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CVD 장치

  • 기술번호 : KST2015066639
  • 담당센터 :
  • 전화번호 :
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요약 발명의 실시예에 따른 CVD 장치는 기판을 처리하기 위한 공간을 제공하며 하부 패널을 갖는 공정 챔버; 상기 공정 챔버에 결합되어 상기 기판 상으로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부; 상기 기판을 지지하고 가열하기 위하여 상기 공정 챔버 내에 배치되며 평판 형태를 갖는 히터; 상기 히터의 중앙 부위를 지지하는 서포트 부재; 및, 상기 히터의 가장자리 부위들에 결합되어 상기 히터의 가장자리 부위들을 수직 방향으로 지지하며 상기 하부 패널 상에서 수직 방향으로 운동하는 다수의 운동봉을 포함한다.
Int. CL H01L 21/205 (2006.01)
CPC C23C 16/45589(2013.01) C23C 16/45589(2013.01)
출원번호/일자 1020110141775 (2011.12.23)
출원인 엘지이노텍 주식회사
등록번호/일자 10-1338746-0000 (2013.12.02)
공개번호/일자 10-2013-0073760 (2013.07.03) 문서열기
공고번호/일자 (20131206) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2011.12.23)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 대한민국 서울특별시 강서구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 성명석 대한민국 서울특별시 중구
2 박찬영 대한민국 서울특별시 중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지이노텍 주식회사 서울특별시 중구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2011.12.23 수리 (Accepted) 1-1-2011-1030182-34
2 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2013.03.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0178448-02
3 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2013.05.13 수리 (Accepted) 1-1-2013-0419639-11
4 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2013.05.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2013-0419642-48
5 등록결정서
Decision to grant
2013.09.05 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2013-0627832-31
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.10.27 수리 (Accepted) 4-1-2014-0093826-77
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2017.03.08 수리 (Accepted) 4-1-2017-5035901-08
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.07.18 수리 (Accepted) 4-1-2018-5136723-03
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.01.15 수리 (Accepted) 4-1-2020-5011221-01
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판을 처리하기 위한 공간을 제공하며 하부 패널을 갖는 공정 챔버;상기 공정 챔버에 결합되어 상기 기판 상으로 공정 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 기판을 지지하고 가열하기 위하여 상기 공정 챔버 내에 배치되며 평판 형태를 갖는 히터;상기 히터의 중앙 부위를 지지하는 서포트 부재; 및,상기 히터의 가장자리 부위들에 결합되어 상기 히터의 가장자리 부위들을 수직 방향으로 지지하며 상기 하부 패널 상에서 수직 방향으로 운동하는 운동봉들을 포함하고,상기 운동봉들은 상기 히터의 가장자리 부위의 4곳에 각각 형성되며, 제1 운동봉이 수직방향으로 상승하는 경우, 이와 대각선으로 마주보는 운동봉은 수직방향으로 하강하는 CVD 장치
2 2
제1항에 있어서,상기 운동봉은 상기 히터의 가장자리 부위에 결합되는 CVD 장치
3 3
제1항에 있어서,상기 가스 공급부와 접하는 상부 패널;상기 상부 패널과 접하는 이동 부재; 및,상기 이동 부재를 통해 상기 상부 패널과 연결되는 샤워 헤드;를 더 포함하는 CVD 장치
4 4
제3항에 있어서,상기 이동 부재는 상기 상부 패널을 따라 'ㄹ'자 형상으로 이동하는 CVD 장치
5 5
삭제
6 6
제1항에 있어서,상기 제1 운동봉과 접하는 운동봉은 일정한 높이로 유지되거나, 상호 동일한 폭으로 상승 또는 하강하는 CVD 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.