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샤프트, 상기 샤프트의 외주면을 감싸는 고무층 및 상기 고무층의 외면에 형성된 코팅액 흡수 방지층을 구비하는 고무롤; 및상기 고무롤과 대향하도록 배치되어 있는 금속롤;을 구비하는 롤투롤 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 코팅액 흡수 방지층은 아크릴수지, 실리콘수지 및 에폭시수지 중에서 선택되는 1종의 화합물 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하는 코팅층인 것을 특징으로 하는 롤투롤 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 코팅액 흡수 방지층은 코로나 방전처리, 자외선 처리 또는 플라즈마 처리에 의해서 상기 고무층의 표면이 개질된 것을 특징으로 하는 롤투롤 코팅장치
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제1항에 있어서,상기 코팅액은 아세톤 (acetone), 테트라하이드로퓨란 (tetrahydrofuran), 메틸렌클로라이드 (methylene chloride), 클로로포름 (chloroform), 디메틸포름아미드 (dimethylformamide), N-메틸-2-피롤리돈 (N-methyl-2-pyrrolidone, NMP), 시클로헥산 (cyclohexane) 및 물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 용매 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 롤투롤 코팅장치
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다공성 기재를 준비하는 단계;샤프트, 상기 샤프트의 외주면을 감싸는 고무층 및 상기 고무층의 외면에 형성된 코팅액 흡수 방지층을 구비하는 고무롤 및 상기 고무롤과 대향하도록 배치되어 있는 금속롤을 구비하는 롤투롤 코팅장치에 상기 다공성 기재를 공급하는 단계; 및무기물입자와 바인더 고분자의 혼합물이 용매에 분산된 코팅액을 상기 금속롤과 상기 고무롤을 통하여 상기 공급된 다공성 기재의 양면에 도포하는 단계를 포함하는 세퍼레이터의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 코팅액 흡수 방지층은 아크릴수지, 실리콘수지 및 에폭시수지 중에서 선택된 1종의 화합물 또는 2종 이상의 혼합물을 포함하는 코팅층인 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 코팅액 흡수 방지층은 코로나 방전처리, 자외선 처리 또는 플라즈마 처리에 의해서 상기 고무층의 표면이 개질된 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 다공성 기재는 평균 굵기가 0
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제5항에 있어서,상기 다공성 기재는 폴리에스테르, 폴리아세탈, 폴리아미드, 폴리카보네이트, 폴리이미드, 폴리에테르에테르케톤, 폴리에테르설폰, 폴리페닐렌옥사이드, 폴리페닐렌설파이드로 및 폴리에틸렌나프탈렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 고분자 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물로 형성된 부직포인 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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제5항에 있어서, 상기 무기물 입자는 유전율 상수가 5 이상인 무기물 입자, 리튬 이온 전달 능력을 갖는 무기물 입자 및 이들의 혼합물로 이루어진 군으로부터 선택된 무기물 입자를 포함하는 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 유전율 상수가 5 이상인 무기물 입자는 BaTiO3, Pb(Zrx,Ti1-x)O3 (PZT, 0003c#x003c#1), Pb1-xLaxZr1-yTiyO3(PLZT), (1-x)Pb(Mg1/3Nb2/3)O3-xPbTiO3(PMN-PT, 0003c#x003c#1), 하프니아(HfO2), SrTiO3, SnO2, CeO2, MgO, NiO, CaO, ZnO, ZrO2, SiO2, Y2O3, Al2O3, SiC 및 TiO2로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 무기물 입자 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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제10항에 있어서, 상기 리튬 이온 전달 능력을 갖는 무기물 입자는 리튬포스페이트(Li3PO4), 리튬티타늄포스페이트(LixTiy(PO4)3, 0 003c# x 003c# 2, 0 003c# y 003c# 3), 리튬알루미늄티타늄포스페이트(LixAlyTiz(PO4)3, 0 003c# x 003c# 2, 0 003c# y 003c# 1, 0 003c# z 003c# 3), (LiAlTiP)xOy 계열 glass(0 003c# x 003c# 4, 0 003c# y 003c# 13), 리튬란탄티타네이트(LixLayTiO3, 0 003c# x 003c# 2, 0 003c# y 003c# 3), 리튬게르마니움티오포스페이트(LixGeyPzSw, 0 003c# x 003c# 4, 0 003c# y 003c# 1, 0 003c# z 003c# 1, 0 003c# w 003c# 5), 리튬나이트라이드(LixNy, 0 003c# x 003c# 4, 0 003c# y 003c# 2), SiS2 (LixSiySz, 0 003c# x 003c# 3, 0 003c# y 003c# 2, 0 003c# z 003c# 4) 계열 glass 및 P2S5 (LixPySz, 0 003c# x 003c# 3, 0 003c# y 003c# 3, 0 003c# z 003c# 7) 계열 glass로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 무기물 입자 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 바인더 고분자는 플루오라이드-헥사플루오로프로필렌 (polyvinylidene fluoride-co-hexafluoropropylene), 폴리비닐리덴 플루오라이드-트리클로로에틸렌 (polyvinylidene fluoride-co-trichloroethylene), 폴리메틸메타크릴레이트 (polymethylmethacrylate), 폴리부틸아크릴레이트 (polybutylacrylate), 폴리아크릴로니트릴 (polyacrylonitrile), 폴리비닐피롤리돈 (polyvinylpyrrolidone), 폴리비닐아세테이트 (polyvinylacetate), 에틸렌 비닐 아세테이트 공중합체 (polyethylene-co-vinyl acetate), 폴리에틸렌옥사이드 (polyethylene oxide), 폴리아릴레이트(polyarylate), 셀룰로오스 아세테이트 (cellulose acetate), 셀룰로오스 아세테이트 부틸레이트 (cellulose acetate butyrate), 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 (cellulose acetate propionate), 시아노에틸플루란 (cyanoethylpullulan), 시아노에틸폴리비닐알콜 (cyanoethylpolyvinylalcohol), 시아노에틸셀룰로오스 (cyanoethylcellulose), 시아노에틸수크로오스 (cyanoethylsucrose), 플루란 (pullulan) 및 카르복실 메틸 셀룰로오스 (carboxyl methyl cellulose)로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 바인더 고분자 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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제5항에 있어서,상기 용매는 아세톤 (acetone), 테트라하이드로퓨란 (tetrahydrofuran), 메틸렌클로라이드 (methylene chloride), 클로로포름 (chloroform), 디메틸포름아미드 (dimethylformamide), N-메틸-2-피롤리돈 (N-methyl-2-pyrrolidone, NMP), 시클로헥산 (cyclohexane) 및 물로 이루어진 군으로부터 선택된 어느 하나의 용매 또는 이들 중 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 세퍼레이터의 제조방법
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양극, 음극, 상기 양극과 음극 사이에 개재된 세퍼레이터 및 전해액을 포함하는 전기화학소자에 있어서,상기 세퍼레이터가 제5항 내지 제14항 중 어느 한 항의 제조방법으로 제조된 세퍼레이터인 것을 특징으로 하는 전기화학소자
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제15항에 있어서, 상기 전기화학소자는 리튬 이차전지인 것을 특징으로 하는 전기화학소자
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