| 1 |
1
기판; 및제1 스캔동작시 상기 기판의 제1 노광영역을 노광하고, 제2 스캔동작시 상기 기판의 제2 노광영역을 노광함에 있어서, 상기 제1 노광영역과 상기 제2 노광영역 사이에 일정부분 중첩 노광영역이 발생하도록 노광하는 노광부;를 포함하고,상기 노광부는, 노광패턴을 빔 스팟 어레이(beam spot array) 형태로 상기 기판에 전사함에 있어서, 상기 제1 스캔동작시 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟(beam spot)의 수는 상기 제2 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하며, 상기 제2 스캔동작시 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟의 수는 상기 제1 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서,상기 제1 스캔동작시 상기 제2 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하는 빔 스팟(beam spot)의 감소패턴과, 상기 제2 스캔동작시 상기 제1 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하는 빔 스팟(beam spot)의 감소패턴은 랜덤하게 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
|
| 3 |
3
제2항에 있어서,상기 제1 스캔동작시 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟과, 상기 제2 스캔동작시 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟은 서로 대칭되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 노광부는,노광 빔을 출사하는 광원;상기 노광패턴에 따라 상기 노광 빔을 변조하는 광 변조부; 및상기 광 변조부에서 변조된 노광 빔을 상기 빔 스팟 어레이(beam spot array) 형태로 상기 기판에 전달하는 노광 광학부;를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
|
| 5 |
5
제4항에 있어서,상기 광 변조부는 공간 광 변조소자를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 공간 광 변조소자는 디지털 마이크로 미러 소자(Digital Micro-mirror Device, DMD)를 포함하는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광장치
|
| 7 |
7
노광패턴을 빔 스팟 어레이(beam spot array) 형태로 기판에 전사하며, 제1 노광영역과 제2 노광영역 사이에 일정부분 중첩 노광영역이 발생하도록 노광하는 마스크리스 노광방법에 있어서,제1 스캔동작시 상기 기판의 제1 노광영역을 노광함에 있어서, 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟(beam spot)의 수가 상기 제2 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하도록 노광하는 단계; 및제2 스캔동작시 상기 기판의 제2 노광영역을 노광함에 있어서, 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟의 수가 상기 제1 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하도록 노광하는 단계;를 포함하는 마스크리스 노광방법
|
| 8 |
8
제7항에 있어서,상기 제1 스캔동작시 상기 제2 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하는 빔 스팟(beam spot)의 감소패턴과, 상기 제2 스캔동작시 상기 제1 노광영역 방향에 인접할수록 점차적으로 감소하는 빔 스팟(beam spot)의 감소패턴은 랜덤하게 형성되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
|
| 9 |
9
제8항에 있어서,상기 제1 스캔동작시 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟과, 상기 제2 스캔동작시 상기 중첩 노광영역에 노광되는 빔 스팟은 서로 대칭되는 것을 특징으로 하는 마스크리스 노광방법
|
