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플라즈마 처리 장치

  • 기술번호 : KST2015065636
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요약 본 발명은 플라즈마 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 처리 장치는 기판주입구를 포함하는 챔버, 상기 챔버 내부에 위치하는 제1 전극 및 상기 제1 전극과 이격되어 대향하는 제2 전극, 상기 기판주입구에 대응하고 챔버 외부에 형성된 게이트 밸브 및 상기 기판주입구 내부에 삽입되는 삽입구조물을 포함할 수 있다. 이에 의해, 챔버 내부 공간의 비대칭성을 방지하고, 챔버 내부에 전기장을 대칭적으로 형성하여 플라즈마를 이용한 증착 또는 식각 공정의 품질을 향상시킬 수 있다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01) H01L 21/3065 (2006.01)
CPC H01J 37/185(2013.01) H01J 37/185(2013.01) H01J 37/185(2013.01)
출원번호/일자 1020110100813 (2011.10.04)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0036619 (2013.04.12) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2016.10.04)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이정훈 대한민국 서울특별시 서초구
2 장우석 대한민국 서울특별시 서초구
3 임유봉 대한민국 서울특별시 서초구
4 전창엽 대한민국 서울특별시 서초구
5 이기세 대한민국 서울특별시 서초구
6 황두섭 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박병창 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 *, 동주빌딩 *층 팍스국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2011-0773749-69
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
3 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2016.10.04 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2016-0958211-30
4 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2016.10.04 수리 (Accepted) 1-1-2016-0958210-95
5 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2017.10.13 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
6 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2017.11.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-6-2017-0167335-11
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2017.11.16 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2017-0800455-39
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.01.12 수리 (Accepted) 1-1-2018-0041741-33
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.01.12 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0041742-89
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.01.15 수리 (Accepted) 1-1-2018-0045132-31
11 등록결정서
Decision to grant
2018.05.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0368582-41
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판주입구를 포함하는 챔버;상기 챔버 내부에 위치하는 제1 전극 및 상기 제1 전극과 이격되어 대향하는 제2 전극;상기 기판주입구에 대응하고 챔버 외부에 형성된 게이트 밸브; 및상기 기판주입구 내부에 삽입되는 삽입구조물을 포함하며,상기 기판주입구 내부를 이루는 상기 챔버의 서로 대향하는 제1 및 제2 측벽에는 제1 및 제2 오목부가 형성되고, 상기 삽입구조물의 서로 대향하는 일측면 및 타측면에는 제1 및 제2 돌출부가 형성되어, 상기 제1 및 제2 오목부에 상기 제1 및 제2 돌출부가 끼워지게 배치되어, 상기 삽입구조물은 상기 기판 주입구를 개폐시키며,상기 기판주입구 내부를 이루는 상기 챔버의 일면에 제3 오목부가 형성되고, 상기 제3 오목부에는 탄성부재에 의해 상기 챔버에 연결되는 고정부재가 유동 가능하게 배치되어, 상기 삽입구조물의 삽입 시 상기 삽입구조물을 고정시키며,상기 삽입구조물은 상기 챔버의 벽과 동일한 물질을 포함하는 플라즈마 처리 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 삽입구조물은 상기 챔버의 벽과 전기적으로 연결되는 플라즈마 처리 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 삽입구조물과 상기 챔버의 벽은 접지된 플라즈마 처리 장치
4 4
제1항에 있어서,상기 챔버는 제4 오목부를 포함하고, 상기 제4 오목부 내부에 접지부재가 위치하며, 상기 삽입구조물은 상기 접지부재를 통해 상기 챔버와 전기적으로 연결되는 플라즈마 처리 장치
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삭제
6 6
삭제
7 7
제1항에 있어서,상기 삽입구조물을 구동시키는 구동부 및 제어부를 추가로 구비하여,상기 삽입구조물이 상기 제1 및 제2 돌출부를 기준으로 회전 이동시켜, 상기 기판 주입구를 개폐시키는 플라즈마 처리 장치
8 8
제1항에 있어서,상기 챔버 내에 형성되는 전기장의 분포는 상기 제1 전극의 중심부를 중심으로 대칭성을 가지는 플라즈마 처리 장치
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10 10
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11 11
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12 12
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지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.