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자유라디칼 화합물 및 열개시제를 포함하는 점착 수지 조성물과, 에폭시 수지 및 양이온 중합 개시제를 포함하는 양이온 중합 개시 조성물이 혼합되며, 상기 양이온 중합 개시제는 BF4-, PF6-, AsF6-, SbF6- 중 선택된 음이온을 함유하는 아이오도늄염 또는 설포늄염인 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 자유라디칼 화합물은 구조 내에 이중결합을 1개 이상 갖는 아크릴레이트계 화합물인 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 자유라디칼 화합물은 아크릴레이트계 단량체 및 상기 아크릴레이트계 단량체와 공중합이 가능한 극성 단량체를 포함하여 부분 중합되는 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 3 항에 있어서,상기 아크릴레이트계 단량체는 부틸아크릴레이트, 헥실아크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트 및 이소노닐아크릴레이트 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 3 항에 있어서,상기 극성 단량체는 (메타)아크릴산, 말레인산, 푸마르산, 아크릴 아마이드, N-비닐 피롤리돈, N-비닐 카프로락탐체, 하이드록시 에틸아크릴레이트, 하이드록시 프로필 아크릴레이트, 하이드록시 부틸아크릴레이트, 하이드록시 헥실아크릴레이트 및 하이드록시 아크릴아마이드 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상의 화합물인 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 1 항에 있어서, 상기 열개시제는 2,2'-아조비스이소부티로니트릴(AIBN), 2,2'-아조비스-(2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스-(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2-시아노-2-프로필아조포름아미드, 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카로니트릴), 2,2'-아조비스(2-메틸부티로니트릴), 1,1'-아조비스(시클로헥산-1-카보니트릴), 2,2'-아조비스(4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴), 2,2'-아조비스[2-메틸-N-(2-히드록시에틸)프로피온아미드], 2,2'-아조비스[N-(2-프로페닐)-2-메틸프로피온아미드], 2,2'-아조비스(N-부틸-2-메틸프로피온아미드), 2,2'-아조비스(N-시클로헥실-2-메틸프로피온아미드), 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, t-부틸퍼옥시피발레이트 및 1,1'-비스-(비스-t-부틸퍼옥시)시클로헥산으로 이루어진 군으로부터 1종 또는 2종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 6 항에 있어서, 상기 열개시제는 자유라디칼 화합물 100 중량부에 대하여 0
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제 1 항에 있어서, 상기 에폭시 수지는 지환족 에폭시(Cycloaliphatic epoxy) 수지인 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 에폭시 수지는 자유라디칼 화합물 100 중량부에 대하여 50 ~ 200 중량부가 포함되는 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 양이온 중합 개시제는 헥사플루오로안티모네이트염, 트리아닐설포늄 헥사플루오로안티모네이트, (톨리큐밀) 아이오도늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트, 비스(도데실페닐)아이오도늄 헥사플루오로안티모네이트, (아이오도늄,(4,-메틸페닐)(4-(2-메틸프로필)페닐), 힉세플루오로포스페이트), 옥틸 디페닐아이오도늄 헥시플루오로안티모네이트, 아이오도늄염, 벤질설포늄염, 페나실설포늄염, N-벤질피리디늄염, N-벤질피라지늄염, N-벤질암모늄염, 포스포늄염, 하이드라지늄염 및 암모늄 보레이트염 중에서 선택된 1종 또는 2종 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 점접착 조성물
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제 1 항에 있어서,상기 양이온 중합 개시제는 에폭시 수지 100 중량부에 대하여 0
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제 1 항에 있어서, 자유라디칼 화합물을 포함하는 점착 수지 조성물과 양이온 중합 개시 조성물이 중량비로 1 : 0
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자유라디칼 화합물과 열개시제를 혼합하여 점착 수지 조성물을 제조하는 단계;상기 점착 수지 조성물에 에폭시 수지 및 양이온 중합 개시제를 넣고 혼합하여 혼합 조성물을 얻는 단계; 및상기 혼합 조성물을 100 ~ 200 ℃로 가열하여 경화하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 재 작업이 용이한 점접착 필름의 제조방법
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