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CVD 장치

  • 기술번호 : KST2015066623
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 발명의 실시예에 따른 CVD 장치는 기판을 처리하기 위한 공간을 제공하는 챔버; 상기 챔버의 내부에 형성되는 기판; 및, 상기 기판의 하부에 형성되며, 상기 기판의 하면을 향해 공정 가스를 공급하는 가스 공급부;를 포함한다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/45589(2013.01) C23C 16/45589(2013.01)
출원번호/일자 1020110141774 (2011.12.23)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1405625-0000 (2014.06.02)
공개번호/일자 10-2013-0073759 (2013.07.03) 문서열기
공고번호/일자 (20140610) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.23)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 성명석 대한민국 서울특별시 중구
2 장대진 대한민국 서울특별시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 중구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-1030181-99
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2012.11.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2012.12.20 수리 (Accepted) 9-1-2012-0094385-48
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0178446-11
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.05.16 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0431992-95
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2013-0431991-49
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0627754-78
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.10.25 수리 (Accepted) 1-1-2013-0968798-83
9 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.10.25 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0968799-28
10 등록결정서
Decision to grant
2014.03.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0178984-97
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기판을 처리하기 위한 공간을 제공하는 챔버;상기 챔버의 내부에 배치되는 기판;상기 기판의 하부에 배치되며, 상기 기판의 하면을 향해 금속 가스를 공급하는 샤워 헤드;상기 기판의 하면에 형성되며 상기 기판을 좌우로 이동시키는 이동 부재;상기 챔버의 내부에 위치하고 자성을 가지는 마그넷부; 및상기 기판을 지지하고 가열하기 위하여 상기 챔버 내에 배치되는 히터를 포함하고,상기 샤워 헤드는 상기 기판의 하면을 향해 개구되는 분사구를 포함하며,상기 분사구는 상기 기판의 상면을 향해 폭이 좁아지도록 형성되고,상기 마그넷부는 상기 기판의 증착이 이루어지는 면과 반대되는 면에 위치하는 CVD 장치
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제1항에 있어서,상기 마그넷부는 자석을 포함하는 CVD 장치
10 10
제1항에 있어서,상기 샤워 헤드를 이동시키는 이동 부재를 더 포함하는 CVD 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.