| 1 |
1
챔버;상기 챔버의 내부에 위치하고, 기판을 지지하는 서셉터;상기 기판 상에 위치하고, 반응 가스를 공급하는 샤워헤드;상기 샤워헤드 하부에 위치하고, 반응 가스를 공급하는 보조공급부를 포함하고,상기 보조공급부는 제1 플레이트 및 상기 제1 플레이트와 이격되어 위치하는 제2 플레이트를 포함하고,상기 제1 플레이트는 상기 반응 가스를 분사하고, 제1 방향으로 형성되는 복수의 제1 분사홈을 포함하고, 상기 제2 플레이트는 상기 반응 가스를 분사하고 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 형성되는 복수의 제2 분사홈을 포함하는 증착 장치
|
| 2 |
2
제1항에 있어서, 상기 보조공급부는 상기 기판 및 상기 샤워헤드 사이에 위치하는 증착 장치
|
| 3 |
3
삭제
|
| 4 |
4
제1항에 있어서,상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트 사이에는 상기 제1 플레이트 및 상기 제2 플레이트를 이격시키는 이격부가 위치하는 증착 장치
|
| 5 |
5
제1항에 있어서,상기 제1 플레이트는 상기 반응 가스를 분사하는 복수의 제1 분사구를 포함하고, 상기 제2 플레이트는 상기 반응 가스를 분사하는 복수의 제2 분사구를 포함하는 증착 장치
|
| 6 |
6
제5항에 있어서,상기 제1 분사구 및 상기 제2 분사구의 크기는 서로 다른 증착 장치
|
| 7 |
7
제5항에 있어서,상기 제1 플레이트는 상기 제2 플레이트보다 상기 샤워헤드에 더 가깝게 위치하고, 상기 제2 분사구는 상기 제1 분사구보다 작게 구비되는 증착 장치
|
| 8 |
8
제5항에 있어서,상기 제2 플레이트의 하부에 위치하는 제3 플레이트를 더 포함하고, 상기 제3 플레이트는 제3 분사구를 포함하며, 상기 제3 분사구는 상기 제2 분사구보다 작게 구비되는 증착 장치
|
| 9 |
9
삭제
|
| 10 |
10
제1항에 있어서,상기 제1 분사홈 및 상기 제2 분사홈은 스트라이프 형상을 가지는 증착 장치
|
| 11 |
11
제10항에 있어서,상기 제1 분사홈은 상기 제1 방향을 따라 연속적인 형태를 가지고,상기 제2 분사홈은 상기 제2 방향을 따라 연속적인 형태를 가지는 증착 장치
|
| 12 |
12
제1항에 있어서,상기 제1 분사홈은 상기 제1 플레이트의 외곽에서 중앙으로 갈수록 폭이 줄어드는 증착 장치
|
| 13 |
13
제1항에 있어서,상기 제2 분사홈은 상기 제2 플레이트의 외곽에서 중앙으로 갈수록 폭이 줄어드는 증착 장치
|
