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(a) 티올계 화합물을 포함하는 자유 라디칼 중합성 조성물; 및(b) 양이온 개시 중합성 조성물;을 포함하고, 상기 (a) 티올계 화합물을 포함하는 자유 라디칼 중합성 조성물은, 분자 내 탄소-탄소 이중결합을 2개 이상 갖는 폴리엔 화합물; 및 열개시제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 티올계 화합물은 -SH 작용기를 2개 이상 갖는 폴리 티올계 화합물인 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 1항에 있어서, 상기 티올계 화합물은 비스(머캅토메틸)-1,4-디티안, 비스(머캅토에틸)설파이드, 비스(머캅토에틸)디설파이드, 1,2-비스(머캅토에틸)티오-3-머캅토프로판, 펜타에리스리톨 테트라키스머캅토아세테이트, 펜타에리스리톨 테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판 트리스머캅토아세테이트, 트리메틸올프로판 트리스머캅토프로피오네이트 및 트리머캅토프로판, 트리스[(3-머캅토프로피오닐옥시)-에틸]이소시아누레이트 중에서 선택되는 적어도 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 폴리엔 화합물은 알릴 알코올 유도체로서, 트리알릴이소시아누레이트, 디알릴아디페이트, 디알릴프탈레이트, 글리세린디알릴에테르, 트리메티롤프로판디알릴에테르, 펜타에리스리톨, 디알릴에테르 중에서 선택되는 적어도 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 열개시제는 아조계, 퍼옥사이드계, 퍼설페이트계 및 산화환원계 화합물로부터 선택되는 적어도 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 1항에 있어서,상기 (a) 티올계 화합물을 포함하는 자유 라디칼 중합성 조성물 100중량부에 대하여, 상기 티올계 화합물은 10~90중량부, 상기 폴리엔 화합물은 10~90중량부, 상기 열개시제는 상기 티올계 화합물 및 폴리엔 화합물의 혼합물 100중량부에 대하여 0
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제 1항에 있어서,상기 (b) 양이온 개시 중합성 조성물은 에폭시계 화합물 및 양이온 중합 개시제를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 8항에 있어서,상기 에폭시계 화합물은 연화점이 90℃ 미만인 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 8항에 있어서,상기 양이온 중합 개시제는 금속 할라이드 음이온을 함유하고 있는 방향족 이오도늄염 또는 설포늄염인 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 10항에 있어서,상기 금속 할라이드 음이온은 BF4-, PF6-, AsF6-, SbF6- 중 선택된 1종 이상인 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름 형성용 조성물
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제 8항에 있어서,상기 (b) 양이온 개시 중합성 조성물에서 양이온 중합 개시제는 에폭시계 화합물 100중량부 대비 0
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제 1항에 있어서,상기 (a) 티올계 화합물을 포함하는 자유 라디칼 중합성 조성물 및(b) 양이온 개시 중합성 조성물이 중량비로 1: 0
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(ⅰ) 티올계 화합물을 포함하는 자유 라디칼 중합성 조성물 및 양이온 개시 중합성 조성물을 혼합하여 혼합물을 형성하는 단계;(ⅱ) 상기 혼합물을 50~200℃로 가열하여 티올계 화합물을 포함하는 자유 라디칼 중합성 조성물만 열경화함으로써 반경화 조성물을 얻는 단계; 및(ⅲ) 상기 반경화 조성물을 방사선 조사하여 양이온 개시 중합성 조성물을 경화하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자종이용 접착 필름의 제조방법
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제 1항, 제 3항 내지 제 13항 중 어느 한 항의 조성물을 포함하는 접착층이 형성된 전자종이용 접착 필름
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