 폴리페닐렌 황화물계 수지로 이루어진 군으로부터 선택된 1 종 이상인 전도성 필름
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제 1 항에 있어서,유기 실란 화합물은 하기 화학식 1로 표시되는 군으로부터 선택되는 1 종 이상인 전도성 필름:[화학식 1](R)m-Si-X(4-m)상기 화학식 1에서, X는 수소, 할로겐, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 아실옥시, 알킬카보닐, 알콕시카보닐, 또는 -N(R3)2(여기서 R3는 수소 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬)이고, R은 탄소수 1 내지 12의 알킬, 알케닐, 알키닐, 아릴, 아릴알킬, 알킬아릴, 아릴알케닐, 알케닐아릴, 아릴알키닐, 알키닐아릴, 할로겐, 치환된 아미노, 아마이드, 알데히드, 케토, 알킬카보닐, 카르복시, 머캅도, 시아노, 하이드록시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시, 탄소수 1 내지 12의 알콕시카보닐, 설폰산, 인산, 아크릴옥시, 메타크릴옥시, 에폭시 또는 비닐기이고, 산소 또는 -NR4(여기서, R4는 수소 또는 탄소수 1 내지 12의 알킬)가 라디칼 R과 Si 사이에 삽입되어 (R)m-O-Si-X(4-m) 또는 (R)m-NR4-Si-X(4-m)로 될 수 있으며, m은 1 내지 3의 정수이다
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제 1 항에 있어서, n3는 1
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제 1 항에 있어서,전도성층은 인듐 틴 옥사이드; 및 13족 원소 또는 산화수 +3의 전이 금속이 도핑된 산화 아연 중 1 종 이상을 포함하는 전도성 필름
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제 1 항에 있어서,전도성층은 두께가 10 nm 내지 90 nm인 전도성 필름
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제 1 항에 따른 전도성 필름을 포함하는 터치패널
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제 18 항에 있어서, 상기 터치 패널은 정전용량 방식인 터치패널
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